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合肥光源逐圈测量系统试验结果及其在注入调试中的应用(英文) 被引量:5
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作者 王筠华 李为民 +8 位作者 刘祖平 孙葆根 刘建宏 郑凯 杨永良 徐宏亮 王琳 尚雷 贡顶 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期101-104,共4页
 介绍了合肥光源(HLS)逐圈束流位置测量系统在升级后的注入系统联调中的作用。该逐圈测量系统信号处理器采用对数比电路,数据获取采用NI5102ADC。为了保证长达2s数据获取,采样数据通过突发的DMA方式实时写入工控机的系统内存。注入Kic...  介绍了合肥光源(HLS)逐圈束流位置测量系统在升级后的注入系统联调中的作用。该逐圈测量系统信号处理器采用对数比电路,数据获取采用NI5102ADC。为了保证长达2s数据获取,采样数据通过突发的DMA方式实时写入工控机的系统内存。注入Kicker用作为激励束流,以便监测衰减率和研究β振荡。 展开更多
关键词 逐圈束流位置测量 衰减率 局部凸轨 残余β振荡
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合肥光源束流闭轨局部调整和校正
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作者 宣科 王琳 +6 位作者 李川 李为民 王季刚 鲍循 刘功发 徐宏亮 刘祖平 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期903-905,共3页
针对特定实验站调整光源点位置的要求,设计了合肥光源储存环束流闭轨局部调整和校正系统,介绍了该系统的工作原理、硬件组成、软件设计及运行结果,设计要求束流闭轨局部调整的最大幅度为1~2mm,水平方向和垂直方向其余闭轨畸变均方根分... 针对特定实验站调整光源点位置的要求,设计了合肥光源储存环束流闭轨局部调整和校正系统,介绍了该系统的工作原理、硬件组成、软件设计及运行结果,设计要求束流闭轨局部调整的最大幅度为1~2mm,水平方向和垂直方向其余闭轨畸变均方根分别小于50和30μm。校正系统采用轨道设定法作为束流闭轨局部调整和校正算法,由束流轨道测量系统、校正铁系统和控制系统组成。运行结果显示:水平和垂直方向分别调节2.0和1.5mm,水平方向和垂直方向其余闭轨畸变均方根分别为45.14和27.62μm。 展开更多
关键词 同步辐射光源 束流闭轨 局部凸轨 校正
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合肥光源电子储存环束流闭轨的局部校正 被引量:7
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作者 李京纬 刘祖平 王筠华 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第2期291-295,共5页
在合肥同步辐射装置运行过程中,发生储存环的束流轨道偏移。利用现有设备对束流闭轨的位置进行了多次测量和分析,利用测量数据计算得到校正铁强度与束流位置之间移动的响应矩阵。并利用最小二乘法计算得到三个校正铁的凸轨系数,用于... 在合肥同步辐射装置运行过程中,发生储存环的束流轨道偏移。利用现有设备对束流闭轨的位置进行了多次测量和分析,利用测量数据计算得到校正铁强度与束流位置之间移动的响应矩阵。并利用最小二乘法计算得到三个校正铁的凸轨系数,用于束流闭轨的局部凸轨校正,取得了预期的效果。 展开更多
关键词 闭轨测量 闭轨畸变 电子储存环 束流闭轨
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基于MATLAB的合肥光源储存环束流轨道校正系统 被引量:4
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作者 丁石川 刘功发 +6 位作者 宣科 李为民 王琳 王季刚 李川 鲍循 郭卫群 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第9期1577-1580,共4页
闭轨畸变对合肥同步光源的束流质量产生负面影响,因此必须对闭轨畸变进行校正。本文介绍了基于MATLAB的合肥光源储存环束流轨道校正系统的工作原理、开发过程及测试结果。该系统由束流轨道测量系统、校正铁系统和控制系统组成,基于MATLA... 闭轨畸变对合肥同步光源的束流质量产生负面影响,因此必须对闭轨畸变进行校正。本文介绍了基于MATLAB的合肥光源储存环束流轨道校正系统的工作原理、开发过程及测试结果。该系统由束流轨道测量系统、校正铁系统和控制系统组成,基于MATLAB开发的束流轨道校正程序运行于操作员界面工作站上。首先对获取的束流轨道数据进行分析和计算,然后通过控制系统改变校正铁电源的电流以改变校正铁磁场强度,从而实现轨道校正。测试结果表明:束流轨道的最大畸变由校正前的4.468 mm下降到校正后的0.299 mm;标准方差(SDEV)由校正前的2.986 mm下降到校正后的0.087 mm。该系统达到了设计目标。 展开更多
关键词 束流轨道 校正系统 电子储存环 响应矩阵 全环校正 局部凸轨校正
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Preliminary study of residual orbit oscillation in BEPCⅡ 被引量:1
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作者 麻惠洲 徐刚 +5 位作者 雷革 曹建社 马力 张磊 岳军会 随艳峰 《Chinese Physics C》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第10期849-851,共3页
BEPCII has two rings each with an injection system. The injection system of each ring consists of two kicker magnets and a septum magnet. The injection layout of two rings is the same. Both two kickers would kick the ... BEPCII has two rings each with an injection system. The injection system of each ring consists of two kicker magnets and a septum magnet. The injection layout of two rings is the same. Both two kickers would kick the beam in horizontal plane. The betatron phase advance in the horizontal plane between two kickers is designed exactly 180° in order to reduce the perturbation to the circulating beams during injection. In fact, the residual orbit oscillation will originate because of the existence of a variety of errors. The Librea Electron BPM processor is used to acquire the beam position data in turn-by-turn mode and to analyze the residual orbit oscillation. According to the measurement results, minimization of the residual orbit oscillation can be done by adjusting the peak field strength and trigger timing delay of two kickers. With very small residual orbit oscillation the two beams can keep collision condition during the injection. 展开更多
关键词 local orbit bump residual orbit oscillation Librea Electron BPM processor turn-by-turn
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