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在NiW合金基底上用化学溶液法制备CeO2/La2Zr2O7过渡层 被引量:1
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作者 何东 索红莉 +7 位作者 赵跃 高忙忙 刘敏 叶帅 祝永华 王榕 马麟 周美玲 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A04期165-168,共4页
采用化学溶液方法(CSD)在立方双轴织构的NiW合金基底上制备出了CeO2/La2Zr2O7(LZO)过渡层。利用常规XRD和XRD四环衍射仪对薄膜的取向进行了研究,结果显示CeO2薄膜和LZO薄膜具有很强的面内和面外取向,其中,CeO2(111)面φ扫描的半高宽值(F... 采用化学溶液方法(CSD)在立方双轴织构的NiW合金基底上制备出了CeO2/La2Zr2O7(LZO)过渡层。利用常规XRD和XRD四环衍射仪对薄膜的取向进行了研究,结果显示CeO2薄膜和LZO薄膜具有很强的面内和面外取向,其中,CeO2(111)面φ扫描的半高宽值(FWHM)约8.35°,(200)面ω扫描的FWHM值约为6.54°。用高分辨扫描电子显微镜观察到薄膜表面致密平整,没有裂纹和孔洞。原子力显微镜测试结果表明,在30μm×30μm范围内,CeO2薄膜表面均方根粗糙度(Rrms)为5.9nm。 展开更多
关键词 CEO2 la2zr2o7 过渡层 化学溶液法 双轴织构
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化学溶液法制备的La_2Zr_2O_7缓冲层特性研究
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作者 于泽铭 周廉 +4 位作者 张平祥 熊晓梅 金利华 李成山 卢亚峰 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A04期119-122,共4页
利用XRD、电子背散射衍射分析(EBSD)和反射高能电子衍射(RHEED)等测试手段对化学溶液沉积技术制备的La2Zr2O7缓冲层的体织构和表面特性进行了研究。结果表明,在金属基带上,利用化学溶液沉积技术制备的La2Zr2O7缓冲层具有良好体织构和表... 利用XRD、电子背散射衍射分析(EBSD)和反射高能电子衍射(RHEED)等测试手段对化学溶液沉积技术制备的La2Zr2O7缓冲层的体织构和表面特性进行了研究。结果表明,在金属基带上,利用化学溶液沉积技术制备的La2Zr2O7缓冲层具有良好体织构和表面特性。 展开更多
关键词 la2zr2o7缓冲层 织构 化学溶液沉积技术
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化学溶液法制备涂层导体过渡层La_2Zr_2O_7厚膜的研究 被引量:4
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作者 王榕 索红莉 +5 位作者 程艳玲 刘敏 赵跃 叶帅 高忙忙 周美玲 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期396-400,共5页
为制备高质量的双轴织构La2Zr2O7(LZO)涂层导体过渡层,本文采用化学溶液法(Chemical solutiondeposition,简称CSD法),以乙酰丙酮镧和乙酰丙酮锆为溶质,丙酸为溶剂配制成前驱盐溶液,在立方织构的Ni-5at%W基底上用快速一步法退火工艺制备... 为制备高质量的双轴织构La2Zr2O7(LZO)涂层导体过渡层,本文采用化学溶液法(Chemical solutiondeposition,简称CSD法),以乙酰丙酮镧和乙酰丙酮锆为溶质,丙酸为溶剂配制成前驱盐溶液,在立方织构的Ni-5at%W基底上用快速一步法退火工艺制备了LZO种子层及双层LZO厚膜。SEM观察种子层呈岛状均匀排列,符合种子层形貌特点。XRD结果显示0.06 mol/L浓度种子层上制备的LZO厚膜具有很强的双轴立方织构,其中(222)面Phi扫描和(400)面摇摆曲线半高宽值分别为6.37°和5.82°。SEM观察发现120 nm厚的LZO薄膜表面平整,无裂纹,为后续沉积YBCO提供了很好的模板。 展开更多
关键词 涂层导体 CSD方法 LZO过渡层 种子层
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烧绿石结构La_2Zr_2O_7薄膜的外延生长研究
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作者 冯建情 王耀 +5 位作者 李成山 于泽铭 金利华 王辉 许征兵 张平祥 《西安文理学院学报(自然科学版)》 2015年第4期1-4,共4页
利用化学溶液沉积(CSD)法在双轴织构的Ni W基带上制备了烧绿石结构的La2Zr2O7(LZO)氧化物薄膜,并研究了热处理过程中升温路线对其外延生长行为的影响.利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同热处理路线下所制得的LZO薄膜的织构和... 利用化学溶液沉积(CSD)法在双轴织构的Ni W基带上制备了烧绿石结构的La2Zr2O7(LZO)氧化物薄膜,并研究了热处理过程中升温路线对其外延生长行为的影响.利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同热处理路线下所制得的LZO薄膜的织构和表面形貌进行了表征.结果表明:升温速率对LZO薄膜的织构度以及表面形貌影响较大.可以认为通过选择合适的热处理路线,利用CSD法可以制得具有锐利织构度、表面平整且无明显缺陷的LZO薄膜,同时,在最佳热处理条件下制得的LZO薄膜适合用作涂层导体缓冲层. 展开更多
关键词 la2zr2o7 化学溶液沉积 织构 表面形貌 涂层导体 缓冲层
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金属有机沉积涂层导体La_2Zr_2O_7缓冲层长带制备
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作者 王耀 李成山 +5 位作者 于泽铭 冯建情 金利华 王辉 许征兵 张平祥 《西安文理学院学报(自然科学版)》 2015年第4期8-11,共4页
采用辊到辊方式利用金属有机沉积(MOD)技术在双轴织构的Ni W合金基带上制备了烧绿石结构的La2Zr2O7(LZO)缓冲层长带样品,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对长带样品不同部位截取短样的织构和表面形貌进行了分析.结果表明,已经制... 采用辊到辊方式利用金属有机沉积(MOD)技术在双轴织构的Ni W合金基带上制备了烧绿石结构的La2Zr2O7(LZO)缓冲层长带样品,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对长带样品不同部位截取短样的织构和表面形貌进行了分析.结果表明,已经制得了具有良好c轴织构且表面光滑的LZO膜.然而长带样品的织构锐利度小于静态短样的织构度,可以认为,热处理过程中影响升温速率以及恒温热处理时间的走带速度是获得高质量长带缓冲层样品的关键因素. 展开更多
关键词 la2zr2o7 金属有机沉积 织构 表面形貌 涂层导体 缓冲层
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Metal Organic Deposition of Lanthanum Zirconate Buffer Layer on Biaxially Textured Ni-5%W Substrate 被引量:1
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作者 Guo Pei, Zhao Xiaohui, Xiong Jie, Xia Yudong, Jing Tongguo, Chen Jue,Zhang Ning, Zhang Fei, Tao Bowan, Li Yanrong State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu,610054,China 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S3期306-310,共5页
In this study,a simple template consisted of Y2O3 and La2Zr2O7 (LZO) layers was fabricated on rolling assisted biaxially textured Ni-5at%W substrates for YBa2Cu3O7-δ (YBCO) coated conductors.A thin sputtered Y2O3 lay... In this study,a simple template consisted of Y2O3 and La2Zr2O7 (LZO) layers was fabricated on rolling assisted biaxially textured Ni-5at%W substrates for YBa2Cu3O7-δ (YBCO) coated conductors.A thin sputtered Y2O3 layer (~20 nm) was introduced as a seed layer in order to induce epitaxial growth of metal organic deposited LZO layer.The effects of Y2O3 layer,annealing temperature and dwelling time on the phase and texture of the LZO films were systematically investigated.X-ray diffraction exhibited that the LZO films were purely c-axis-oriented with full width at half maximum value of out-of-plane and in-plane less than 4° and 6° respectively.Atomic force microscope analysis indicated the surface of such films was smooth,dense and crack-free.1.2μm-thick YBCO films were prepared directly on this 2-layer template with a critical current density of 0.58 MA/cm2 at 77 K and self field and Ic value of 70 A/cm-width,indicating a combination of LZO/Y2O3 is a promising buffer architecture for low cost production of high performance coated conductors. 展开更多
关键词 la2zr2o7 buffer layer MOD YBCO coated conductors
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Preparation, Properties and Characterization of Modified CeO_2/La_2Zr_2O_7 Buffer Layers
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作者 Cheng Yanling, Suo Hongli, Liu Min, Ma Lin, Zhang Teng Key Laboratory of Advanced Functional Materials, Ministry of Education, Beijing University of Technology, Beijing 100124, China 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S3期350-353,共4页
The metal organic deposition (MOD) method was used for the epitaxial growth of the CeO2/La2Zr2O7(LZO)/LZO seed layer structure on a cube-textured Ni5W substrate layer by layer. The material phase and the macro-orienta... The metal organic deposition (MOD) method was used for the epitaxial growth of the CeO2/La2Zr2O7(LZO)/LZO seed layer structure on a cube-textured Ni5W substrate layer by layer. The material phase and the macro-orientations were analyzed by XRD. The surface morphology and the blocking performance of the buffer layer were investigated by SEM and AES. The grain orientation and the crystallographic growth mode of the CeO2 layer were first characterized by electron backscattering diffraction (EBSD). The uniformly distributed islanded LZO seed layer optimized both the in-plan and the out-plan orientation of the CeO2/LZO buffer layers, and the CeO2/LZO buffer layers with a thickness of 175 nm acted as an efficient Ni,W barrier. The EBSD analysis indicated that the crystallographic orientation of each layer can be obtained at various accelerating voltages for the multilayer sample, the percentage of {001}<110> rotated cube texture of CeO2 layer reaching 97.4% at the accelerating voltage of 15 kV, thus showing epitaxial deposition with a high texture. 展开更多
关键词 coated conductor buffer layer la2zr2o7 SEED layer CEO2 rotated CUBE texture accelerating voltage
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热处理参数对LZO膜外延生长的影响
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作者 于泽铭 王耀 +2 位作者 金利华 李成山 张平祥 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期2683-2686,共4页
研究了热处理参数对LZO膜外延生长的影响。结果显示实验条件范围内,升高热处理温度、延长热处理时间和加快升温速度有利于提高(400)_(LZO)衍射峰的强度。相对于热处理温度、热处理时间和升温速度,LZO膜的织构类型对热处理时的氧分压十... 研究了热处理参数对LZO膜外延生长的影响。结果显示实验条件范围内,升高热处理温度、延长热处理时间和加快升温速度有利于提高(400)_(LZO)衍射峰的强度。相对于热处理温度、热处理时间和升温速度,LZO膜的织构类型对热处理时的氧分压十分敏感,氧分压直接影响到能否制备出具有单一织构成分的LZO膜。进一步分析显示,传统的形核生长理论可以很好地解释热处理温度、热处理时间和升温速度对LZO膜外延生长的影响。增加氧分压对LZO膜的外延生长存在双重作用,一方面提高氧分压可以降低膜中的积碳量,有利于LZO晶粒的长大,但另一方面,提高氧分压降低膜中的积碳后将导致对自发形核长大过程的抑制作用减弱,最终使得LZO膜不具有单一的立方织构。因此,更合理地控制/改变不同热处理阶段的氧分压才能在改善LZO膜生长动力学的同时又不影响其外延生长。 展开更多
关键词 la2zr2o7(LZO)缓冲层 化学溶液沉积技术 外延生长
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化学法动态热处理制备LZO缓冲层
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作者 于泽铭 金利华 +2 位作者 王耀 李成山 张平祥 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期1953-1956,共4页
对采用化学溶液沉积技术动态热处理制备La2Zr2O7(LZO)缓冲层进行了研究。结果显示,制备长样品时,侧向进气更有利于驱散热解气体,降低样品织构的不均匀性。当侧向进气方向与样品表面法线方向夹角较小时,更有利于提高LZO缓冲层的织构特性... 对采用化学溶液沉积技术动态热处理制备La2Zr2O7(LZO)缓冲层进行了研究。结果显示,制备长样品时,侧向进气更有利于驱散热解气体,降低样品织构的不均匀性。当侧向进气方向与样品表面法线方向夹角较小时,更有利于提高LZO缓冲层的织构特性。LZO缓冲层的织构和表面形貌受样品移动速度影响的主要原因是样品移动速度的变化直接改变了样品的热处理时间。优化动态热处理过程后制备出的LZO缓冲层表面致密,LZO缓冲层具有锐利的立方织构,织构锐利度与金属基带织构相当。 展开更多
关键词 la2zr2o7(LZO)缓冲层 化学溶液沉积技术 动态热处理
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