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0.6—2.75MeV质子引起的Ta、Au和Bi的M壳层X—线产生截面
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作者 刘兆远 马树勋 +3 位作者 杨坤山 张华林 陈熙萌 季瑷 《兰州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1991年第4期60-63,共4页
用0.6~2.75MeV质子轰击Ta、An和Bi薄靶,测得M—壳层X—线产生截面。实验结果与平面波玻恩近似(PWBA)理论计算值作了比较。
关键词 质子 m-壳层 电离截面
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