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水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜装置研制 被引量：1
1
作者 舒兴胜 邬钦崇 《真空与低温》 2001年第1期15-17,20,共4页
微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积，研制成功了水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜的装置。装置在微波输入功率为 3.0 kW时能长时间稳定运行，并在硅衬底上沉积出金... 微波等离子体化学气相沉积 (MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积，研制成功了水冷反应室式 MWPCVD制备金刚石膜的装置。装置在微波输入功率为 3.0 kW时能长时间稳定运行，并在硅衬底上沉积出金刚石膜。 展开更多
关键词 mwpcvd装置 稳定运行 金刚石膜 制备装置 微波等离子体化学气相沉积
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MWPCVD制备金刚石膜装置的大功率稳定运行的研究
2
作者 舒兴胜 邬钦崇 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2001年第7期88-90,共3页
介绍了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜装置的结构和工作原理 ,着重讨论了该装置长时间大功率稳定运行的措施。该装置在微波输入功率为 3 0kW时能长时间稳定运行。
关键词 mwpcvd装置 稳定运行 微波功率 金刚石膜 薄膜制备装置 结构
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