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双靶溅射法制备M-SmS光学薄膜的研究 被引量：3
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作者 黄剑锋 曹丽云 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2004年第1期1-3,共3页
为了制备难以直接获得的金属相SmS,以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上直接获得了常温常压下稳定存在的M SmS微晶薄膜,并采用XRD分析、内应力和RBS成分测试等手段对M SmS的形成机理进行了研究.结果表明:M SmS薄膜的... 为了制备难以直接获得的金属相SmS,以Sm和Sm2S3为靶材,采用双靶子溅射系统,于单晶Si基板上直接获得了常温常压下稳定存在的M SmS微晶薄膜,并采用XRD分析、内应力和RBS成分测试等手段对M SmS的形成机理进行了研究.结果表明:M SmS薄膜的形成是由于薄膜中存在压应力,压应力的形成与薄膜基板温度、薄膜沉积速率、薄膜中Sm元素过量以及基板之间膨胀系数的差异有关. 展开更多
关键词 双靶溅射法 制备工艺 m-sms光学薄膜 膨胀系数 硫化钐 半导体
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