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化学腐蚀法研究蓝宝石单晶中的位错缺陷
被引量:
11
1
作者
吕海涛
张维连
+1 位作者
左燕
步云英
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期48-51,共4页
采用化学腐蚀-金相显微镜法和SEM法观察了CZ法生长的直径50mm的蓝宝石单晶中的位错缺陷.发现位错分布状况为中心较低、边缘较高,密度大约为104~10 5cm-2.在不同温度不同的试剂以及不同的腐蚀时间进行对比结果发现,用KOH腐蚀剂在290℃...
采用化学腐蚀-金相显微镜法和SEM法观察了CZ法生长的直径50mm的蓝宝石单晶中的位错缺陷.发现位错分布状况为中心较低、边缘较高,密度大约为104~10 5cm-2.在不同温度不同的试剂以及不同的腐蚀时间进行对比结果发现,用KOH腐蚀剂在290℃下腐蚀15min时,显示的位错最为清晰、准确,效果最佳.
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关键词
化学
腐蚀
蓝宝石单晶
位错缺陷
koh腐蚀剂
金相显微镜
下载PDF
职称材料
题名
化学腐蚀法研究蓝宝石单晶中的位错缺陷
被引量:
11
1
作者
吕海涛
张维连
左燕
步云英
机构
河北工业大学
天津半导体技术研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期48-51,共4页
文摘
采用化学腐蚀-金相显微镜法和SEM法观察了CZ法生长的直径50mm的蓝宝石单晶中的位错缺陷.发现位错分布状况为中心较低、边缘较高,密度大约为104~10 5cm-2.在不同温度不同的试剂以及不同的腐蚀时间进行对比结果发现,用KOH腐蚀剂在290℃下腐蚀15min时,显示的位错最为清晰、准确,效果最佳.
关键词
化学
腐蚀
蓝宝石单晶
位错缺陷
koh腐蚀剂
金相显微镜
Keywords
sapphire crystal
dislocation
chemical etch
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
O772 [理学—晶体学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
化学腐蚀法研究蓝宝石单晶中的位错缺陷
吕海涛
张维连
左燕
步云英
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004
11
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