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退火对提拉法生长Lu_2Si_2O_7∶Ce晶体闪烁性能的影响
被引量:
2
1
作者
冯鹤
丁栋舟
+5 位作者
李焕英
陆晟
潘尚可
陈晓峰
张卫东
任国浩
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第5期1054-1058,共5页
Lu2Si2O7:Ce(LPS:Ce)表现出较高的光输出,平均值约26000photons/MeV(简写为ph/MeV),但通过提拉法获得的晶体发光效率很低.实验对LPS:Ce晶体进行了不同气氛下的退火,研究退火条件对LPS:Ce的发光效率等闪烁性能的影响.发现在Ar气氛下退火...
Lu2Si2O7:Ce(LPS:Ce)表现出较高的光输出,平均值约26000photons/MeV(简写为ph/MeV),但通过提拉法获得的晶体发光效率很低.实验对LPS:Ce晶体进行了不同气氛下的退火,研究退火条件对LPS:Ce的发光效率等闪烁性能的影响.发现在Ar气氛下退火对LPS:Ce发光效率的提高没有作用,在空气气氛下退火后可显著提高LPS:Ce的发光效率.通过不同退火工艺的比较,确定了提高LPS:Ce发光效率的最佳退火制度:空气气氛下,退火温度1400℃,退火时间根据样品的大小决定,样品越大,需要的退火时间越长.同时讨论了退火过程中,LPS:Ce吸收谱和UV-ray激发发射谱的变化趋势.
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关键词
lps∶ce晶体
退火制度
发光效率
吸收谱
发射光谱
下载PDF
职称材料
题名
退火对提拉法生长Lu_2Si_2O_7∶Ce晶体闪烁性能的影响
被引量:
2
1
作者
冯鹤
丁栋舟
李焕英
陆晟
潘尚可
陈晓峰
张卫东
任国浩
机构
中国科学院上海硅酸盐研究所中试基地
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第5期1054-1058,共5页
基金
中国科学院知识创新工程青年人才领域前沿项目(SCX200701
SCX200708)
国家"863"计划(2007AA03Z444)
文摘
Lu2Si2O7:Ce(LPS:Ce)表现出较高的光输出,平均值约26000photons/MeV(简写为ph/MeV),但通过提拉法获得的晶体发光效率很低.实验对LPS:Ce晶体进行了不同气氛下的退火,研究退火条件对LPS:Ce的发光效率等闪烁性能的影响.发现在Ar气氛下退火对LPS:Ce发光效率的提高没有作用,在空气气氛下退火后可显著提高LPS:Ce的发光效率.通过不同退火工艺的比较,确定了提高LPS:Ce发光效率的最佳退火制度:空气气氛下,退火温度1400℃,退火时间根据样品的大小决定,样品越大,需要的退火时间越长.同时讨论了退火过程中,LPS:Ce吸收谱和UV-ray激发发射谱的变化趋势.
关键词
lps∶ce晶体
退火制度
发光效率
吸收谱
发射光谱
Keywords
lps∶
ce
crystal annealing mechanism lumines
ce
n
ce
efficiency absorption spectrum emission spectrum
分类号
O734 [理学—晶体学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
退火对提拉法生长Lu_2Si_2O_7∶Ce晶体闪烁性能的影响
冯鹤
丁栋舟
李焕英
陆晟
潘尚可
陈晓峰
张卫东
任国浩
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
2
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