ZnS头罩增透保护膜系制备

利用计算机对不同运动轨迹下 Zn S头罩外表面膜厚分布进行了模拟 ,优化出头罩的最佳运动轨迹 ,在该轨轨迹下采用射频磁控反应溅射 (RRFS)法进行头罩镀膜 ,能够得到满足使用要求的薄膜厚度均匀性 .实验结果表明 ,头罩外表面薄膜厚度不均匀性小于 10 % ,双面镀膜后 ,8～ 11.5 μm波段平均透过率从 6 9.6 %提高到 87.2 %以上 ,透过率的不均匀性小于 1.2 % ,满足了红外应用中对 Zn S头罩的要求 .

磁控溅射头罩镀膜膜厚分布模拟

尽管有很多模型对平面磁控溅射膜厚分布进行了模拟，但对大面积曲面如半球形的头罩膜厚分布的模拟则没有涉及。本文根据磁控溅射球冠形基片上膜厚分布规律出发，分析了几个可能实现头罩均匀镀膜的模型，并对不同的模型进行了计算机模拟，找出了实现头罩均匀镀膜的最佳方式，并得到了实验验证。