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生长材料中掺杂杂质纵向分布的扩散生长理论
1
作者
刘宝钧
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期308-311,共4页
从MOCVD和卤化物VPE的生长装置出发,分析了量子阱激光材料和微波电子材料中引入杂质的纵向分布程序过程。采用了掺入杂质分子经载体气体漂移扩散输运和生长过程中再扩散的数学物理理论,导出了掺杂杂质最终纵向浓度分布的数学...
从MOCVD和卤化物VPE的生长装置出发,分析了量子阱激光材料和微波电子材料中引入杂质的纵向分布程序过程。采用了掺入杂质分子经载体气体漂移扩散输运和生长过程中再扩散的数学物理理论,导出了掺杂杂质最终纵向浓度分布的数学定量解析式。根据本理论,提出了陡峭掺杂和均匀纵向浓度分布的工艺解决方案。
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关键词
外延生长
mocvd
VPE
掺杂
量子阱材料
扩散
下载PDF
职称材料
题名
生长材料中掺杂杂质纵向分布的扩散生长理论
1
作者
刘宝钧
机构
天津师范大学
出处
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期308-311,共4页
基金
国家自然基金
文摘
从MOCVD和卤化物VPE的生长装置出发,分析了量子阱激光材料和微波电子材料中引入杂质的纵向分布程序过程。采用了掺入杂质分子经载体气体漂移扩散输运和生长过程中再扩散的数学物理理论,导出了掺杂杂质最终纵向浓度分布的数学定量解析式。根据本理论,提出了陡峭掺杂和均匀纵向浓度分布的工艺解决方案。
关键词
外延生长
mocvd
VPE
掺杂
量子阱材料
扩散
Keywords
mocvd
,
profile of longitudinal impurity
,
drift diffusion
分类号
TN304.054 [电子电信—物理电子学]
TN305.4 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
生长材料中掺杂杂质纵向分布的扩散生长理论
刘宝钧
《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
1998
0
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职称材料
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