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差温生长法制备 1.55 μm InP/InGaAsP/InP 激光晶片 被引量:1
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作者 李雪春 胡礼中 +1 位作者 赛纳 闫志明 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期270-272,共3页
采用差温生长法制备了1.55μmInP/InGaAsP/InP双异质结激光晶片.差温生长法是在高温(约626℃)状态下生长InGaAsP有源层;然后降低温度,在低温(约600℃)状态下生长P-InP上限制层.此方法有... 采用差温生长法制备了1.55μmInP/InGaAsP/InP双异质结激光晶片.差温生长法是在高温(约626℃)状态下生长InGaAsP有源层;然后降低温度,在低温(约600℃)状态下生长P-InP上限制层.此方法有效地解决了这种结构长波区(λ>1.45μm)的回熔问题,并克服了其他方法的缺点. 展开更多
关键词 半导体激光器 差温生长法 激光晶片
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Optimization of High Power 1.55-μm Single Lateral Mode Fabry-Perot Ridge Waveguide Lasers 被引量:1
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作者 柯青 谭少阳 +3 位作者 陆丹 张瑞康 王圩 吉晨 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第6期66-68,共3页
Optimization of the high power single-lateral-mode double-trench ridge waveguide semiconductor laser based on InGaAsP/InP quantum-well heterostructures with a separate confinement layer is reported. Two different wave... Optimization of the high power single-lateral-mode double-trench ridge waveguide semiconductor laser based on InGaAsP/InP quantum-well heterostructures with a separate confinement layer is reported. Two different waveguide structures of Fabry-Perot lasers emitting at a wavelength of 1.55 μm are fabricated. The influence of an effective lateral refractive index step on the maximum output power is investigated. A cw single mode output power of 165mW is obtained for a 1-mm-long uncoated laser. 展开更多
关键词 As Si inp Optimization of High Power 1.55 m Single Lateral Mode Fabry-Perot Ridge Waveguide lasers
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半绝缘InP的优化生长条件以及掩埋的1.55μm激光器 被引量:1
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作者 许国阳 颜学进 +5 位作者 朱洪亮 段俐宏 周帆 田慧良 白云霞 王圩 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期188-191,共4页
研究了低压MOCVD下生长压力和Fe 源/In 源摩尔流量比对半绝缘InP电阻率的影响.得到了用LP-MOCVD 生长掺Fe 半绝缘InP的优化生长条件.在优化生长条件下得到的Fe-InP的电阻率为2.0×108Ω... 研究了低压MOCVD下生长压力和Fe 源/In 源摩尔流量比对半绝缘InP电阻率的影响.得到了用LP-MOCVD 生长掺Fe 半绝缘InP的优化生长条件.在优化生长条件下得到的Fe-InP的电阻率为2.0×108Ω·cm ,击穿电场4×104V/cm .用半绝缘Fe-InP掩埋1.55μm 多量子阱激光器,激光器的高频调制特性明显优于反向pn 结掩埋的激光器,3dB 调制带宽达4.8GHz. 展开更多
关键词 激光器 优化生长 磷化铟
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中红外氟化物激光晶体的生长和性能优化研究 被引量:6
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作者 张沛雄 李善明 +4 位作者 杨依伦 张连翰 李真 陈振强 杭寅 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第8期1369-1378,共10页
中红外激光晶体材料作为激光技术核心增益材料之一,在军事光电对抗、激光医疗、卫星遥感、环境监测、基础科学等领域具有非常重要的应用。本文介绍了近年来在中红外氟化物激光晶体材料中,关于晶体生长、光学性能优化以及中红外激光性能... 中红外激光晶体材料作为激光技术核心增益材料之一,在军事光电对抗、激光医疗、卫星遥感、环境监测、基础科学等领域具有非常重要的应用。本文介绍了近年来在中红外氟化物激光晶体材料中,关于晶体生长、光学性能优化以及中红外激光性能等方面的研究工作,特别是在中红外光学性能优化调控方面,主要介绍基于稀土能级耦合的相互作用,有效抑制发光离子的自终止效应,以及为发光离子提供有效泵浦通道。 展开更多
关键词 中红外氟化物激光晶体 晶体生长 光学性能优化 中红外激光性能
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Structure optimization of high indium content InGaAs/InP heterostructure for the growth of In_(0.82)Ga_(0.18)As buffer layer
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作者 魏秋林 郭作兴 +4 位作者 赵磊 赵亮 袁德增 缪国庆 夏茂盛 《Optoelectronics Letters》 EI 2016年第6期441-445,共5页
Microstructure and misfit dislocation behavior in In_xGa_(1-x)As/InP heteroepitaxial materials grown by low pressure metal organic chemical vapor deposition(LP-MOCVD) were analyzed by high resolution transmission elec... Microstructure and misfit dislocation behavior in In_xGa_(1-x)As/InP heteroepitaxial materials grown by low pressure metal organic chemical vapor deposition(LP-MOCVD) were analyzed by high resolution transmission electron microscopy(HRTEM), scanning electron microscopy(SEM), atomic force microscopy(AFM), Raman spectroscopy and Hall effect measurements. To optimize the structure of In_(0.82)Ga_(0.18)As/InP heterostructure, the In_xGa_(1-x)As buffer layer was grown. The residual strain of the In_(0.82)Ga_(0.18)As epitaxial layer was calculated. Further, the periodic growth pattern of the misfit dislocation at the interface was discovered and verified. Then the effects of misfit dislocation on the surface morphology and microstructure of the material were studied. It is found that the misfit dislocation of high indium(In) content In_(0.82)Ga_(0.18)As epitaxial layer has significant influence on the carrier concentration. 展开更多
关键词 indium epitaxial dislocation verified optimize MOCVD HRTEM mismatch scatter arrangement
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单晶高温合金V槽的激光修复工艺研究 被引量:11
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作者 罗登 路媛媛 +2 位作者 郭溪溪 杜锦铮 刘德健 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期31-37,共7页
研究了单晶高温合金的修复工艺对枝晶生长的影响,分析了不同底角V形槽对激光修复枝晶生长的影响。通过在DD5试样上进行激光熔覆来确定合适的工艺参数,发现减小热输入有利于扩大定向枝晶区域。DD5的搭接实验结果表明30%的搭接率有利于减... 研究了单晶高温合金的修复工艺对枝晶生长的影响,分析了不同底角V形槽对激光修复枝晶生长的影响。通过在DD5试样上进行激光熔覆来确定合适的工艺参数,发现减小热输入有利于扩大定向枝晶区域。DD5的搭接实验结果表明30%的搭接率有利于减小搭接区域的杂晶。选用合适的工艺参数对DD6试样的不同底角V槽进行修复。结果表明,V形槽底角在60°-120°的范围内变化时,底部枝晶生长方向变化不大,但侧壁附近杂晶会随着熔池温度的梯度方向与最优生长方向夹角的增大而减小。当V槽底角为120°时,侧壁区域不产生杂晶。 展开更多
关键词 激光技术 单晶高温合金 激光修复 最优生长方向 枝晶生长 V槽
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