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用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验
1
作者
朱丹峰
杜光天
+5 位作者
郭盘林
朱周侠
朱希恺
傅云清
胡伟
邹亚明
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期100-104,共5页
为给上海电子束离子阱(Electron Beam Ion Traps,EBIT)装置提供低电荷离子,我们研制了小型金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源,可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及...
为给上海电子束离子阱(Electron Beam Ion Traps,EBIT)装置提供低电荷离子,我们研制了小型金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源,可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验。实验结果显示,合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到10^8~10^9/cm^3。
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关键词
mevva
离子源
电子束离子阱
离子注入
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职称材料
聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源
被引量:
1
2
作者
王凯歌
王雷
+1 位作者
王鹏业
牛憨笨
《应用光学》
CAS
CSCD
2004年第1期5-8,38,共5页
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳...
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。
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关键词
微束斑X射线源
电子束离子源
电子束离子陷阱
离子光学聚束系统
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职称材料
上海EBIT装置微量气体注入系统的研制
3
作者
安双利
蒋迪奎
+1 位作者
郭盘林
张海鸥
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期1-4,共4页
本文介绍了上海电子束离子阱(EBIT)装置微量气体注入系统的成功研制。文中阐述了该系统的总体设计,并运用Maxwellian速度分布理论及几何光学模型描述和分析了整个注入过程,重点计算了注气效率和中心漂移管处分子密度。现已投入运行,实...
本文介绍了上海电子束离子阱(EBIT)装置微量气体注入系统的成功研制。文中阐述了该系统的总体设计,并运用Maxwellian速度分布理论及几何光学模型描述和分析了整个注入过程,重点计算了注气效率和中心漂移管处分子密度。现已投入运行,实验证明达到了设计指标,满足了实验使用要求。
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关键词
电子束离子阱
微量气体注入
几何光学模型
注气效率
分子密度
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职称材料
题名
用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验
1
作者
朱丹峰
杜光天
郭盘林
朱周侠
朱希恺
傅云清
胡伟
邹亚明
机构
中国科学院上海应用物理研究所
复旦大学现代物理研究所
出处
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期100-104,共5页
文摘
为给上海电子束离子阱(Electron Beam Ion Traps,EBIT)装置提供低电荷离子,我们研制了小型金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源,可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验。实验结果显示,合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到10^8~10^9/cm^3。
关键词
mevva
离子源
电子束离子阱
离子注入
Keywords
mevva ion source
,
electron beam ion traps
,
ion injection
分类号
TL503.3 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源
被引量:
1
2
作者
王凯歌
王雷
王鹏业
牛憨笨
机构
中科院物理研究所软物质实验室
西安应用光学研究所第
中科院西安光学精密机械研究所光电子部
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
2004年第1期5-8,38,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目 (6 98780 33)
文摘
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。
关键词
微束斑X射线源
电子束离子源
电子束离子陷阱
离子光学聚束系统
Keywords
microfocal X-ray
source
electron
beam
ion
source
electron
beam
ion
trap
ion
-optical focusing system
分类号
O434.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
上海EBIT装置微量气体注入系统的研制
3
作者
安双利
蒋迪奎
郭盘林
张海鸥
机构
中国科学院上海应用物理研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第1期1-4,共4页
文摘
本文介绍了上海电子束离子阱(EBIT)装置微量气体注入系统的成功研制。文中阐述了该系统的总体设计,并运用Maxwellian速度分布理论及几何光学模型描述和分析了整个注入过程,重点计算了注气效率和中心漂移管处分子密度。现已投入运行,实验证明达到了设计指标,满足了实验使用要求。
关键词
电子束离子阱
微量气体注入
几何光学模型
注气效率
分子密度
Keywords
electron
beam
ion
trap, Mini-quantity gas
injection
, Geometrical optics model,
injection
efficiency, Molecular density
分类号
TB71 [一般工业技术—真空技术]
TN107 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验
朱丹峰
杜光天
郭盘林
朱周侠
朱希恺
傅云清
胡伟
邹亚明
《核技术》
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
下载PDF
职称材料
2
聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源
王凯歌
王雷
王鹏业
牛憨笨
《应用光学》
CAS
CSCD
2004
1
下载PDF
职称材料
3
上海EBIT装置微量气体注入系统的研制
安双利
蒋迪奎
郭盘林
张海鸥
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
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引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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