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先锋:三十年写就——论梁小斌的当代诗学意义
被引量:
1
1
作者
冯雷
《山西师大学报(社会科学版)》
CSSCI
北大核心
2009年第2期57-61,共5页
从早期作为"朦胧诗"的代表诗人,到晚近"悔其少作"的诚挚忏悔,梁小斌的诗歌写作活动贯穿了改革开放的三十年,其诗歌意象的变化,以及与诗歌颇具互文性的随笔创作,深刻反映了中国当代诗歌思想锋芒的迁移过程。梁小斌...
从早期作为"朦胧诗"的代表诗人,到晚近"悔其少作"的诚挚忏悔,梁小斌的诗歌写作活动贯穿了改革开放的三十年,其诗歌意象的变化,以及与诗歌颇具互文性的随笔创作,深刻反映了中国当代诗歌思想锋芒的迁移过程。梁小斌的意义,并不局限于为现代汉诗的历史提供了一批颇具影响的文本,更重要的是,梁小斌近三十年的创作实践启示我们破除"断裂"式的文学史观念误区,从而充分认识历史是一个动态联系的序列,而他的诗歌"忏悔"恰为我们提供了一个回望历史的起点和支点。
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关键词
梁小斌
忏悔
先锋
历史认识
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职称材料
磁控溅射成膜温度对纯铝薄膜小丘生长以及薄膜晶体管阵列工艺良率的影响
被引量:
4
2
作者
刘晓伟
郭会斌
+2 位作者
李梁梁
郭总杰
郝昭慧
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期548-552,共5页
纯铝薄膜被广泛用作TFT-LCD的金属电极,但纯铝薄膜在热工艺中容易产生小丘,对TFT的阵列工艺的良率有较大影响。本文用磁控溅射的方法在不同温度下沉积纯铝薄膜作为薄膜晶体管的栅极,并通过电学检测、扫描电子显微镜和应力测试等方法对...
纯铝薄膜被广泛用作TFT-LCD的金属电极,但纯铝薄膜在热工艺中容易产生小丘,对TFT的阵列工艺的良率有较大影响。本文用磁控溅射的方法在不同温度下沉积纯铝薄膜作为薄膜晶体管的栅极,并通过电学检测、扫描电子显微镜和应力测试等方法对不同温度下沉积的纯铝薄膜的小丘生长情况进行了研究。实验结果表明:纯铝成膜温度提高,薄膜的晶粒尺寸增大,退火后产生小丘的密度和尺寸明显降低,温度-应力曲线中屈服点温度也相应提高。量产中适当提高成膜温度,可以有效抑制小丘的发生,提高TFT阵列工艺的量产良率。
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关键词
薄膜晶体管阵列工艺
磁控溅射
纯铝薄膜
小丘
量产良率
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职称材料
题名
先锋:三十年写就——论梁小斌的当代诗学意义
被引量:
1
1
作者
冯雷
机构
首都师范大学文学院
出处
《山西师大学报(社会科学版)》
CSSCI
北大核心
2009年第2期57-61,共5页
文摘
从早期作为"朦胧诗"的代表诗人,到晚近"悔其少作"的诚挚忏悔,梁小斌的诗歌写作活动贯穿了改革开放的三十年,其诗歌意象的变化,以及与诗歌颇具互文性的随笔创作,深刻反映了中国当代诗歌思想锋芒的迁移过程。梁小斌的意义,并不局限于为现代汉诗的历史提供了一批颇具影响的文本,更重要的是,梁小斌近三十年的创作实践启示我们破除"断裂"式的文学史观念误区,从而充分认识历史是一个动态联系的序列,而他的诗歌"忏悔"恰为我们提供了一个回望历史的起点和支点。
关键词
梁小斌
忏悔
先锋
历史认识
Keywords
liang xiao - bin
repentance
vanguard
cognition on history
分类号
I207.2 [文学—中国文学]
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职称材料
题名
磁控溅射成膜温度对纯铝薄膜小丘生长以及薄膜晶体管阵列工艺良率的影响
被引量:
4
2
作者
刘晓伟
郭会斌
李梁梁
郭总杰
郝昭慧
机构
北京京东方显示技术有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第4期548-552,共5页
文摘
纯铝薄膜被广泛用作TFT-LCD的金属电极,但纯铝薄膜在热工艺中容易产生小丘,对TFT的阵列工艺的良率有较大影响。本文用磁控溅射的方法在不同温度下沉积纯铝薄膜作为薄膜晶体管的栅极,并通过电学检测、扫描电子显微镜和应力测试等方法对不同温度下沉积的纯铝薄膜的小丘生长情况进行了研究。实验结果表明:纯铝成膜温度提高,薄膜的晶粒尺寸增大,退火后产生小丘的密度和尺寸明显降低,温度-应力曲线中屈服点温度也相应提高。量产中适当提高成膜温度,可以有效抑制小丘的发生,提高TFT阵列工艺的量产良率。
关键词
薄膜晶体管阵列工艺
磁控溅射
纯铝薄膜
小丘
量产良率
Keywords
LIU
xiao
-
wei GUO Hui
-
bin
LI
liang
-
liang
GUO Zong
-
jie HAO Zhao
-
hui(Beijing BOE Display Technology limited Co.,Ltd,Beijing 100176,China)
分类号
TB31 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
先锋:三十年写就——论梁小斌的当代诗学意义
冯雷
《山西师大学报(社会科学版)》
CSSCI
北大核心
2009
1
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职称材料
2
磁控溅射成膜温度对纯铝薄膜小丘生长以及薄膜晶体管阵列工艺良率的影响
刘晓伟
郭会斌
李梁梁
郭总杰
郝昭慧
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2014
4
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