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生长温度对In_(0.53)Ga_(0.47)As/InP的LPMOCVD生长影响 被引量:3
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作者 缪国庆 金亿鑫 +4 位作者 蒋红 周天明 李树玮 元光 宋航 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期465-468,共4页
利用LPMOCVD技术在InP衬底生长了InxGa1-xAs材料 ,获得表面平整、光亮的In0 53 Ga0 47As外延层。研究了生长温度对InxGa1-xAs外延层组分、表面形貌、结晶质量、电学性质的影响。随着生长温度的升高 ,为了保证铟在固相中组分不变 ,必... 利用LPMOCVD技术在InP衬底生长了InxGa1-xAs材料 ,获得表面平整、光亮的In0 53 Ga0 47As外延层。研究了生长温度对InxGa1-xAs外延层组分、表面形貌、结晶质量、电学性质的影响。随着生长温度的升高 ,为了保证铟在固相中组分不变 ,必须增加三甲基铟在气相中的比例。在生长温度较高时 ,外延层表面粗糙。生长温度在 6 30℃与 6 5 0℃之间 ,X射线双晶衍射曲线半高宽最窄 ,高于或低于这个温度区间 ,半高宽变宽。迁移率随着生长温度的升高而增加 ,在 6 30℃为最大值 ,然后随着生长温度的升高反而降低。生长温度降低使载流子浓度增大 ,在生长温度大于 6 展开更多
关键词 IN0.53GA0.47AS/INP lpmocvd 铟镓砷化合物 生长温度 低压金属有机化学气相沉积 半导体材料 磷化铟衬底
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Ⅴ/Ⅲ比对InGaAs/InP的LPMOCVD生长的影响 被引量:3
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作者 缪国庆 金亿鑫 +4 位作者 蒋红 周天明 李树玮 元光 宋航 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2002年第4期271-273,共3页
介绍了利用LPMOCVD技术在InP衬底上生长In0 .53 Ga0 .4 7As材料 ,获得表面平整、光亮的In0 .53 Ga0 .4 7As外延层。研究了Ⅴ /Ⅲ比对表面形貌、结晶质量、电学质量的影响。在Ⅴ /Ⅲ比较低时 ,表面粗糙 ,要获得镜面状的表面形貌 ,Ⅴ /Ⅲ... 介绍了利用LPMOCVD技术在InP衬底上生长In0 .53 Ga0 .4 7As材料 ,获得表面平整、光亮的In0 .53 Ga0 .4 7As外延层。研究了Ⅴ /Ⅲ比对表面形貌、结晶质量、电学质量的影响。在Ⅴ /Ⅲ比较低时 ,表面粗糙 ,要获得镜面状的表面形貌 ,Ⅴ /Ⅲ比必须大于 4 0。Ⅴ /Ⅲ比对外延层结晶质量有影响。迁移率和本征载流子浓度随着Ⅴ /Ⅲ比的增加而增大。 展开更多
关键词 铟镓砷 Ⅴ/Ⅲ比 低压金属有机化学气相沉积
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硅衬底碳化对异质外延SiC薄膜结构的影响 被引量:2
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作者 苏剑峰 郑海务 +2 位作者 林碧霞 朱俊杰 傅竹西 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期231-234,共4页
用LPMOCVD方法在P-Si(111)衬底上异质外延生长SiC,用碳化方法生长出具有单晶结构的3C-SiC薄膜, 研究了开始碳化温度、丙烷流量和碳化时间对结晶质量的影响.结果表明,在较低的温度开始碳化不利于丙烷的分解,不能形成很好的过渡层;碳化... 用LPMOCVD方法在P-Si(111)衬底上异质外延生长SiC,用碳化方法生长出具有单晶结构的3C-SiC薄膜, 研究了开始碳化温度、丙烷流量和碳化时间对结晶质量的影响.结果表明,在较低的温度开始碳化不利于丙烷的分解,不能形成很好的过渡层;碳化时丙烷流量过大会造成碳污染,碳化时间过长使过渡层的结晶质量降低.最佳的碳化条件为:开始碳化温度 1150℃,碳化时间和碳化时丙烷的流量分别为8 min和2 sccm. 展开更多
关键词 无机非金属材料 lpmocvd 3C—SiC p-Si(111)衬底
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InGaA1P超高亮度发光二极管 被引量:2
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作者 方志烈 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1994年第3期201-205,共5页
介绍了InGaA1P超高亮度发光二级管的材料、器件、特性、结构及其应用。现已发展和生产坎德拉级的超高亮度投红色、黄色和绿色发光二极管。
关键词 发光二极管 INGAALP lpmocvd 超高亮度
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超高亮度(烛光级)发光二极管进展 被引量:2
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作者 方志烈 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 1995年第4期14-17,共4页
介绍了各种发光波长超高亮度发光二极管的材料、器件、特性、结构及其应用,现已发展和生产坎德拉级的超高亮度橙红色、黄色、绿色和蓝色发光二极管。
关键词 发光二极管 lpmocvd 多色化 高亮度化
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蓝宝石衬底上GaN薄膜的结构和光学特性表征 被引量:3
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作者 郜小勇 赵剑涛 刘绪伟 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1071-1074,共4页
采用低压金属有机化学气相沉积(LPMOCVD)法,成功地在(0001)晶向的蓝宝石(A l2O3)衬底上制备了高质量的GaN薄膜。并利用X射线衍射(XRD)谱和椭圆偏振光谱(SE)对其结构和光学特性作了表征。XRD谱中,在34.5°和72.9°附近出现了两... 采用低压金属有机化学气相沉积(LPMOCVD)法,成功地在(0001)晶向的蓝宝石(A l2O3)衬底上制备了高质量的GaN薄膜。并利用X射线衍射(XRD)谱和椭圆偏振光谱(SE)对其结构和光学特性作了表征。XRD谱中,在34.5°和72.9°附近出现了两个尖锐的衍射峰,分析表明这两个衍射峰分别对应纤锌矿(W urtzite)结构GaN薄膜的(0002)和(0004)晶向。其中GaN(0002)晶向衍射峰的半高宽(FWHM)很窄,只有0.1°左右,并且GaN(0004)晶向衍射峰强度很强,二者均证实了采用LPMOCVD法制备的GaN薄膜具有高的质量。在介电函数和反射谱中,GaN高的透明性(<3.44 eV)诱导了强的干涉振荡。室温下拟合出的表征带间跃迁的光学带隙约为3.44 eV。 展开更多
关键词 低压金属有机化学气相沉积 氮化镓 椭圆偏振光谱 干涉效应
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Study on growing thick AlGaN layer on c-plane sapphire substrate and free-standing GaN substrate 被引量:3
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作者 WANG DangHui ZHOU Hao +5 位作者 ZHANG JinCheng XU ShengRui ZHANG LinXia MENG FanNa AI Shan HAO Yue 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2012年第12期2383-2388,共6页
In this study,the thick AlGaN epilayers have been grown on the c-plane sapphire substrate and the free-standing GaN substrate using low-temperature AlN nucleation layers by low-pressure metal-organic chemical vapor de... In this study,the thick AlGaN epilayers have been grown on the c-plane sapphire substrate and the free-standing GaN substrate using low-temperature AlN nucleation layers by low-pressure metal-organic chemical vapor deposition(LPMOCVD).High resolution X-ray diffraction(HRXRD),atom force microscopy(AFM),scanning electron microscopy(SEM),photoluminescence(PL) and Raman scattering measurements have been employed to study the crystal quality,threading dislocation density,surface morphology,optical properties and phonon properties of thick AlGaN epifilms.The results indicate that AlGaN epifilms crystal quality can be improved greatly when grown on the free-standing GaN substrate.We calculated the threading dislocation density and found that thick AlGaN epifilm grown on the free-standing GaN substrate is much lower in total threading dislocation density than that grown on the sapphire substrate,although the surface morphology is rougher than that of sapphire substrate. 展开更多
关键词 ALGAN 蓝宝石衬底 基板 lpmocvd 扫描电子显微镜 N层 化学汽相淀积 原子力显微镜
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