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瑞萨推出驱动器与MOSFET晶体管集成在一起的SiP
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《电子测试(新电子)》 2004年第6期99-99,共1页
关键词 瑞萨科技公司 驱动器 mosfet晶体管 SIP 单封装系统
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硅纳米管和纳米线场效应晶体管的模拟和比较 被引量:1
2
作者 朱兆旻 张存 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第4期209-213,235,共6页
从硅纳米管和纳米线场效应晶体管的结构出发,先用Silvaco公司的TCAD仿真软件模拟出硅纳米管和纳米线的电势分布,然后根据电势分布依次求出两种器件的有效哈密顿量、非平衡格林函数及自能函数和电子浓度,再从电子浓度推导出电流密度与电... 从硅纳米管和纳米线场效应晶体管的结构出发,先用Silvaco公司的TCAD仿真软件模拟出硅纳米管和纳米线的电势分布,然后根据电势分布依次求出两种器件的有效哈密顿量、非平衡格林函数及自能函数和电子浓度,再从电子浓度推导出电流密度与电压方程,并对其进行了分析比较。仿真结果显示,在沟道横截面积相同的情况下,纳米管器件的阈值电压比纳米线器件的高,且随管内外径之差的增加而减小。栅压比较大的情况下,在饱和区纳米管器件比纳米线器件能提供更大的驱动电流。两者在亚阈值区域表现相似,亚阈值摆幅分别为58和57 mV/dec。纳米管器件的饱和电压比纳米线器件的略小,在饱和区纳米管器件的电流更加平直,短沟道效应更不明显。 展开更多
关键词 纳米管 纳米线 非平衡格林函数 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) 器件建模
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金属氧化物半导体场效应晶体管中总剂量效应导致的阈值电压漂移研究现状
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作者 刘一宁 王任泽 +5 位作者 杨亚鹏 王宁 冯宗洋 贾林胜 张建岗 李国强 《辐射防护》 CAS CSCD 北大核心 2020年第6期663-670,共8页
为了研发可用于核与辐射应急响应与准备的机器人,对比了多种具有不同结构和生产工艺的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)由于总剂量效应(TID)导致的阈值电压漂移(ΔVth)。注意到了栅宽和栅长对器件耐辐射能力的影响在体CMOS器件和... 为了研发可用于核与辐射应急响应与准备的机器人,对比了多种具有不同结构和生产工艺的金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)由于总剂量效应(TID)导致的阈值电压漂移(ΔVth)。注意到了栅宽和栅长对器件耐辐射能力的影响在体CMOS器件和纳米线(NW)MOSFET器件之间、高的和低的工艺节点之间的不同,并从辐射诱导的窄通道效应(RINCE)和辐射诱导的短通道效应(RISCE)两方面解释了这种区别的原因。发现近年来前沿的一些研究在考虑辐射效应时,修正了负偏压不稳定性(NBTI)的影响。并讨论了几种新型器件包括锗沟道、氮化镓沟道管和具有特殊几何布局的晶体管。此外,介绍了计算机辅助设计技术(TCAD)在几种新型场效应管的机理研究和建模验证中的应用。 展开更多
关键词 总剂量效应(TID) 阈值电压漂移 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) TCAD
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SiC MOSFET单粒子漏电退化的影响因素
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作者 秦林生 汪波 +1 位作者 马林东 万俊珺 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第11期972-976,984,共6页
高压功率器件是未来航天器进一步发展的关键,对SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)等高压大功率器件的抗辐射研究亟待突破。在不同偏置条件下对器件的单粒子效应(SEE)进行实验,结果表明,SiC MOSFET单粒子漏电退化效应与漏源电... 高压功率器件是未来航天器进一步发展的关键,对SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)等高压大功率器件的抗辐射研究亟待突破。在不同偏置条件下对器件的单粒子效应(SEE)进行实验,结果表明,SiC MOSFET单粒子漏电退化效应与漏源电压、离子注量以及反向栅源电压呈正相关。为进一步研究SiC MOSFET单粒子效应机理,结合实验数据进行TCAD仿真,发现器件发生单粒子效应时存在两种失效模式,第一种失效模式与Si基MOSFET类似,而第二种失效模式与SiC器件的特有结构密切相关,容易形成更高的分布电压,导致栅氧化层烧毁失效。该结果为抗辐照加固器件的研究提供了理论支撑。 展开更多
关键词 SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(mosfet) 单粒子效应(SEE) 漏电退化 漏源电压 离子注量
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碳化硅MOSFET并联技术研究
5
作者 刘琳 成俊康 王志业 《通信电源技术》 2023年第8期45-47,共3页
碳化硅功率器件具有更高的开关频率和耐压特性,为了提高碳化硅功率驱动的过流能力,同时降低引线电感,设计一个由4个碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)并联的驱动模块。详... 碳化硅功率器件具有更高的开关频率和耐压特性,为了提高碳化硅功率驱动的过流能力,同时降低引线电感,设计一个由4个碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,MOSFET)并联的驱动模块。详细介绍了栅驱动器原理、印制电路板(Printed Circuit Board,PCB)布局以及静态和动态均流性能波形,通过分析验证了电阻等器件参数的差异对均流的影响。 展开更多
关键词 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) 开关频率 驱动 均流
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MOSFET桥式整流器在PC电源中的应用
6
作者 钟大兴 许于星 《通信电源技术》 2023年第7期123-125,共3页
在电源输入端将传统的二极管桥式整流器改为金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor,MOSFET)桥式整流器及相应的控制线路,可以大幅减少传统二极管桥式整流的导通损耗,且控制线路简单、稳定可... 在电源输入端将传统的二极管桥式整流器改为金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor,MOSFET)桥式整流器及相应的控制线路,可以大幅减少传统二极管桥式整流的导通损耗,且控制线路简单、稳定可靠性高。通过实测数据对比,在一款2000 W的大功率PC电源中,整机效率有所提高,能够轻松实现钛金牌效率的要求。 展开更多
关键词 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet)桥式整流器 控制线路 PC电源 效率等级
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SiC SBD与MOSFET温度传感器的特性
7
作者 张林 杨小艳 +3 位作者 高攀 张赞 胡笑钏 高恬溪 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期115-118,共4页
对SiC肖特基势垒二极管(SBD)和金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)温度传感器进行了理论分析与测试。基于器件的工作原理,分析了影响传感器灵敏度的因素,SiC SBD温度传感器的灵敏度主要受理想因子的影响,而SiC MOSFET温度传感器的灵... 对SiC肖特基势垒二极管(SBD)和金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)温度传感器进行了理论分析与测试。基于器件的工作原理,分析了影响传感器灵敏度的因素,SiC SBD温度传感器的灵敏度主要受理想因子的影响,而SiC MOSFET温度传感器的灵敏度主要受栅氧化层厚度等因素的影响。仿真结果表明,SiC MOSFET温度传感器的灵敏度随偏置电流下降或者栅氧化层厚度增加而上升。实测结果表明,两种传感器的最高工作温度均超过400℃,其中SiC SBD温度传感器在较宽的温度范围实现了更好的线性度,而SiC MOSFET温度传感器的灵敏度更高。研究结果表明,SiC MOSFET作为高温温度传感器具有灵敏度高和设计灵活度高等方面的显著优势。 展开更多
关键词 碳化硅 温度传感器 肖特基势垒二极管(SBD) 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) 高温
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高电流密度Ga2O3 MOSFET器件的研制
8
作者 田秀伟 马春雷 +3 位作者 刘沛 韩婷婷 宋旭波 吕元杰 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第10期740-744,786,共6页
研制了一款具有高漏源饱和电流密度的Ga2O3MOSFET器件。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在Fe掺杂半绝缘(010) Ga2O3同质衬底上外延得到n型β-Ga2O3薄膜材料,n型Ga2O3沟道层Si掺杂浓度为2. 0×10^(18)cm^(-3),n型沟道... 研制了一款具有高漏源饱和电流密度的Ga2O3MOSFET器件。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在Fe掺杂半绝缘(010) Ga2O3同质衬底上外延得到n型β-Ga2O3薄膜材料,n型Ga2O3沟道层Si掺杂浓度为2. 0×10^(18)cm^(-3),n型沟道厚度为80 nm。采用Si离子注入工艺,器件欧姆特性得到大幅改善,欧姆接触电阻降至1. 0Ω·mm。采用原子层沉积(ALD)厚度为25 nm的Hf O2作为器件的栅下绝缘介质层。测试结果表明,在栅偏压为0 V时,器件的开态导通电阻仅为65Ω·mm,漏源饱和电流密度达到173 m A/mm,器件的三端关态击穿电压达到120 V。 展开更多
关键词 氧化镓(Ga2O3) 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) 漏源饱和电流密度 离子注入 击穿电压
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基于EG1163S的降压开关电源设计
9
作者 刘冠男 王知学 +2 位作者 申刚 臧佳尉 朱静淑 《通信电源技术》 2024年第9期121-123,共3页
随着技术的进步,开关电源朝着小型、轻量及高效的方向发展。以高压大电流降压型直流/直流(Direct Current/Direct Current,DC/DC)电源管理芯片EG1163S和金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transisto... 随着技术的进步,开关电源朝着小型、轻量及高效的方向发展。以高压大电流降压型直流/直流(Direct Current/Direct Current,DC/DC)电源管理芯片EG1163S和金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor,MOSFET)为核心器件设计的降压型开关电源具有小型、低损耗及高效率的特点。该电源由滤波电路、DC/DC转换电路、限流保护电路以及金属氧化物半导体(Metal Oxide Semiconductor,MOS)管驱动电路等搭建而成,具有对高电压降压的功能,十分适用于高压大电流场合。 展开更多
关键词 直流/直流(DC/DC)电源 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) 高电压降压
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150V电荷耦合功率MOSFET的仿真 被引量:1
10
作者 李蕊 胡冬青 +4 位作者 金锐 贾云鹏 苏洪源 匡勇 屈静 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第12期902-907,共6页
电荷耦合是适用于中等电压功率MOSFET设计的先进设计理念之一,该设计思想旨在改善器件阻断态下的电场分布从而提高耐压。针对150V电荷耦合功率MOSFET双外延漂移区(分别为电荷耦合区N1区与非耦合区N2区)电荷匹配问题进行了仿真优化研... 电荷耦合是适用于中等电压功率MOSFET设计的先进设计理念之一,该设计思想旨在改善器件阻断态下的电场分布从而提高耐压。针对150V电荷耦合功率MOSFET双外延漂移区(分别为电荷耦合区N1区与非耦合区N2区)电荷匹配问题进行了仿真优化研究,结果表明:N1区和N2区浓度分别约为2.2×10^16cm^-3和4.5×10^15cm。时,电场分布更加均匀、耐压更高,且比导通电阻仅为1.306mQ·cm^2,即击穿电压和比导通电阻间达到最佳匹配。同时,还针对器件不同槽深进行了静态特性和动态特性的整体仿真优化研究,结果表明:槽深在7~9μm时,器件满足耐压要求且击穿电压随双漂移区掺杂浓度匹配程度变化较为平稳。最后,优化结构与传统槽栅MOSFET相比,其栅漏电容和栅电荷大幅降低,器件优值降低了约87%。 展开更多
关键词 金属氧化层半导体场效晶体管(mosfet) 变掺杂 电荷耦合 场板 低栅漏电容
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基于HfO2栅介质的Ga2O3 MOSFET器件研制 被引量:2
11
作者 韩婷婷 吕元杰 +3 位作者 刘沛 敦少博 顾国栋 冯志红 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期177-180,232,共5页
采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在(010)Fe掺杂半绝缘Ga2O3同质衬底上外延得到n型β-Ga2O3薄膜材料,材料结构包括400 nm的非故意掺杂Ga2O3缓冲层和40 nm的Si掺杂Ga2O3沟道层。基于掺杂浓度为2.0×1018cm-3的n型β-Ga2O3薄... 采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)方法在(010)Fe掺杂半绝缘Ga2O3同质衬底上外延得到n型β-Ga2O3薄膜材料,材料结构包括400 nm的非故意掺杂Ga2O3缓冲层和40 nm的Si掺杂Ga2O3沟道层。基于掺杂浓度为2.0×1018cm-3的n型β-Ga2O3薄膜材料,采用原子层沉积的25 nm的HfO2作为栅下绝缘介质层,研制出Ga2O3金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。器件展示出良好的电学特性,在栅偏压为8 V时,漏源饱和电流密度达到42 m A/mm,器件的峰值跨导约为3.8 m S/mm,漏源电流开关比达到108。此外,器件的三端关态击穿电压为113 V。采用场板结构并结合n型Ga2O3沟道层结构优化设计能进一步提升器件饱和电流和击穿电压等电学特性。 展开更多
关键词 β-Ga2O3 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) HfO2介质层 FE掺杂 漏源饱和电流 击穿电压
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大电流下SiC MOSFET模块的暂态温度特性研究 被引量:2
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作者 李占涛 陆海峰 《电气传动》 2021年第8期60-64,共5页
由于碳化硅(SiC)的材料特性,在极端温度下,碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)相对传统硅基器件有突出优势。目前对SiC MOSFET暂态温度特性的研究,主要以单管小电流实验为主,大电流下暂态温度特性的研究还不充分。为分析... 由于碳化硅(SiC)的材料特性,在极端温度下,碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)相对传统硅基器件有突出优势。目前对SiC MOSFET暂态温度特性的研究,主要以单管小电流实验为主,大电流下暂态温度特性的研究还不充分。为分析和验证大电流下暂态温度这一特性,在理论分析的基础上,以CREE 1200 V/300 A半桥SiC MOSFET模块为研究对象,通过双脉冲测试平台研究SiC MOSFET模块及其驱动电路在不同温度环境下的暂态性能。对比分析了不同温度下开关时间、开关损耗、电应力及电流、电压过冲的差异,实验结果对SiC MOSFET模块在大电流下的选型和驱动设计具有一定的参考意义。 展开更多
关键词 碳化硅(SiC) 金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC mosfet) 温度特性 模块 大电流
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采用T型栅结构的高性能Ga2O3 MOSFET
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作者 马灵 吕元杰 +2 位作者 刘宏宇 蔡树军 冯志红 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第6期444-448,共5页
基于n型β-Ga2O3制备了具有T型栅结构的高性能Ga2O3金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在Fe掺杂的半绝缘β-Ga2O3衬底上同质外延生长200 nm厚的Si掺杂n型β-Ga2O3沟道层,掺杂浓度为5×10^17 ... 基于n型β-Ga2O3制备了具有T型栅结构的高性能Ga2O3金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)。采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在Fe掺杂的半绝缘β-Ga2O3衬底上同质外延生长200 nm厚的Si掺杂n型β-Ga2O3沟道层,掺杂浓度为5×10^17 cm^-3。器件采用栅长为1μm的T型栅结构,栅源间距为2μm,栅漏间距为18μm;采用原子层沉积(ALD)法生长的高介电常数氧化铪(HfO2)作为栅介质。研制的器件漏源饱和电流密度达到115.8 mA/mm,比导通电阻为52.82 mΩ·cm^2。T型栅结构有效抑制了Ga2O3沟道中的峰值电场强度,提升了器件的耐压特性;而高介电常数的HfO2介质有效降低了器件的漏电流,器件的击穿电压达到1953 V,开关比高达109,器件功率品质因子为77.2 MV/cm^2。 展开更多
关键词 氧化镓(Ga2O3) 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) T型栅 击穿电压 功率品质因子
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6.5 kV SiC MOSFET的优化及开关特性
14
作者 魏晓光 张文婷 +3 位作者 申占伟 田丽欣 孙国胜 杨霏 《半导体技术》 CAS 北大核心 2022年第8期612-620,共9页
优化设计了电力系统用6.5 kV SiC MOSFET,测得该器件的导通电流为25 A,阻断电压为6800 V,器件的巴利加优值(BFOM)达到925 MW/cm^(2)。基于感性负载测试电路测试了器件的高压开关瞬态波形。在此基础上,借助仿真软件构建6.5 kV SiC MOSFE... 优化设计了电力系统用6.5 kV SiC MOSFET,测得该器件的导通电流为25 A,阻断电压为6800 V,器件的巴利加优值(BFOM)达到925 MW/cm^(2)。基于感性负载测试电路测试了器件的高压开关瞬态波形。在此基础上,借助仿真软件构建6.5 kV SiC MOSFET芯片级和器件级仿真模型,通过改变器件元胞结构、阱区掺杂浓度、栅极电阻、寄生电感等参数,研究了6.5 kV SiC MOSFET开关瞬态过程和电学振荡影响因素。结果表明,减小结型场效应晶体管(JFET)宽度有利于提高器件dV/dt能力,而源极寄生电感和栅极电阻是引起栅极电压振荡的重要因素。研究结果有助于分析研究6.5 kV SiC MOSFET在智能电网应用中的开关特性,使得基于SiC MOSFET的功率变换器系统具有更低的损耗、更高的频率和更高的可靠性。 展开更多
关键词 碳化硅(SiC) 金属-氧化物-半导体场效应晶体管(mosfet) 开关瞬态 栅电荷 栅极电压振荡
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MOSFET栅氧泄漏隧穿电流的分析模型:量子力学研究(英文)
15
作者 Amit Chaudhry Jatindra Nath Roy 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第6期357-364,共8页
研发了一种通过MOSFET的超薄栅氧化物分析直接隧穿电流密度的模型。采用Wentzel-Kramers-Brilliouin(WKB)近似计算了隧穿概率,利用清晰的表面势方程改进模型的准确性。在研究模型中考虑了Si衬底中反型层的量子化和多晶硅栅耗尽,还研究... 研发了一种通过MOSFET的超薄栅氧化物分析直接隧穿电流密度的模型。采用Wentzel-Kramers-Brilliouin(WKB)近似计算了隧穿概率,利用清晰的表面势方程改进模型的准确性。在研究模型中考虑了Si衬底中反型层的量子化和多晶硅栅耗尽,还研究了多晶硅掺杂对栅氧化层隧穿电流的影响。仿真结果表明,栅氧化层隧穿电流随多晶硅栅掺杂浓度的增加而增加。该结论与已报道的结果相吻合,从而证明了该模型的正确性。 展开更多
关键词 反型层量子化 隧穿模型 Wentzel-Kramers-Brilliouin(WKB)近似 多晶硅栅 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet)
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基于MOSFET的大功率快速放大器技术研究
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作者 许守东 陈勇 +2 位作者 李胜男 何鑫 冯自权 《价值工程》 2017年第31期109-112,共4页
目前变电站二次设备测试时主要采取分体测试,整体通流的方法。无法实现整体测试的原因主要受限于大功率电流放大器技术,一方面是因为放大器体积庞大,笨重,电源功率要求较高,变电站现场安装移动困难;另一方面是大电流输出幅值、负载、电... 目前变电站二次设备测试时主要采取分体测试,整体通流的方法。无法实现整体测试的原因主要受限于大功率电流放大器技术,一方面是因为放大器体积庞大,笨重,电源功率要求较高,变电站现场安装移动困难;另一方面是大电流输出幅值、负载、电流精度、电流响应速度不能满足要求。基于MOSFET的大功率快速放大器技术能够实现电流放大器2000A的电流输出,同时电流输出响应速度小于500us,体积小,重量轻,移动方便,使二次设备现场整体测试成为现实,对变电站调试检修具有重大的意义。 展开更多
关键词 金属-氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) 大功率 快速 响应时间 整体测试
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TPAK SiC车用电机控制器功率单元的并联均流设计与实现
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作者 张泽 谭会生 +2 位作者 戴小平 张驾祥 严舒琪 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第9期755-763,共9页
SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)作为车用电机控制器功率单元的核心器件,其并联不均流问题是影响电机控制器安全稳定运行的关键因素。对于热增强塑料封装(TPAK)SiC MOSFET功率模块实际应用中的不均流问题,首先通过理论推导... SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)作为车用电机控制器功率单元的核心器件,其并联不均流问题是影响电机控制器安全稳定运行的关键因素。对于热增强塑料封装(TPAK)SiC MOSFET功率模块实际应用中的不均流问题,首先通过理论推导和仿真,对影响SiC并联均流的器件参数、功率回路参数、驱动回路参数进行了全面的分析总结。然后结合仿真结果对电机控制器进行均流优化设计,其中包括对TPAK SiC MOSFET进行测试、筛选和分析,减小器件参数分散性的影响;基于器件开关特性,对功率模块的驱动回路采用单驱动器多推挽结构,减小驱动回路对并联均流的影响;设计了一种叠层母排结构,在ANSYS Q3D中提取到功率回路寄生电感为9.649 nH,采用ANSYS Q3D和Simplorer进行联合双脉冲仿真,电流不均衡度小于3%。最后,进行了电机控制器样机的试制及测试,实际测试结果表明电流不均衡度小于5%,验证了在车用电机控制器应用中TPAK SiC MOSFET模块均流设计的可行性。 展开更多
关键词 热增强塑料封装(TPAK) SiC金属-氧化物-半导体场效应晶体管(mosfet) 电机控制器 寄生参数 并联均流
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基于51单片机的新型蓄电池容量检测仪 被引量:7
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作者 夏桂书 《中国测试》 CAS 北大核心 2013年第5期68-71,共4页
为对蓄电池进行准确的容量测试,设计一种基于51单片机的新型蓄电池容量检测仪。该装置通过恒流电路控制蓄电池的放电,然后通过A/D转换采样,采集并存储蓄电池在放电过程中的放电电压值样本得到放电曲线,计算出被测蓄电池的准确容量,通过... 为对蓄电池进行准确的容量测试,设计一种基于51单片机的新型蓄电池容量检测仪。该装置通过恒流电路控制蓄电池的放电,然后通过A/D转换采样,采集并存储蓄电池在放电过程中的放电电压值样本得到放电曲线,计算出被测蓄电池的准确容量,通过蓄电池电压能够快速估算出该时刻对应电池剩余容量值。测试结果表明:该容量检测仪精度良好,测量误差在1%以内,能够快速准确判定蓄电池剩余容量,具有较高的实用性与推广价值。 展开更多
关键词 蓄电池 容量检测 mosfet晶体管 快速测量 51单片机
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同步整流降压变换器功率损耗分析与研究 被引量:4
19
作者 龚武威 林国庆 段峻 《江苏电器》 2008年第3期11-14,共4页
损耗分析对电路的优化设计起着至关重要的作用。对同步整流降压(BUCK)变换器中的各个元器件做了损耗分析和计算。给出了各元器件的损耗原因和计算方法,并以ADP1828芯片控制的BUCK电路对计算方法进行了效率验证。实际测得的效率曲线与计... 损耗分析对电路的优化设计起着至关重要的作用。对同步整流降压(BUCK)变换器中的各个元器件做了损耗分析和计算。给出了各元器件的损耗原因和计算方法,并以ADP1828芯片控制的BUCK电路对计算方法进行了效率验证。实际测得的效率曲线与计算得出的效率曲线结果较为接近。 展开更多
关键词 损耗分析 BUCK电路 mosfet晶体管
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用于高速成像的紧凑式像增强器门控脉冲发生器 被引量:5
20
作者 郭明安 杨少华 +7 位作者 罗通顶 杜继业 高帅 严明 李刚 刘璐 李斌康 刘偲 《现代应用物理》 2016年第4期67-72,共6页
利用5 V数字逻辑电路、多种高低压高速金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)及8路3级驱动电路,逐步提升MOSFET管的能力。利用输入触发信号控制产生具有一定时序关系的8路初级驱动信号,再经过次级驱动电路,提升为8路中高压驱动信号,加... 利用5 V数字逻辑电路、多种高低压高速金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)及8路3级驱动电路,逐步提升MOSFET管的能力。利用输入触发信号控制产生具有一定时序关系的8路初级驱动信号,再经过次级驱动电路,提升为8路中高压驱动信号,加速输出级开关,产生高性能的双极性门控信号。该门控脉冲发生器工作电源电压为12V,输出电压为50^-200V,输出脉冲前后沿均为1.5ns,输出信号的脉冲宽度由输入信号控制调节,可在最小输出脉冲宽度3ns至直流信号之间变化。脉冲工作时,最大重频为3.3 MHz,固有延迟为50ns,触发晃动小于0.2ns,体积为86mm×43mm×23mm。 展开更多
关键词 像增强器 金属氧化物半导体场效应晶体管(mosfet) 阴极门控发生器
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