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涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合 被引量：2
1
作者 廖常俊 刘颂豪 +3 位作者 陈俊芳 刘剑 赵寿南 郑学仁 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期366-368,共3页
在用于发光器件制造的多层ＭＯＣＶＤ外延技术中，用高速氢气流冲洗管路、混合有机源获得晶格匹配好，而且界面过度层薄的突变异质结界面．
关键词 mocvd 突变异质结 高速扩散 半导体 有机源
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用涡轮MOCVD制作突变异质结和量子阱的气路压强分布的研究
2
作者 廖常俊 刘颂豪 +3 位作者 陈俊芳 刘剑 赵寿南 郑学仁 《华南师范大学学报（自然科学版）》 CAS 1998年第2期1-5,共5页
在用ＭＯＣＶＤ技术外延生长多层结构时，源材料的切换过程对生长界面的影响用高速氢气流冲洗管路、设计合理的压强配置而得到控制，获得了晶格匹配好而且介面过度层薄的突变异质结界面．给出了发黄光量子阱结构的气压与流量配置．
关键词 mocvd技术 突变异质结 发光器件 气路
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