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γ-Al_2O_3表面结构的红外光谱研究 被引量:6
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作者 赵国利 王少军 +3 位作者 凌凤香 吴洪新 崔晓莉 张玉涵 《当代化工》 CAS 2012年第7期661-663,667,共4页
采用原位红外光谱技术对不同温度(100~500℃)脱水γ-Al2O3的表面羟基进行了研究,同时应用吡啶吸附原位红外光谱法对γ-Al2O3表面上路易斯酸(L酸)进行了研究。实验结果表明,在升高脱水温度的过程中,在γ-Al2O3表面共出现五个羟基谱带... 采用原位红外光谱技术对不同温度(100~500℃)脱水γ-Al2O3的表面羟基进行了研究,同时应用吡啶吸附原位红外光谱法对γ-Al2O3表面上路易斯酸(L酸)进行了研究。实验结果表明,在升高脱水温度的过程中,在γ-Al2O3表面共出现五个羟基谱带,分别为3 785,3 762,3 725,3 697,3 674 cm-1。在γ-Al2O3表面上存在三种L酸性位,分别对应于五配位(酸性最弱)、四配位(酸性中等)和三配位的Al3+(酸性最强)。这三种Al3+的数量随脱水温度升高而增大,而且γ-Al2O3表面上的L酸性位均有羟基与其相连。 展开更多
关键词 红外光谱 Γ-Al2O3 羟基 l酸性位
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