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先驱体转化法制备低成本碳纤维增强陶瓷基复合材料研究
被引量:
6
1
作者
简科
林红吉
+1 位作者
陈朝辉
马青松
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期6-9,共4页
综述了影响碳纤维增强陶瓷基复合材料成本的主要因素 ,比较了采用不同先驱体原料和制备工艺制备的陶瓷基复合材料的制备周期、成本及性能 ,为先驱体转化制备低成本陶瓷基复合材料提供一些参考。
关键词
碳纤维增强
先驱体转化法
制备工艺
低成本
陶瓷基复合材料
原料
研究
性能
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职称材料
低成本PIP工艺制备陶瓷基复合材料研究进展
被引量:
5
2
作者
张曦挚
崔红
+1 位作者
胡杨
邓红兵
《航空制造技术》
CSCD
北大核心
2022年第13期110-116,共7页
聚合物浸渍裂解(Polymer infiltration pyrolysis,PIP)工艺简单,可以净尺寸成型复杂构件,在陶瓷基复合材料制备中有着广泛的应用。但是其先驱体合成工艺复杂、陶瓷产率低、价格昂贵,且PIP工艺周期长,使得生产成本高昂,影响其发展和工程...
聚合物浸渍裂解(Polymer infiltration pyrolysis,PIP)工艺简单,可以净尺寸成型复杂构件,在陶瓷基复合材料制备中有着广泛的应用。但是其先驱体合成工艺复杂、陶瓷产率低、价格昂贵,且PIP工艺周期长,使得生产成本高昂,影响其发展和工程化应用。从陶瓷先驱体的低成本研发与高效率的致密化工艺两部分对陶瓷基复合材料的低成本制造进行了综述。
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关键词
陶瓷基复合材料
低成本
先驱体
填料
PIP
混合工艺
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职称材料
铁路制梁场建设取证生产成本控制技术方案
被引量:
1
3
作者
王青蕊
《价值工程》
2015年第15期38-41,共4页
本文根据铁路制梁场建设、生产经验,结合制梁场认证取证的发展趋势、要求和取证过程存在问题,进行阐述,为高速铁路、客运专线、城际铁路等制梁场降低建设成本、促进平稳生产、顺利取证提供借鉴。
关键词
制梁场
建设
过程管理
取证
低成本
技术方案
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职称材料
低温精练剂的应用性能研究
4
作者
罗亮
何欢
+2 位作者
肖珍
邓东海
宫玉琢
《针织工业》
北大核心
2018年第12期46-48,共3页
传统练漂工艺能耗高、织物损伤大、排污严重,低温精练剂DM-1344是具有双氧水活化作用的低温精练剂。文中探讨了低温精练剂DM-1344的工艺条件对处理效果的影响,并进行生产实践,对比了低温练漂工艺与传统练漂工艺处理效果及成本。结果表明...
传统练漂工艺能耗高、织物损伤大、排污严重,低温精练剂DM-1344是具有双氧水活化作用的低温精练剂。文中探讨了低温精练剂DM-1344的工艺条件对处理效果的影响,并进行生产实践,对比了低温练漂工艺与传统练漂工艺处理效果及成本。结果表明,低温练漂工艺最佳工艺配方为:低温精练剂DM-1344 1.5 g/L、固体NaOH 2.0 g/L、27.5%H2O2 7.0 g/L,浴比1∶6~1∶10,温度85℃保温45 min;经该工艺处理后织物白度值达到71.1%,30 min毛效12.9 cm,可达到传统练漂工艺效果;低温练漂工艺降低了处理成本、节约能耗,比传统工艺耗气量减少19.4%,节约耗电量约12.5%,效率提升12.5%。
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关键词
棉针织物
低温精练
白度
毛效
能耗
成本
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
先驱体转化法制备低成本碳纤维增强陶瓷基复合材料研究
被引量:
6
1
作者
简科
林红吉
陈朝辉
马青松
机构
国防科技大学新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室
中国人民解放军海军装备技术研究所涂料室
出处
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第5期6-9,共4页
文摘
综述了影响碳纤维增强陶瓷基复合材料成本的主要因素 ,比较了采用不同先驱体原料和制备工艺制备的陶瓷基复合材料的制备周期、成本及性能 ,为先驱体转化制备低成本陶瓷基复合材料提供一些参考。
关键词
碳纤维增强
先驱体转化法
制备工艺
低成本
陶瓷基复合材料
原料
研究
性能
Keywords
low cost
,
precursor
,
polysiloxane
,
fabrication process
分类号
V25 [一般工业技术—材料科学与工程]
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
低成本PIP工艺制备陶瓷基复合材料研究进展
被引量:
5
2
作者
张曦挚
崔红
胡杨
邓红兵
机构
西安航天复合材料研究所
出处
《航空制造技术》
CSCD
北大核心
2022年第13期110-116,共7页
基金
国防科技创新特区项目(19H86303ZD102006)。
文摘
聚合物浸渍裂解(Polymer infiltration pyrolysis,PIP)工艺简单,可以净尺寸成型复杂构件,在陶瓷基复合材料制备中有着广泛的应用。但是其先驱体合成工艺复杂、陶瓷产率低、价格昂贵,且PIP工艺周期长,使得生产成本高昂,影响其发展和工程化应用。从陶瓷先驱体的低成本研发与高效率的致密化工艺两部分对陶瓷基复合材料的低成本制造进行了综述。
关键词
陶瓷基复合材料
低成本
先驱体
填料
PIP
混合工艺
Keywords
Ceramic matrix composite
low
-
cost
precursor
Filler
PIP
Hybrid
process
分类号
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
TQ174.1 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
题名
铁路制梁场建设取证生产成本控制技术方案
被引量:
1
3
作者
王青蕊
机构
中铁十七局集团有限公司
出处
《价值工程》
2015年第15期38-41,共4页
文摘
本文根据铁路制梁场建设、生产经验,结合制梁场认证取证的发展趋势、要求和取证过程存在问题,进行阐述,为高速铁路、客运专线、城际铁路等制梁场降低建设成本、促进平稳生产、顺利取证提供借鉴。
关键词
制梁场
建设
过程管理
取证
低成本
技术方案
Keywords
beam fabricating yard
construction
process
management
certification
low cost
technical solution
分类号
U448.5 [建筑科学—桥梁与隧道工程]
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职称材料
题名
低温精练剂的应用性能研究
4
作者
罗亮
何欢
肖珍
邓东海
宫玉琢
机构
广东德美精细化工集团股份有限公司
出处
《针织工业》
北大核心
2018年第12期46-48,共3页
文摘
传统练漂工艺能耗高、织物损伤大、排污严重,低温精练剂DM-1344是具有双氧水活化作用的低温精练剂。文中探讨了低温精练剂DM-1344的工艺条件对处理效果的影响,并进行生产实践,对比了低温练漂工艺与传统练漂工艺处理效果及成本。结果表明,低温练漂工艺最佳工艺配方为:低温精练剂DM-1344 1.5 g/L、固体NaOH 2.0 g/L、27.5%H2O2 7.0 g/L,浴比1∶6~1∶10,温度85℃保温45 min;经该工艺处理后织物白度值达到71.1%,30 min毛效12.9 cm,可达到传统练漂工艺效果;低温练漂工艺降低了处理成本、节约能耗,比传统工艺耗气量减少19.4%,节约耗电量约12.5%,效率提升12.5%。
关键词
棉针织物
低温精练
白度
毛效
能耗
成本
Keywords
Cotton Knitted Fabric
low
Temperature Scouring and Bleaching
process
Whiteness
Capillary Climbing
Energy Consumption
cost
分类号
TS192.2 [轻工技术与工程—纺织化学与染整工程]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,
low cost
and large-area
fabrication
to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful micro
fabrication
technology because of its ease of repetition and suitability for large-area
fabrication
[1].The diffraction limit,however,restricts the
fabrication
scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing
process
,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the
fabrication
of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are al
low
ed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,be
low
the metal film are specified,the coupling equation is shown as fol
low
stanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
先驱体转化法制备低成本碳纤维增强陶瓷基复合材料研究
简科
林红吉
陈朝辉
马青松
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2004
6
下载PDF
职称材料
2
低成本PIP工艺制备陶瓷基复合材料研究进展
张曦挚
崔红
胡杨
邓红兵
《航空制造技术》
CSCD
北大核心
2022
5
下载PDF
职称材料
3
铁路制梁场建设取证生产成本控制技术方案
王青蕊
《价值工程》
2015
1
下载PDF
职称材料
4
低温精练剂的应用性能研究
罗亮
何欢
肖珍
邓东海
宫玉琢
《针织工业》
北大核心
2018
0
下载PDF
职称材料
5
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
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