曲面磁流变抛光工艺与抛光头结构分析

由磁流变抛光材料去除机理出发,阐述了磁流变抛光去除函数传递的工艺流程特点,明确抛光过程中对抛光轮与工件位置关系恒定的工艺要求。在此基础上,针对设计的磁流变抛光头结构,结合抛光轮轮廓外形与整个抛光头结构特征点计算法,对可加工曲面工件曲率半径和曲面角度范围及其影响因素进行了分析,给出了整个工艺过程中带动测头升降的气缸分别在加工位置和测量位置所需的行程及计算方法,并指出测头设计安装原则。结论可用于异形结构工具曲面加工设备的分析与设计。

基于华中数控的PKC-1000P2磁流变抛光机床控制系统设计与开发

根据磁流变抛光工艺特点,以华中HNC-818B型数控系统和S7-300为基础平台,构建了PKC-1000P2磁流变抛光机床控制系统。介绍了机床控制系统的组成、功能、软件架构。用STEP7开发了循环系统控制软件,用Wincc Flexible 2008开发了双循环系统人机交互界面,用VC6.0开发了双抛光头专用图形化HMI软件并与华中数控系统无缝集成,并开发了专用工艺固定循环指令。

双磨头磁流变抛光机床测控系统研制

根据磁流变抛光工艺特点,以西门子840D数控系统为基础平台,构建了一套双磨头磁流变抛光机床测控系统。介绍了测控系统的组成、功能和软件架构。基于OEM软件包用VB开发了图形化的人机界面,实现了双磨头组合模式控制、磨头状态监测和磨头系统管理;开发了通用化的工件位姿测量、缎带厚度标定、抛光斑采集等磁流变抛光专用过程自动控制工艺,并实现了磁流变专用测控系统与西门子840D数控系统的无缝集成。应用结果表明:该测控系统能有效提高磁流变机床的灵活性、易用性和可靠性。

考虑表观滑移效应的磁流变液减振器阻尼特性研究

为进一步研究磁流变液减振器阻尼特性,将磁流变液当作一种由刚性悬浮颗粒与液体载液构成的高浓度悬浮液,考察其表观滑移对磁流变液减振器阻尼特性的影响。在对被简化成平行平板模型的磁流变液减振器环形阻尼通道内的流场进行分析时,针对磁流变液在磁场作用下磁性颗粒重排而导致液体中刚性粒子等效粒径增加的现象,在理论分析中考虑了磁流变液的表观滑移边界条件,并将其引入到Herschel-Bulkley模型中,从而将环形阻尼通道中的流场划分为3个区域,即表观滑移区、屈服区与非屈服区,分别对3个区域的流变学特性进行分析,推出了减振器输出阻尼力计算公式,与同条件下不考虑表观滑移时的阻尼力进行了对比。设计了双线圈式环形阻尼通道与旁通小孔并联型电磁活塞头,磁路模型通过了有限元验证,同时根据中国产某轿车悬架参数要求设计并制造了磁流变液减振器样机,通过台架测试得到了圆润饱满的示功特性曲线。结果表明:表观滑移会降低减振器的阻尼系数,且在窄通道、低流速与高磁场条件下表观滑移对输出阻尼力的影响较明显;设计的旁通小孔和浮动活塞分别有良好的泄流与体积补偿作用;活塞峰值速率为0.3m·s^(-1)时的理论阻尼力与试验测试阻尼力之间的最大偏差只有180N,说明考虑了表观滑移的理论模拟结果与试验测试结果能较好地吻合。