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LaTiO_(3)外延薄膜的显微结构与电学性能研究
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作者 乔贝贝 姚婷婷 +3 位作者 江亦潇 陈春林 马秀良 叶恒强 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第4期407-412,共6页
本文利用脉冲激光沉积技术在LaAlO_(3)(100)和SrTiO_(3)(100)衬底上生长了LaTiO_(3)薄膜,利用高分辨X射线衍射和透射电子显微术对薄膜的显微结构进行了系统表征,利用霍尔效应测量系统对薄膜的电学性能进行了研究。XRD结果表明在两种衬... 本文利用脉冲激光沉积技术在LaAlO_(3)(100)和SrTiO_(3)(100)衬底上生长了LaTiO_(3)薄膜,利用高分辨X射线衍射和透射电子显微术对薄膜的显微结构进行了系统表征,利用霍尔效应测量系统对薄膜的电学性能进行了研究。XRD结果表明在两种衬底上生长的LaTiO_(3)薄膜均为单晶薄膜,SrTiO_(3)衬底上的薄膜具有更高的结晶度。透射电镜显微结构表征的结果显示,LaTiO_(3)薄膜在两种衬底上均实现了外延生长,SrTiO_(3)衬底上的薄膜具有更少的晶格缺陷,薄膜与衬底之间的界面也更平直和明锐。薄膜I⁃V曲线测量的结果表明SrTiO_(3)衬底上的LaTiO_(3)薄膜具有更低的电阻率。两种薄膜显微结构和电学性能的优劣主要源自于薄膜与衬底之间的晶格失配大小,更小的界面失配有利于高质量薄膜的外延生长。 展开更多
关键词 latio_(3) 脉冲激光沉积 显微结构 透射电子显微学 电阻率
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Magnetoelectric coupling effect of polarization regulation in BiFeO_(3)/LaTiO_(3)heterostructures
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作者 金超 任凤竹 +3 位作者 孙伟 李静玉 王冰 顾勤奋 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2021年第7期387-393,共7页
An effective regulation of the magnetism and interface of ferromagnetic materials is not only of great scientific significance,but also has an urgent need in modern industry.In this work,by using the first-principles ... An effective regulation of the magnetism and interface of ferromagnetic materials is not only of great scientific significance,but also has an urgent need in modern industry.In this work,by using the first-principles calculations,we demonstrate an effective approach to achieve non-volatile electrical control of ferromagnets,which proves this idea in multiferroic heterostructures of ferromagnetic La TiO_(3)and ferroelectric Bi FeO_(3).The results show that the magnetic properties and two-dimensional electron gas concentrations of La TiO_(3)films can be controlled by changing the polarization directions of Bi FeO_(3).The destroyed symmetry being introduced by ferroelectric polarization of the system leads to the transfer and reconstruction of the Ti-3 d electrons,which is the fundamental reason for the changing of magnetic properties.This multiferroic heterostructures will pave the way for non-volatile electrical control of ferromagnets and have potential applications. 展开更多
关键词 first-principles calculations BiFeO_(3)/latio_(3)heterostructures magnetoelectric coupling effect polarization regulation
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离子束辅助电子束蒸镀H4膜工艺及其抗激光损伤特性研究 被引量:1
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作者 李晓雪 黄玲程 郝永芹 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2022年第19期381-386,共6页
采用等离子体辅助电子束镀膜法制备了钛酸镧(H4)薄膜,研究了基底温度和离子束流密度等工艺条件及高温退火和等离子体后处理技术对H4薄膜的光学特性和表面形貌的影响。实验发现,适当地提高基底温度和离子束流密度可以提高薄膜折射率和薄... 采用等离子体辅助电子束镀膜法制备了钛酸镧(H4)薄膜,研究了基底温度和离子束流密度等工艺条件及高温退火和等离子体后处理技术对H4薄膜的光学特性和表面形貌的影响。实验发现,适当地提高基底温度和离子束流密度可以提高薄膜折射率和薄膜质量。在基底温度为175℃,离子束流密度为120μA/cm^(2)时,薄膜折射率最高为2.70,且退火和等离子体后处理技术可进一步使薄膜质量得到改善。将优化的工艺参数用于980 nm高反射膜的镀制,并与采用Ta_(2)O_(5)、TiO_(2)作为高反射率材料的高反膜进行了比较,在600 MW/cm^(2)的激光作用下,H4高反膜系的抗激光损伤特性最优。 展开更多
关键词 薄膜 离子束辅助电子束镀膜 钛酸镧(H4) 腔面膜 折射率
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