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VO_2薄膜相变及其温度滞后
被引量:
3
1
作者
胡再勇
徐楚韶
+1 位作者
杨绍利
陈光碧
《过程工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期421-424,共4页
以攀钢产V2O5为原料,采用无机胶体法制备电阻突变VO2薄膜,研究了VO2薄膜的电阻突变温度、突变数量级及其突变温度滞后. 结果表明,VO2薄膜相变温度为35oC,制备方法和衬底材质对VO2薄膜的电阻突变数量级有较大影响. 以普通玻璃和石英玻璃...
以攀钢产V2O5为原料,采用无机胶体法制备电阻突变VO2薄膜,研究了VO2薄膜的电阻突变温度、突变数量级及其突变温度滞后. 结果表明,VO2薄膜相变温度为35oC,制备方法和衬底材质对VO2薄膜的电阻突变数量级有较大影响. 以普通玻璃和石英玻璃作衬底、用H2还原法,可使VO2薄膜的电阻突变达到2-3个数量级,用N2热分解法仅能达到1.5~2个数量级;普通玻璃衬底上VO2薄膜的电阻突变数量级小于石英玻璃衬底上的VO2薄膜的电阻突变数量级. VO2薄膜的电阻突变温度滞后为1~6oC,电阻突变数量级、衬底材质和制备方法对其有较大影响.
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关键词
无机胶体法
m-s相变
温度滞后
二氧化钒薄膜
电阻突
变
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职称材料
工业VO_2薄膜的电阻突变及其稳定性
被引量:
3
2
作者
杨绍利
徐楚韶
+1 位作者
陈厚生
胡再勇
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期925-930,共6页
以工业V2 O5为原料 ,采用热分解法和还原法制备工业VO2 薄膜。研究了制备工艺参数对电阻突变的影响及其在自然放置条件下的稳定性。结果表明 :1)VO2 薄膜的电阻突变达到了 2 .0~ 3.4个数量级 ,突变温度约为 35℃ ,比纯VO2 薄膜突变温...
以工业V2 O5为原料 ,采用热分解法和还原法制备工业VO2 薄膜。研究了制备工艺参数对电阻突变的影响及其在自然放置条件下的稳定性。结果表明 :1)VO2 薄膜的电阻突变达到了 2 .0~ 3.4个数量级 ,突变温度约为 35℃ ,比纯VO2 薄膜突变温度约低 33℃ ;2 )石英玻璃上的VO2 薄膜的电阻突变数量级比普通玻璃上的大 ;3)H2 还原法制备的VO2 薄膜电阻突变数量级比N2 热分解法制备的大 ;4)在自然放置条件下短时间内VO2 薄膜可承受连续、反复多次的电阻突变 ,其突变数量级降低不多 ,突变温度滞后几乎没有变化 ;5 )同等条件下石英玻璃上的VO2 薄膜的电阻突变数量级降低较小。
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关键词
V2O5
VO2
薄膜
m-s相变
电阻突
变
稳定性
热分解法
还原法
二氧化钒
金属—半导体
相
变
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职称材料
由工业V_2O_5制取VO_2薄膜
被引量:
7
3
作者
杨绍利
徐楚韶
+1 位作者
陈厚生
胡再勇
《钢铁钒钛》
CAS
北大核心
2002年第2期7-10,共4页
以工业V2 O5为原料 ,采用N2 热分解法在普通玻璃和石英玻璃衬底上制备VO2 薄膜 ,在自制的电阻 -温度测量装置上测量VO2 薄膜的电阻随温度的变化。结果表明 :VO2 薄膜具有明显电阻突变特性 ,其相变达到了 1.5~ 2 .0个数量级 ,相变温度约...
以工业V2 O5为原料 ,采用N2 热分解法在普通玻璃和石英玻璃衬底上制备VO2 薄膜 ,在自制的电阻 -温度测量装置上测量VO2 薄膜的电阻随温度的变化。结果表明 :VO2 薄膜具有明显电阻突变特性 ,其相变达到了 1.5~ 2 .0个数量级 ,相变温度约为 35℃ ;VO2 薄膜的主要成分是二氧化钒 ,同时含有少量其它的钒化合物。
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关键词
V2O5
VO2
薄膜
热分解
m-s相变
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职称材料
题名
VO_2薄膜相变及其温度滞后
被引量:
3
1
作者
胡再勇
徐楚韶
杨绍利
陈光碧
机构
重庆大学材料科学与工程学院
出处
《过程工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期421-424,共4页
文摘
以攀钢产V2O5为原料,采用无机胶体法制备电阻突变VO2薄膜,研究了VO2薄膜的电阻突变温度、突变数量级及其突变温度滞后. 结果表明,VO2薄膜相变温度为35oC,制备方法和衬底材质对VO2薄膜的电阻突变数量级有较大影响. 以普通玻璃和石英玻璃作衬底、用H2还原法,可使VO2薄膜的电阻突变达到2-3个数量级,用N2热分解法仅能达到1.5~2个数量级;普通玻璃衬底上VO2薄膜的电阻突变数量级小于石英玻璃衬底上的VO2薄膜的电阻突变数量级. VO2薄膜的电阻突变温度滞后为1~6oC,电阻突变数量级、衬底材质和制备方法对其有较大影响.
关键词
无机胶体法
m-s相变
温度滞后
二氧化钒薄膜
电阻突
变
Keywords
inorganic colloid method
vanadium dioxide
thin film
m-s
phase transition
temperature hysteresis
分类号
TQ135.11 [化学工程—无机化工]
TQ427 [化学工程]
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职称材料
题名
工业VO_2薄膜的电阻突变及其稳定性
被引量:
3
2
作者
杨绍利
徐楚韶
陈厚生
胡再勇
机构
重庆大学材料科学与工程学院冶金系
攀枝花钢铁研究院综合室
出处
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期925-930,共6页
基金
攀枝花新钢钒股份有限公司 (新钢钒 )资助项目 (编号 :2 0 0 1外协 2 3)
文摘
以工业V2 O5为原料 ,采用热分解法和还原法制备工业VO2 薄膜。研究了制备工艺参数对电阻突变的影响及其在自然放置条件下的稳定性。结果表明 :1)VO2 薄膜的电阻突变达到了 2 .0~ 3.4个数量级 ,突变温度约为 35℃ ,比纯VO2 薄膜突变温度约低 33℃ ;2 )石英玻璃上的VO2 薄膜的电阻突变数量级比普通玻璃上的大 ;3)H2 还原法制备的VO2 薄膜电阻突变数量级比N2 热分解法制备的大 ;4)在自然放置条件下短时间内VO2 薄膜可承受连续、反复多次的电阻突变 ,其突变数量级降低不多 ,突变温度滞后几乎没有变化 ;5 )同等条件下石英玻璃上的VO2 薄膜的电阻突变数量级降低较小。
关键词
V2O5
VO2
薄膜
m-s相变
电阻突
变
稳定性
热分解法
还原法
二氧化钒
金属—半导体
相
变
Keywords
vanadium dioxide
vanadium pentoxide
thin film
resistance
m-s
phase transition
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
TB3 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
由工业V_2O_5制取VO_2薄膜
被引量:
7
3
作者
杨绍利
徐楚韶
陈厚生
胡再勇
机构
重庆大学材料科学与工程学院
攀枝花钢铁研究院
出处
《钢铁钒钛》
CAS
北大核心
2002年第2期7-10,共4页
文摘
以工业V2 O5为原料 ,采用N2 热分解法在普通玻璃和石英玻璃衬底上制备VO2 薄膜 ,在自制的电阻 -温度测量装置上测量VO2 薄膜的电阻随温度的变化。结果表明 :VO2 薄膜具有明显电阻突变特性 ,其相变达到了 1.5~ 2 .0个数量级 ,相变温度约为 35℃ ;VO2 薄膜的主要成分是二氧化钒 ,同时含有少量其它的钒化合物。
关键词
V2O5
VO2
薄膜
热分解
m-s相变
Keywords
V 2O 5
VO 2
thin film
thermal decomposition
m-s
phase transition
分类号
TB43 [一般工业技术]
O614.511 [理学—无机化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
VO_2薄膜相变及其温度滞后
胡再勇
徐楚韶
杨绍利
陈光碧
《过程工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2002
3
下载PDF
职称材料
2
工业VO_2薄膜的电阻突变及其稳定性
杨绍利
徐楚韶
陈厚生
胡再勇
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
3
下载PDF
职称材料
3
由工业V_2O_5制取VO_2薄膜
杨绍利
徐楚韶
陈厚生
胡再勇
《钢铁钒钛》
CAS
北大核心
2002
7
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职称材料
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