期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
生长材料中掺杂杂质纵向分布的扩散生长理论
1
作者 刘宝钧 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1998年第5期308-311,共4页
从MOCVD和卤化物VPE的生长装置出发,分析了量子阱激光材料和微波电子材料中引入杂质的纵向分布程序过程。采用了掺入杂质分子经载体气体漂移扩散输运和生长过程中再扩散的数学物理理论,导出了掺杂杂质最终纵向浓度分布的数学... 从MOCVD和卤化物VPE的生长装置出发,分析了量子阱激光材料和微波电子材料中引入杂质的纵向分布程序过程。采用了掺入杂质分子经载体气体漂移扩散输运和生长过程中再扩散的数学物理理论,导出了掺杂杂质最终纵向浓度分布的数学定量解析式。根据本理论,提出了陡峭掺杂和均匀纵向浓度分布的工艺解决方案。 展开更多
关键词 外延生长 mocvd VPE 掺杂 量子阱材料 扩散
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部