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MOVPE法在In0.52Al0.48As上沉积PdAl肖特基结
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作者 青春 《电子材料快报》 1996年第7期11-12,共2页
关键词 半导体 movpe法 INALAS PdAe 肖特基结
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MOVPE法用新先驱体生长ZnS外延层
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作者 晓晔 《电子材料快报》 1996年第6期5-6,共2页
关键词 半导体 movpe法 ZNS 外延层 光电器件
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MOVPE生长Al_(0.35)Ga_(0.65)As/GaAs量子阱结构的光致发光 被引量:1
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作者 董建荣 陆大成 +3 位作者 汪度 王晓晖 刘祥林 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第4期252-256,共5页
用常压MOVPE系统,采用AsH3、国产TMGa和TMAI生长了AI0.35Ga0.65As/GaAs多量子阱结构.在11K下,宽度为10A的阱PL半峰竞最窄为12meV,表明量子阱结构具有陡峭的界面.光致发光(PL... 用常压MOVPE系统,采用AsH3、国产TMGa和TMAI生长了AI0.35Ga0.65As/GaAs多量子阱结构.在11K下,宽度为10A的阱PL半峰竞最窄为12meV,表明量子阱结构具有陡峭的界面.光致发光(PL)测试结果显示,较低的生长速率和适当的生长中断时间有利于改善PL半峰宽. 展开更多
关键词 movpe法 ALGAAS GAAS 量子阱结构 光致发光
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用冷壁MO—chloride VPE法生长GaP
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作者 刘春香 《电子材料快报》 1995年第5期15-16,共2页
关键词 化合物半导体 GAP movpe法
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InGaN光致发光性质与温度的关系 被引量:6
5
作者 樊志军 刘祥林 +1 位作者 万寿科 王占国 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期569--57,共1页
分析了用金属有机物气相外延方法 (MOVPE)在蓝宝石衬底上生长的铟镓氮 (In Ga N)的光致发光 (PL)性质 .发现在 4.7K至 30 0 K范围内 ,随着温度升高 ,In Ga N带边辐射向低能方向移动 ,峰值变化基本符合 Varshni经验公式 ;同时 In Ga N发... 分析了用金属有机物气相外延方法 (MOVPE)在蓝宝石衬底上生长的铟镓氮 (In Ga N)的光致发光 (PL)性质 .发现在 4.7K至 30 0 K范围内 ,随着温度升高 ,In Ga N带边辐射向低能方向移动 ,峰值变化基本符合 Varshni经验公式 ;同时 In Ga N发光强度虽有所衰减 ,但比 Ga N衰减程度小 ,分析了导致 Ga N和 In Ga N光致发光减弱的可能因素 . 展开更多
关键词 INGAN 变温 光致发光性质 铟镓氮 movpe法
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