LS-MOCVD的真空度测量及自动控制

对液态源金属有机物化学气相沉积（Liquid Source-Metal Organic Chemical Vapor Deposition，LS-MOCVD）设备．文中主要研究了LS-MOCVD的反应室真空获取和控制的方法．整个设备的操作控制由PLC和触摸屏协作完成，用冷阴极电离全量程规测量粗真空，用高精度薄膜规测量工艺过程中的真空，采用内置PID算法的智能蝶阀控制器构成高真空恒压测量控制回路，实现了LS-MOCVD反应室真空的自动测量控制，确保了工艺的稳定性．反应室真空测量范围为常压～8×10^-3Pa，测量精度0．2％，分辨率为满量程的0．0015％．解决了传统气态源MOCVD不同材料之间蒸汽压差大、难以控制及气态金属有机物难以获得的问题．