用i线步进机生产64MDRAM

本文论述了用ｉ线（３６５ｎｍ）步进机进行６４ＭＤＲＡＭ芯片曝光技术。此前，我们曾试用常规的一步曝光法和ＮＡ＝０．５０的ｉ线镜头在采用和不用移相曝光技术的不同条件下进行整块６４ＭＤＲＡＭ芯片的曝光，从中发现在少数曝光层中存在曝光不足的情况。通过实验我们证明了应采用分块曝光法替代一步曝光法。分块曝光法是将一个单一“分步重复”图形芯片分划成多个小块进行曝光，从而可获得很高的图形分辨率。实验中采用ＮＡ＝０．６５的ｉ线镜头。我们还试着分析了由ｉ线步进机光照系统引起的相干现象和分块曝光的对准精度等问题。