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纳米硅制备过程中微结构与反应气体流量之间的关系研究(英文)
1
作者
刘英才
尹衍升
+2 位作者
李静
李嘉
初蕾
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期644-646,共3页
利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒。研究了不同反应气体流量条件下 ,纳米硅微结构的转变规律 ,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响机制。研究表明 ,在激光功率密度恒定条件下 ,随着反应气体流量的增加 ,所制备纳米硅颗粒的尺寸逐渐变...
利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒。研究了不同反应气体流量条件下 ,纳米硅微结构的转变规律 ,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响机制。研究表明 ,在激光功率密度恒定条件下 ,随着反应气体流量的增加 ,所制备纳米硅颗粒的尺寸逐渐变小 ,微结构中非晶态比例随反应气流的增加而增加。
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关键词
纳米硅
制备
微结构
反应气体流量
licvd方法
晶体生长
激光诱导化学气相沉积法
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职称材料
题名
纳米硅制备过程中微结构与反应气体流量之间的关系研究(英文)
1
作者
刘英才
尹衍升
李静
李嘉
初蕾
机构
中国海洋大学材料科学与工程学院
河北科技大学材料科学与工程学院
山东大学材料液态结构及其遗传性教育部重点实验室
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期644-646,共3页
基金
theNationalNaturalScienceFoundationofChina (No.50 2 4 2 0 0 8)
文摘
利用LICVD方法制备了纳米硅颗粒。研究了不同反应气体流量条件下 ,纳米硅微结构的转变规律 ,分析了制备工艺参数对纳米硅微结构的影响机制。研究表明 ,在激光功率密度恒定条件下 ,随着反应气体流量的增加 ,所制备纳米硅颗粒的尺寸逐渐变小 ,微结构中非晶态比例随反应气流的增加而增加。
关键词
纳米硅
制备
微结构
反应气体流量
licvd方法
晶体生长
激光诱导化学气相沉积法
Keywords
nano-silicon
licvd
(laser induced chemical vapor deposition)
crystal growth
microstructure
分类号
TG156 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
纳米硅制备过程中微结构与反应气体流量之间的关系研究(英文)
刘英才
尹衍升
李静
李嘉
初蕾
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
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