柔性基底薄膜在磁控溅射镀膜领域的应用研究

聚乙烯醇(PVA)薄膜、聚酰亚胺(PI)薄膜、聚酯(PET)薄膜是磁控溅射时使用的几种典型柔性基底薄膜,其主要性能参数有耐温、放气率、拉伸强度和复合强度等,这些性能的好坏是选用磁控溅射柔性基底薄膜的重要标准。本文通过对比磁控溅射镀膜时所用的几种柔性基底薄膜的使用性能,给出了适合磁控溅射制备微屑的柔性基底薄膜和制备多层膜的柔性基底薄膜。

Mg/PTFE薄膜制备与性能表征

以镁(Mg)为可燃物质,聚四氟乙烯(PTFE)为氧化剂,利用磁控溅射和真空蒸镀两种方法,制备薄膜烟火器件,研究两种制膜工艺在性能上的差异,并对其附着力、薄膜粒度和燃速进行了测量。结果表明,磁控溅射制得的薄膜附着力为35.88mN,粒度为0.1～0.5μm,燃速为(623.9±12.5)mm.s-1,其主要性能优于真空蒸镀法制得的薄膜。