质子和4He离子激发金和铋产生的LX射线的相对强度

利用ECPSSR电离理论和新获得的L次亮层荧光产额等,计算了质子和~4He离子激发Au和Bi所产生的LX射线相对强度。质子能量为0.18—10MeV,~4He离子能量为1.0—4.0MeV。计算结果和报道的实验测量符合得很好。没有发现L次壳层偶合效应。

低能质子引起的金LX射线相对产生截面

对于能量为０．５－１ＭｅＶ的入射质子，在计算中采用ＡｕＬ１次壳层荧光产额的实验值代替相应的Ｄｉｒａｃ－Ｈａｒｔｒｅｅ－Ｓｌａｔｅｒ值时，使用ＲＰＷＢＡ－ＢＣ（经结合能和库仑歪曲修正的相对论平面波玻恩近似）电离截面计算得到的金原子ＬＸ射线相对产生截面与测量值相符。