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激光诱导化学气相沉积制膜技术
被引量:
11
1
作者
葛柏青
王豫
《安徽工业大学学报(自然科学版)》
CAS
2004年第1期7-10,22,共5页
综述了LCVD制备薄膜的原理和特性,国内外对LCVD的研究应用情况及目前最新的研究方向。阐明了LCVD技术在制备薄膜过程中的生长低温化及高精度膜厚的可控制性能等特点。分析了激光功率、反应室气压及基材预处理等参数对薄膜质量的影响。
关键词
激光诱导化学气相沉积
薄膜性能
工艺参数
lcvd技术
表面改性
薄膜制备
下载PDF
职称材料
LCVD制备多晶硅膜实验研究
2
作者
李艳秋
秦汝虎
+2 位作者
李兆霖
张泽勃
赵玉英
《哈尔滨工业大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第2期9-18,共10页
用CWCO_2激光诱发SiH_4反应,在石英基片上淀积多晶硅膜,它的Raman谱表明,激光诱发反应时间越长,结晶度越高.SEM 结果表明,不同淀积时间,表面结构差异较大.薄厚台阶仪测出不同实验条件淀积速率变化的规律.同时,结合不同条件下控制过程的...
用CWCO_2激光诱发SiH_4反应,在石英基片上淀积多晶硅膜,它的Raman谱表明,激光诱发反应时间越长,结晶度越高.SEM 结果表明,不同淀积时间,表面结构差异较大.薄厚台阶仪测出不同实验条件淀积速率变化的规律.同时,结合不同条件下控制过程的反应机制,对结果进行了定性的讨论.
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关键词
多晶硅
膜
裂解
lcvd技术
下载PDF
职称材料
题名
激光诱导化学气相沉积制膜技术
被引量:
11
1
作者
葛柏青
王豫
机构
安徽工业大学冶金与材料学院
出处
《安徽工业大学学报(自然科学版)》
CAS
2004年第1期7-10,22,共5页
基金
安徽省教育厅自然科学基金资助项目(2002kj042)
文摘
综述了LCVD制备薄膜的原理和特性,国内外对LCVD的研究应用情况及目前最新的研究方向。阐明了LCVD技术在制备薄膜过程中的生长低温化及高精度膜厚的可控制性能等特点。分析了激光功率、反应室气压及基材预处理等参数对薄膜质量的影响。
关键词
激光诱导化学气相沉积
薄膜性能
工艺参数
lcvd技术
表面改性
薄膜制备
Keywords
lcvd
film
properties
parameter
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
LCVD制备多晶硅膜实验研究
2
作者
李艳秋
秦汝虎
李兆霖
张泽勃
赵玉英
机构
哈尔滨工业大学物理系
出处
《哈尔滨工业大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989年第2期9-18,共10页
文摘
用CWCO_2激光诱发SiH_4反应,在石英基片上淀积多晶硅膜,它的Raman谱表明,激光诱发反应时间越长,结晶度越高.SEM 结果表明,不同淀积时间,表面结构差异较大.薄厚台阶仪测出不同实验条件淀积速率变化的规律.同时,结合不同条件下控制过程的反应机制,对结果进行了定性的讨论.
关键词
多晶硅
膜
裂解
lcvd技术
Keywords
Polysilicon
deposition
decomposition mechanism.
分类号
TN304.120 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
激光诱导化学气相沉积制膜技术
葛柏青
王豫
《安徽工业大学学报(自然科学版)》
CAS
2004
11
下载PDF
职称材料
2
LCVD制备多晶硅膜实验研究
李艳秋
秦汝虎
李兆霖
张泽勃
赵玉英
《哈尔滨工业大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1989
0
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职称材料
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