应用于MOEMS器件的K9玻璃湿法刻蚀工艺的研究

介绍了以K9玻璃为基体材料MOEMS器件的湿法刻蚀工艺。选择了光刻胶,铬,氮化硅,ITO等多种材料作为基底材料抗腐蚀的掩膜,利用多种不同成分的刻蚀剂进行了对比刻蚀试验,研究了刻蚀环境温度对保护膜的影响。对比与分析了多种试验结果并对其适用范围进行了适当的评价。

透过封装材料来检验MEMS和MOEMS的表面特性

已经证实光学轮廓仪能成功地检验未封装MEMS器件的表面特性。可是，大部分器件必须在不同条件的封装之后，如真空、升高温度或其它特殊环境，才能做最终检验。文章描述了一种新型的干涉表面轮廓技术，用于在高倍率下透射封装介质来测量器件表面的特性。三项引入技术包括校正象差和长工作距离的物镜、有效照明系统、色散补偿技术。测试数据表明标准物镜和色散补偿物镜所测得的结果极为相近。