PPA在LLDPE/LDPE薄膜加工中的应用

本工作以ＬＬＤＰＥ／ＬＤＰＥ共混树脂为基料，添加氟弹性体ＰＰＡ加工改性剂，采用挤出吹塑成型加工薄膜制品．ＬＬＤＰＥ／ＬＤＰＥ＝１／２为空白．添加５００ＰＰＭ的ＰＰＡ后，共混物中ＬＬＤＰＥ为１／３时，挤出机电流下降，薄膜的透光率增加，雾度降低；ＬＬＤＰＥ含量为６０％时，挤出机电流未变而产量提高，薄膜的透光率和雾度变化不大；继续增加ＬＬＤＰＥ比例时，挤出机电流和薄膜雾度增加．薄膜的拉伸性质随ＬＬＤＰＥ比例增大而显著提高，且纵横向的取向性变小．

LLDPE吹塑薄膜加工助剂的研究与应用

本文介绍了LLDPE的加工特性,考察了助剂对LLDPE加工性的影响及加工助剂的协同效果,使用多组分助剂母料在LDPE吹膜机上可高效低耗生产LLDPE农用薄膜。

La(Ⅲ)复合物对LLDPE加工流变性能的影响

用Brabender扭矩塑化仪、HAAKE毛细管流变仪和吹膜机考察了硬脂酸镧与三硬脂酸甘油酯等组成的混和型配合物(LaC)对线型低密度聚乙烯(LLDPE)加工性能的影响。与纯LLDPE相比,加入5%(质量)LaC的体系,在密炼过程最大扭矩减小20.1%,平衡扭矩减小12.5%,塑化能降低17.1%;含该复合物0.25%(质量)的LLDPE仍为假塑性流体,与未含LaC的体系相比,毛细管挤出过程中表观粘度明显降低,非牛顿指数略有增大,在相同剪切速率下粘流活化能轻微减小;相同条件下吹膜时,加入0.25%该复合物,可使主机电流降低达9.2%,又吹膜工艺性能及外观明显改善,对薄膜的力学性能无不良影响。LaC是一种有效的LLDPE加工改性剂。

Aspen Plus流程模拟软件在LLDPE装置上的应用

以LLDPE装置全流程模拟为例,对应用Aspen Plus软件进行分析和讨论。通过相关理论计算开发出了LLDPE装置流程模拟模型,并成功运用于实际生产,为安全稳定的进行牌号切换和开发新产品提供了依据。

基于CFD的刮板式薄膜蒸发器工艺计算及辅助设计系统

以VisualBasic6.0为开发工具,开发了薄膜蒸发器辅助设计系统。该系统包括设计计算、参数化绘图、结果输出及管理系统四大部分。通过对薄膜蒸发器内各料液进行CFD分析,针对高粘度物料提出了一种物料膜厚计算方法。以此为基础,综合考虑CFD数值模拟得出的最佳进料量要求,实现薄膜蒸发器的工艺计算。薄膜蒸发器辅助设计系统的开发,结束了长期以来工艺计算采用手工计算或工程放大估算的现状,有效地缩短设计周期,加快设备的推广和应用,进一步提高其研究水平。

淀粉基可食膜性能及其影响因素的研究进展

淀粉基可食膜是以淀粉或改性淀粉为主要原料,添加填充物和少量功能成分(抗菌剂/抗氧化物)通过干法或湿法等工艺制成的高分子薄膜,具有生物可降解性和可食性等优点。然而,由于淀粉膜力学性能、阻隔性能等相比传统塑料更差,因此探究淀粉膜性能的影响因素及优化工艺将成为重点研究方向。本文综述了淀粉基可食膜的性能、淀粉的结构性质、加工助剂、淀粉改性等对其性能的影响及机制,并概述了淀粉基可食膜应用前景及存在的问题,展望了其发展前景,为进一步开发具备优良性能的淀粉基可食膜提供参考。

棚膜用聚乙烯树脂性能及加工

采用GPC、FTIR、DSC、流变仪、雾度计、密度梯度仪以及万能试验机等分析测试手段,系统研究了棚膜常用LDPE、LLDPE树脂的力学性能、热性能、流变性能、加工工艺性能等。研究表明LDPE具有较多长支链,较高的分子量和宽的分子量分布,LLDPE具有较小的剪切敏感性;与MFR相近的原料相比,燕化LD165、LD150具有较好的综合性能,是功能棚膜的理想原料。

线性低密度聚乙烯超微薄膜的加工和应用

介绍了线性低密度聚乙烯超微薄膜的加工技术和应用情况

染料敏化太阳能电池中CuO/TiO_2薄膜制备及应用

采用普通直流电沉积和超声直流电沉积制备Cu∕TiO2纳米管阵列∕Ti基复合薄膜,而后在NaOH溶液中用电氧化的方法将Cu单质氧化成CuO,制备了CuO∕TiO2纳米管阵列∕Ti基复合薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对两种复合薄膜电极的形貌和结构进行了表征,详细考察了电镀工艺参数(电流密度)和超声波对复合薄膜形貌的影响。同时通过稳态光电响应技术对复合薄膜电极组成的染料敏华太阳能电池(DSSC)的光电性能进行了研究,结果表明:通过普通直流电沉积在工艺参数(3mA/cm2、5min)处制备的复合薄膜组装的DSSC具有该体系下的最佳光电性能(Jsc=9.00mA/cm2、Voc=0.664V、FF=0.512、η=3.06%);在同等条件下通过超声辅助直流电沉积制备的复合薄膜组装的DSSC的最佳光电性能(Jsc=15.50mA/cm2、Voc=0.688V、FF=0.505、η=5.39%)出现在工艺参数为(6mA/cm2、5min)处。对比可知超声条件下的光电性能较好,且最佳光电性能工艺参数发生了后移。