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GS-MBE生长的GaP/Si的XPS研究
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作者 吴正龙 余金中 +3 位作者 成步文 于卓 李晓文 王启明 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第2期109-116,共8页
利用X射线光电子能谱(XPS)深度剖析方法对气体源分子束外延(GS-MBE)生长的GaP/Si异质结构进行了详细的分析.其结果表明:(1)外延层内Ga、P光电子峰与GaP相相符,且组份分布均匀,为正化学比GaP.(2... 利用X射线光电子能谱(XPS)深度剖析方法对气体源分子束外延(GS-MBE)生长的GaP/Si异质结构进行了详细的分析.其结果表明:(1)外延层内Ga、P光电子峰与GaP相相符,且组份分布均匀,为正化学比GaP.(2)在不同富PH3流量条件下生长的样品,其表面富P量稍有不同,而GaP外延层内的测试结果相同.界面也未见有P的富集.(3)XPS剖析至GaP/Si界面附近,随外延层界面向衬底过渡,Si2p光电子峰向高结合能方向移动,且其结合能高于原衬底p型Si,接近于n型Si.但Ga、P光电子峰未发现有明显能移.(4)在XPS检测限内,外延层内和界面都未见有C、O等沾污.这一研究表明:无污染的本底超高真空、相对过剩的富PH3生长环境、成功的Si衬底清洗方法等措施保证了GS-MBE生长出正化学比GaP/Si外延异质结构. 展开更多
关键词 异质结 XPS 气体源 分子束外延 磷化镓
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LPE法生长GaP/Si材料初探
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作者 邓希敏 王兢 刘明登 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1993年第1期77-79,共3页
用普通的液相外延(LPE)方法,在Si衬底上生长了厚约10μm的GaP外延层,并对以Ga,In或Sn为生长熔体进行生长得到的结果做了比较.结果表明,Si在Ga中溶解度很大,Ga不适合做熔体;In为熔体时生长出InGaP合金,Si含量较高,而且出现化学计量比偏... 用普通的液相外延(LPE)方法,在Si衬底上生长了厚约10μm的GaP外延层,并对以Ga,In或Sn为生长熔体进行生长得到的结果做了比较.结果表明,Si在Ga中溶解度很大,Ga不适合做熔体;In为熔体时生长出InGaP合金,Si含量较高,而且出现化学计量比偏离现象;Sn为熔体生长的GaP层中Si含量小于In熔体,而且GaP符合化学计量比. 展开更多
关键词 液相外延 异质结 磷化镓
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GaP:N液相外延层中杂质对PL谱的影响
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作者 林秀华 江炳熙 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期51-55,共5页
借助低温光致发光方法测量了GaPN双液相外延材料PL谱,结果表明:辐射复合效率高的材料PL谱基本上由孤立N和NNi等束缚激子尖锐峰组成;发光效率较低的PL谱含有DA对辐射跃迁的钟形谱上迭加NNi峰.分析了谱峰的性质。
关键词 液相外延 光致发光 辐射复合 磷化镓
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具有高特征温度的808nm大功率半导体激光器 被引量:5
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作者 高欣 曲轶 +2 位作者 薄报学 张宝顺 张兴德 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期388-389,392,共3页
研制出利用液相外延方法生长808 nm InGaAsP/GaAs 分别限制单量子阱激光器,其室温连续输出功率达到4 W,室温工作的特征温度达到218 K。
关键词 半导体激光器 液相外延 分别限制单量子阱 特征温度
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硅液相外延的溶剂选择 被引量:1
5
作者 江鉴 张仕国 《材料科学与工程》 CSCD 1996年第2期55-57,共3页
本文系统综述了硅液相外延中对各种溶剂的选择。重点叙述了Cu、Ga、Au、In、Sn、Pb等纯金属及Ag基、Au基、Al基合金作为溶剂,对硅液外延薄膜的影响。最后指出只要根据器件对外延层及工艺成本等的要求,可以找到适当的溶剂材料进行硅液相... 本文系统综述了硅液相外延中对各种溶剂的选择。重点叙述了Cu、Ga、Au、In、Sn、Pb等纯金属及Ag基、Au基、Al基合金作为溶剂,对硅液外延薄膜的影响。最后指出只要根据器件对外延层及工艺成本等的要求,可以找到适当的溶剂材料进行硅液相处延。 展开更多
关键词 硅液相外延 溶剂
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InAsPSb/InAs四元系异质结液相外延
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作者 王永珍 金长春 吕贵进 《吉林大学自然科学学报》 CSCD 1994年第4期55-58,共4页
利用液相外延技术,考察了与InAs衬底晶格匹配的InAsPSb四元系化合物生长条件对外延层晶体质量的影响.
关键词 异质结 液相外延 四元系 化合物
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p型掺杂晶体硅的低温液相(001)外延生长研究 被引量:1
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作者 张范 肖志刚 周浪 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期2078-2083,共6页
为寻求以低成本制备n型太阳电池的pn结,进行了Al-17.6wt%Si合金熔体中(001)n型单晶硅衬底上液相外延生长p型掺杂硅实验。所用方法为垂直浸渍法,实验了过冷恒温生长与回熔处理后连续冷却生长两种模式,过程中体系以流动高纯氩保护。对所... 为寻求以低成本制备n型太阳电池的pn结,进行了Al-17.6wt%Si合金熔体中(001)n型单晶硅衬底上液相外延生长p型掺杂硅实验。所用方法为垂直浸渍法,实验了过冷恒温生长与回熔处理后连续冷却生长两种模式,过程中体系以流动高纯氩保护。对所得外延生长晶体结构、形貌及所得pn结开路电压进行了分析和测定。结果显示,合金熔体中硅晶体(001)液相外延生长能够实现,但一般呈离散分布的金字塔型岛状生长;只有衬底回熔处理后原位连续降温生长模式可获得连续外延薄膜,之后在其上出现岛状生长,呈现Stranski-Krastanov生长模式。所得连续外延薄膜形成的pn结开路电压比恒温生长所得的提升约100 m V;连续外延薄膜形成后期出现的岛状生长使开路电压明显下降;生长速度提高会使连续降温外延生长pn结开路电压略有降低。 展开更多
关键词 低温液相外延(LPE) 铝-硅熔体 P-N结
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镓铟砷磷 磷化铟掩埋新月形激光器 被引量:1
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作者 王清正 張文芳 龐涛 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1989年第1期78-82,共5页
本文研究了一种新型的1.3μm InGaAsP/InP掩埋新月形(BC)激光器。采用两次液相外延(LPE)技术形成掩埋双異质结构(BH),p-n-p-n电流阻挡结构和窄有源区。该器件在室温连续工作条件下的阀值电流低达15mA、基横模、单面输出功率大于12mW。
关键词 激光器 掩埋新月形 异质结构
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Steady-state solution growth of microcrystalline silicon on nanocrystalline seed layers on glass
9
作者 r.bansen c.ehlers +1 位作者 th.teubner t.boeck 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2016年第9期37-40,共4页
The growth of polycrystalline silicon layers on glass from tin solutions at low temperatures is presented.This approach is based on the steady-state solution growth of Si crystallites on nanocrystalline seed layers, w... The growth of polycrystalline silicon layers on glass from tin solutions at low temperatures is presented.This approach is based on the steady-state solution growth of Si crystallites on nanocrystalline seed layers, which are prepared in a preceding process step. Scanning electron microscopy and atomic force microscopy investigations reveal details about the seed layer surfaces, which consist of small hillocks, as well as about Sn inclusions and gaps along the glass substrate after solution growth. The successful growth of continuous microcrystalline Si layers with grain sizes up to several ten micrometers shows the feasibility of the process and makes it interesting for photovoltaics. 展开更多
关键词 thin film solar cell microcrystalline si solution growth steady-state liquid phase epitaxy(SSLPE) seed layer
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