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IBM与MII共同开发纳米压印光刻介电材料
1
《集成电路应用》 2005年第4期46-46,共1页
IBM公司与Molecular Imprints Inc．(MII)正合作开发介电材料，以推动面向主流芯片制造的纳米压印光刻(nano—imprint lithography)技术的开发。这是MII联合创始人兼美国德州大学化学工程系教授Grant Wilson日前在SPIE微光刻研讨会上透... IBM公司与Molecular Imprints Inc．(MII)正合作开发介电材料，以推动面向主流芯片制造的纳米压印光刻(nano—imprint lithography)技术的开发。这是MII联合创始人兼美国德州大学化学工程系教授Grant Wilson日前在SPIE微光刻研讨会上透露的。 展开更多
关键词 IBM公司 mii公司 纳米压印光刻介电材料 介电质
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