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355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT-IR谱研究
1
作者
宋海英
刘世炳
《光散射学报》
2007年第4期363-368,共6页
SU-8光胶因具有良好的光刻性能,并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用。众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm激光对SU-8胶进行曝光,分别采用XPS谱和FT-IR谱分析了SU-8胶与激光相互作用过程中,...
SU-8光胶因具有良好的光刻性能,并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用。众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm激光对SU-8胶进行曝光,分别采用XPS谱和FT-IR谱分析了SU-8胶与激光相互作用过程中,355nm激光对SU-8胶的作用以及反应前后主要成分含量、分子结构的变化,初步探讨了SU-8胶中激光曝光能量与透入深度的关系。
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关键词
MEMS
SU-8光胶
XPS
谱
kf—ir谱
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职称材料
题名
355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT-IR谱研究
1
作者
宋海英
刘世炳
机构
北京工业大学激光工程研究院微技术实验室
出处
《光散射学报》
2007年第4期363-368,共6页
文摘
SU-8光胶因具有良好的光刻性能,并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用。众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm激光对SU-8胶进行曝光,分别采用XPS谱和FT-IR谱分析了SU-8胶与激光相互作用过程中,355nm激光对SU-8胶的作用以及反应前后主要成分含量、分子结构的变化,初步探讨了SU-8胶中激光曝光能量与透入深度的关系。
关键词
MEMS
SU-8光胶
XPS
谱
kf—ir谱
Keywords
MEMS
SU - 8 photoresist
XPS spectrum
FT-
ir
spectrum
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
355nm激光曝光SU-8胶的XPS谱和FT-IR谱研究
宋海英
刘世炳
《光散射学报》
2007
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