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Effect of frequency and pulse-on time of high power impulse magnetron sputtering on deposition rate and morphology of titanium nitride using response surface methodology 被引量:6
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作者 Saeed GHASEMI Ali Reza FARHADIZADEH Hamid GHOMI 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第12期2577-2590,共14页
Titanium nitride thin films were deposited on silicon by high power impulse magnetron sputtering(HiPIMS)method at different frequencies(162-637 Hz)and pulse-on time(60-322μs).Response surface methodology(RSM)was empl... Titanium nitride thin films were deposited on silicon by high power impulse magnetron sputtering(HiPIMS)method at different frequencies(162-637 Hz)and pulse-on time(60-322μs).Response surface methodology(RSM)was employed to study the simultaneous effect of frequency and pulse-on time on the current waveforms and the crystallographic orientation,microstructure,and in particular,the deposition rate of titanium nitride at constant time and average power equal to 250 W.The crystallographic structure and morphology of deposited films were analyzed using XRD and FESEM,respectively.It is found that the deposition rate of HiPIMS samples is tremendously dependent on pulse-on time and frequency of pulses where the deposition rate changes from 4.5 to 14.5 nm/min.The regression equations and analyses of variance(ANOVA)reveal that the maximum deposition rate(equal to(17±0.8)nm/min)occurs when the frequency is 537 Hz and pulse-on time is 212μs.The experimental measurement of the deposition rate under this condition gives rise to the deposition rate of 16.7 nm/min that is in good agreement with the predicted value. 展开更多
关键词 high powder impulse magnetron sputtering(HiPIMS) titanium nitride response surface methodology(RSM) deposition rate analyses of variance(ANOVA)
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Preparation and Properties of Cu-Containing High-entropy Alloy Nitride Films by Magnetron Sputtering on Titanium Alloy
2
作者 DENG Wanrong YANG Wei +5 位作者 YU Sen LAN Nan MA Xiqun WANG Liqun GAO Wei CHEN Jian 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第6期1586-1594,共9页
Magnetron sputtering deposition with regulated Cu target power was used for depositing Cu-containing high-entropy alloy nitride(Cu-(HEA)N)films on TC4 titanium alloy substrates.The microscopic morphologies,surface com... Magnetron sputtering deposition with regulated Cu target power was used for depositing Cu-containing high-entropy alloy nitride(Cu-(HEA)N)films on TC4 titanium alloy substrates.The microscopic morphologies,surface compositions,and thicknesses of the films were characterized using SEM+EDS;the anti-corrosion,wear resistance and antibacterial properties of the films in simulated seawater were investigated.The experimental results show that all four Cu-(HEA)N films are uniformly dense and contained nanoparticles.The film with Cu doping come into contact with oxygen in the air to form cuprous oxide.The corrosion resistance of the(HEA)N film without Cu doping on titanium alloy is better than the films with Cu doping.The Cu-(HEA)N film with Cu target power of 16 W shows the best wear resistance and antibacterial performance,which is attributed to the fact that Cu can reduce the coefficient of friction and exacerbate corrosion,and the formation of cuprous oxide has antibacterial properties.The findings of this study provide insights for engineering applications of TC4 in the marine field. 展开更多
关键词 titanium alloy high-entropy alloy nitride film magnetron sputtering properties
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用XPS和AFM等方法研究氮化钛薄膜的物理化学特性 被引量:8
3
作者 江宁 沈耀根 +1 位作者 张寒洁 鲍世宁 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期459-464,共6页
采用反应非平衡磁控溅射方法制备了氮化钛 (TiN)薄膜 ,沉积时的衬底偏压的范围从 0V到 - 5 0 0V。实验结果表明 :TiN薄膜的物理特性和力学性能随衬底偏压变化 ,最佳的薄膜硬度与弹性模量在偏压为 - 10 0V时得到。AFM的测量结果显示薄膜... 采用反应非平衡磁控溅射方法制备了氮化钛 (TiN)薄膜 ,沉积时的衬底偏压的范围从 0V到 - 5 0 0V。实验结果表明 :TiN薄膜的物理特性和力学性能随衬底偏压变化 ,最佳的薄膜硬度与弹性模量在偏压为 - 10 0V时得到。AFM的测量结果显示薄膜的表面形貌和粗糙度随衬底偏压变化有一个非线性的变化趋势 ,同样的趋势也出现在Ti2p和N1s的芯态能谱上。特定谱峰的强度和位置的变化预示着偏压引起的薄膜成分和化学态的变化 ,XPS的结果表明 :适当的偏压有助于TiN的成键 ,稳定的化学结构防止了表面的氧化和扩散 ,抑制了杂质和缺陷的形成 ,良好的机械特性归于表面形貌的改善。 展开更多
关键词 衬底偏压 xps 能谱 化学态 薄膜成分 非平衡磁控溅射 表面形貌 薄膜硬度 氮化钛薄膜 afm
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磁控溅射陶瓷靶制备氧化铟锡薄膜的XPS和AFM研究 被引量:2
4
作者 常天海 《真空与低温》 2003年第2期98-101,共4页
研究了磁控溅射陶瓷靶制备的氧化铟锡薄膜的微观结构和光电性能;给出了它的XPS、AFM分光光度计测试结果。结果表明:氧化铟锡膜内部Sn以SnO2相存在,In以In2O3相存在,含量分别在5.8%和85.0%左右;薄膜表面十分致密,呈多晶球状微粒均匀分布... 研究了磁控溅射陶瓷靶制备的氧化铟锡薄膜的微观结构和光电性能;给出了它的XPS、AFM分光光度计测试结果。结果表明:氧化铟锡膜内部Sn以SnO2相存在,In以In2O3相存在,含量分别在5.8%和85.0%左右;薄膜表面十分致密,呈多晶球状微粒均匀分布,平均粒径为50nm;可见波段光透过率全部超过80%,近红外反射率也较高,在2500nm处达到70%,电阻率为2.7×10-4Ω·cm,禁带宽度Eg≥3.35eV。 展开更多
关键词 磁控溅射 陶瓷靶 氧化铟锡薄膜 xps afm 分光光度计 光电性能 微观结构
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Microstructure and Mechanical Property of Magnetron Sputtering Deposited DLC Film 被引量:2
5
作者 孙泽 ZHAO Wen 孔德军 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2018年第3期579-584,共6页
A diamond-like carbon(DLC) film was deposited on YT14 substrate using magnetron sputtering(MS). The surface morphologies, roughness and bonding spectra of obtained film were characterized using scanning electron m... A diamond-like carbon(DLC) film was deposited on YT14 substrate using magnetron sputtering(MS). The surface morphologies, roughness and bonding spectra of obtained film were characterized using scanning electron microscopy(SEM), atomic force microscopy(AFM), and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS), respectively, and its mechanical property and bonding strength were measured using a nanoindentation and scratch tester, respectively. The results show that the C-enriched DLC film exhibits a denser microstructure and smoother surface with lower surface roughness of 21.8 nm. The ratio of C sp2 at 284.4 e V that corresponds to the diamond(111) and the C sp3 at 285.3 e V that corresponds to the diamond(220) plane for the as-received film is 0.36: 0.64, showing that the C sp3 has the high content. The hardness and Young's modulus of DLC film by nanoindentation are 8.534 41 and 142.158 1 GPa, respectively, and the corresponding bonding strength is 74.55 N by scratch test. 展开更多
关键词 diamond-like carbon(DLC) film magnetron sputtering(MS) atomic force microscope afm X-ray photoelectron spectroscopy(xps nanoindentation
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磁控溅射法制备PET基纳米TiO_2膜的XPS表征 被引量:2
6
作者 王荣 齐宏进 《青岛大学学报(工程技术版)》 CAS 2004年第1期42-46,共5页
利用磁控反应溅射法制备了PET基TiO2薄膜,并用XPS进行了组成结构表征。发现溅射生成的薄膜上存在着多种价态的Ti,NO∶NTi偏离化学计量比2,即在溅射过程中还能生成Ti2O3及TiO等组分。研究了不同工作压力、不同溅射气体对溅射生成的PET基T... 利用磁控反应溅射法制备了PET基TiO2薄膜,并用XPS进行了组成结构表征。发现溅射生成的薄膜上存在着多种价态的Ti,NO∶NTi偏离化学计量比2,即在溅射过程中还能生成Ti2O3及TiO等组分。研究了不同工作压力、不同溅射气体对溅射生成的PET基TiOx膜的各组分百分含量以及氧钛比的影响,并分析了产生这种结果的可能原因和影响因素。 展开更多
关键词 磁控溅射法 制备 PET 纳米二氧化钛膜 xps
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靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响 被引量:4
7
作者 刘增机 纪全 +2 位作者 张浴晖 夏延致 王凤军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期918-920,共3页
采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜。用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究。结果表明,该法制得的氟... 采用射频磁控溅射法,以聚四氟乙烯(PT-FE)为靶,氩气为载气,在再生纤维素基底上制备了氟碳膜。用原子力显微镜(AFM)、X射线光电子能谱(XPS)和静态接触角测试仪对氟碳膜的表面形貌、表面结构和表面性能进行了研究。结果表明,该法制得的氟碳膜是由纳米粒子组成的岛状结构,岛的表面起伏不平。这种氟碳膜由—CF3、—CF2—、—CF—和—C—4个组分构成,靶基距从30mm增加到80mm时,氟碳膜的F/C从0.551减小到0.427,呈逐渐减小的趋势。随着靶基距的增大,接触角从107°逐渐减小到75°,减小靶基距有利于提高氟碳膜的疏水性能。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 靶基距 afm xps 接触角
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WO_x/TiO_2光催化剂的可见光催化活性机理探讨 被引量:25
8
作者 张琦 李新军 +1 位作者 李芳柏 常杰 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第5期507-511,共5页
采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上,溅射氧化钨层,通过气相反应中光催化降解二甲苯的实验表明,WOx/TiO2薄膜具有可见光活性.通过UV-Vis吸收光谱、X射线光电子能谱(XPS)等方法对其可见光活性的机理进行探索.UV-Vis吸收光... 采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上,溅射氧化钨层,通过气相反应中光催化降解二甲苯的实验表明,WOx/TiO2薄膜具有可见光活性.通过UV-Vis吸收光谱、X射线光电子能谱(XPS)等方法对其可见光活性的机理进行探索.UV-Vis吸收光谱表明WOx,TiO2对可见光响应的范围有一定的扩展,吸收强度增加.XPS表明WOx/TiO2薄膜表面形成了明显的W杂质能级和Ti缺陷能级,这是WOx/TiO2在可见光范围有一吸收的主要原因,也是光催化剂具有可见光活性的必要条件之一,同时杂质能级的存在使半导体费米能级上移,载流子增加,光催化效率提高. 展开更多
关键词 光催化剂 可见光 催化活性 费米能级 二氧化钛 xps 磁控溅射技术 氧化钨 TiO2
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两种物理气相沉积氮化钛涂层的结构及摩擦性能研究 被引量:32
9
作者 韩修训 阎鹏勋 +4 位作者 阎逢元 刘维民 余画洋 徐建伟 吴志国 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期175-179,共5页
分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦... 分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能 .结果表明 :与采用直流磁控溅射法在 40 0℃基底上制备的 Ti N涂层相比 ,采用磁过滤沉积装置在室温下制备的 Ti N涂层更加致密 ,表面平滑 ,最大硬度达 3 5 GPa,摩擦系数明显较小 ( 0 .1~ 0 .4) 。 展开更多
关键词 物理气相沉积 氮化钛涂层 结构 摩擦性能 纳米压入 PVD
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非平衡磁控溅射氮化钛薄膜及其性能研究 被引量:17
10
作者 张琦 陶涛 +3 位作者 齐峰 刘艳文 冷永祥 黄楠 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期163-167,共5页
采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜。通过改变氮气和氩气分压比(PN/PAr)和基体偏压,制备出不同结构、性能的氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、原子力显微镜、PS-168型电化学测量系统、CSEM球盘摩擦磨损实验机... 采用非平衡磁控溅射技术,在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜。通过改变氮气和氩气分压比(PN/PAr)和基体偏压,制备出不同结构、性能的氮化钛薄膜。采用X射线衍射技术、原子力显微镜、PS-168型电化学测量系统、CSEM球盘摩擦磨损实验机、HXD-1000 knoop显微硬度仪等研究了薄膜的结构、表面形貌、耐腐蚀性能与机械性能。结果表明,采用非平衡磁控溅射技术制备出了致密的氮化钛薄膜。当PN/PAr较小时,氮化钛薄膜中存在Ti2N时,Ti2N相可以有效提高薄膜的硬度和耐磨损性能;当PN/PAr增加到0.1时,薄膜硬度达到最大,耐磨损性能最优;随着PN/PAr的继续增大,氮化钛薄膜中主要存在TiN相,氮化钛薄膜的复合硬度和耐磨损性能降低。在钛合金(Ti6Al4V)表面沉积氮化钛薄膜可以显著提高其在Hanks类体液中的耐腐蚀性能。 展开更多
关键词 氮化钛 非平衡磁控溅射 耐磨性 抗腐蚀性能
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钛合金表面非平衡磁控溅射制备氮化钛薄膜性能研究 被引量:9
11
作者 齐峰 王志浩 +3 位作者 张琦 杨文茂 冷永祥 黄楠 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期368-371,共4页
本文利用非平衡磁控溅射技术,通过改变薄膜沉积时氮气和氩气分压比(PN/PAr)和靶基距,在Si(100)和钛合金(Ti6A14V)基体上制备了氮化钛薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、HXD^1000显微硬度仪和(CSEM)销盘摩擦磨损实验机对... 本文利用非平衡磁控溅射技术,通过改变薄膜沉积时氮气和氩气分压比(PN/PAr)和靶基距,在Si(100)和钛合金(Ti6A14V)基体上制备了氮化钛薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、HXD^1000显微硬度仪和(CSEM)销盘摩擦磨损实验机对氮化钛薄膜的晶体结构、断面形貌、显微硬度和耐磨性进行了表征。研究发现,利用非平衡磁控溅射制备出致密的氮化钛薄膜,PN/PAr较小时,氮化钛薄膜中存在Ti2N相,Ti2N能够提高薄膜的硬度与耐磨性,随着N2/Ar的提高,薄膜硬度、耐磨性提高,当PN/PAr达到0.1时,随着N2/Ar的提高,薄膜硬度、耐磨性降低。结果表明,在钛合金表面制备氮化钛薄膜可以显著提高钛合金表面硬度与耐磨性,在改善用于人工心脏瓣膜的力学性能,提高人工心脏瓣膜的瓣架耐磨性,提高人工心脏瓣膜的寿命方面有较广阔的应用前景。 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 氮化钛 结构 显微硬度 耐磨性
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碳掺杂对CrN镀层显微硬度与组织结构的影响 被引量:9
12
作者 胡鹏飞 蒋百灵 李洪涛 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期158-162,共5页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱和透射电镜对镀层进行了分析。结果表明:当C靶电流由0增加到1.5 A时,镀层显... 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrCN镀层以研究C靶电流对镀层显微硬度的影响,并通过X射线衍射、原子力显微镜、X射线光电子能谱和透射电镜对镀层进行了分析。结果表明:当C靶电流由0增加到1.5 A时,镀层显微硬度由1930 HV增加到2300 HV,提高约19%,并且镀层的颗粒明显变小;X射线衍射和透射电镜分析表明,随着C靶电流增大,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,镀层碳元素主要以sp2键、sp3键和C-Cr键的形式存在。 展开更多
关键词 磁控溅射 CrCN镀层 原子力显微镜 X射线衍射 X射线光电子能谱
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碳靶电流对CrCN镀层摩擦系数的影响 被引量:5
13
作者 胡鹏飞 蒋百灵 李洪涛 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期175-177,181,共4页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于单晶硅和M2高速钢基片上制备CrCN镀层以研究C靶电流对CrCN镀层摩擦系数的影响,并通过能谱、原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱分析了C元素的存在状态及其对CrCN镀层组织结构的影响规律。... 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术于单晶硅和M2高速钢基片上制备CrCN镀层以研究C靶电流对CrCN镀层摩擦系数的影响,并通过能谱、原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱分析了C元素的存在状态及其对CrCN镀层组织结构的影响规律。结果表明,当碳靶电流Ic从0A增大到1.5A时,镀层摩擦系数从0.75降至0.3,镀层中碳含量也随之增大,镀层表面晶粒直径变小,粗糙度也明显变小,Ic=1.5A时镀层表面粗糙度仅为Ic=0A时的7.4%。X射线光电子能谱分析表明,镀层中碳元素主要以C—C、C—Cr、C—O键形式存在,其中以C—C键形式存在的自由碳,能起到固体润滑的作用,可显著减低镀层的摩擦系数。 展开更多
关键词 磁控溅射 CrCN镀层 摩擦系数 原子力显微镜 X射线衍射 X射线光电子能谱 碳键
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PEMSIP法Ti_2N和TiN两相涂层工艺研究 被引量:3
14
作者 王玉魁 李秀兰 +3 位作者 王秀敏 高路斯 廖勇泉 韩会民 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第1期41-46,共6页
介绍了等离子体增强磁控溅射离子镀(PEMSIP)TiN涂层的工艺、组织结构和性能.研究了氮分压和靶功率对涂层相组成和性能的影响,讨论了Ti2N对涂层硬度的影响.实验结果表明,由Ti2N和Tin两相组成的涂层硬度高,显... 介绍了等离子体增强磁控溅射离子镀(PEMSIP)TiN涂层的工艺、组织结构和性能.研究了氮分压和靶功率对涂层相组成和性能的影响,讨论了Ti2N对涂层硬度的影响.实验结果表明,由Ti2N和Tin两相组成的涂层硬度高,显著提高刀具耐用度. 展开更多
关键词 等离子体 离子镀 氮化钛 磁控溅射 涂层
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磁控共溅射制备氮化钛铝薄膜及其机械性能的研究 被引量:7
15
作者 倪晟 孙卓 赵强 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期1842-1844,1848,共4页
使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列Al含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜。在溅射过程,薄膜沉积速率和Al含量随Al的溅射功率增加而增大,而薄膜的粗糙度减小。Al含量较低时(约21%),TiAlN薄膜的硬度和弹性模量都... 使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列Al含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜。在溅射过程,薄膜沉积速率和Al含量随Al的溅射功率增加而增大,而薄膜的粗糙度减小。Al含量较低时(约21%),TiAlN薄膜的硬度和弹性模量都高于TiN薄膜。而Al含量较高时(>26%),薄膜的硬度和弹性模量也随含量增加减小。 展开更多
关键词 TIALN薄膜 磁控共溅射 纳米压痕仪 机械性能
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钛合金表面MoS_2/TiN复合涂层的摩擦性能研究 被引量:10
16
作者 王利捷 杨军胜 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期11-13,共3页
采用复合处理的工艺方法,在Ti-6Al-4V合金表面制备复合涂层。用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和X射线能谱仪分析复合涂层表面相结构、表面及截面微观形貌和沿截面各元素分布状态。对不同处理后的截面硬度梯度进行了分析比较,在MM-200磨... 采用复合处理的工艺方法,在Ti-6Al-4V合金表面制备复合涂层。用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和X射线能谱仪分析复合涂层表面相结构、表面及截面微观形貌和沿截面各元素分布状态。对不同处理后的截面硬度梯度进行了分析比较,在MM-200磨损实验机上测定了复合涂层的摩擦性能。结果显示,复合涂层是由单质的Ti,Mo和MoS2,TiN以及过渡层组成,在干摩擦、纯滑动的条件下摩擦性能优良。 展开更多
关键词 钛合金 离子渗氮 磁控溅射 MoS2/TiN复合涂层
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类金刚石碳膜和氮化钛的摩擦学性能研究 被引量:4
17
作者 刘谦祥 郭希铭 +1 位作者 赵杰 李德军 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2003年第2期58-61,共4页
报道了在相同条件下用磁控溅射方法在硅片上制备类金刚石膜和氮化钛薄膜的研究结果,比较了两种镀膜在机械性能和结构上的效果.实验结果表明,氮化钛薄膜虽有很高的表面硬度,但其摩擦系数、表面粗糟度比类金刚石膜要高得多.而类金刚石膜... 报道了在相同条件下用磁控溅射方法在硅片上制备类金刚石膜和氮化钛薄膜的研究结果,比较了两种镀膜在机械性能和结构上的效果.实验结果表明,氮化钛薄膜虽有很高的表面硬度,但其摩擦系数、表面粗糟度比类金刚石膜要高得多.而类金刚石膜虽有很低的摩擦系数和光滑的表面,但表面硬度比氮化钛薄膜小.因此,结合两种膜的优点有可能制备高硬度、耐磨性强、表面光滑的新型复合材料. 展开更多
关键词 类金刚石碳膜 氮化钛薄膜 磁控溅射 表面硬度 摩擦系数 机械性能 表面强化工艺 摩擦学
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基底温度对磁控溅射制备氮化钛薄膜的影响 被引量:3
18
作者 蒋雅雅 赖珍荃 +1 位作者 王震东 黄奇辉 《南昌大学学报(理科版)》 CAS 北大核心 2007年第6期545-548,共4页
在不同的基底温度下,采用直流磁控反应溅射法在硅基底上制备了氮化钛(TiNx)薄膜,研究了基底温度对薄膜结晶取向、表面形貌和导电性能的影响。实验结果表明:基底温度较低时,薄膜主要成分为四方相的Ti2N,具有(110)择优取向,当基底温度升高... 在不同的基底温度下,采用直流磁控反应溅射法在硅基底上制备了氮化钛(TiNx)薄膜,研究了基底温度对薄膜结晶取向、表面形貌和导电性能的影响。实验结果表明:基底温度较低时,薄膜主要成分为四方相的Ti2N,具有(110)择优取向,当基底温度升高到360℃时薄膜中开始出现立方相的TiN。TiNx薄膜致密均匀,粗糙度小。随着基底温度的升高薄膜的电阻率显著减小。 展开更多
关键词 磁控溅射 TIN薄膜 基底温度
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基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层的影响 被引量:1
19
作者 王玉魁 张兴龙 +2 位作者 韩会民 高路斯 王传恩 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期339-343,共5页
应用X射线衍射分析研究了基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层相组成的影响;结果表明,随着基片负偏压增加,膜层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展,进而影响膜层的硬度。通过微区化学成分分析(EDS)研究了膜基界面附近... 应用X射线衍射分析研究了基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层相组成的影响;结果表明,随着基片负偏压增加,膜层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展,进而影响膜层的硬度。通过微区化学成分分析(EDS)研究了膜基界面附近的成分分布。结果表明,界面处有过渡层;偏压愈高,过渡层愈显著。 展开更多
关键词 等离子体 氮化钛 磁控溅射 涂层 离子镀
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TiN/TaN多层膜的结构和摩擦学性能 被引量:11
20
作者 安健 张庆瑜 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期7-12,共6页
利用磁控溅射法在单晶硅基底上制备了一系列TiN/TaN多层膜;采用X射线衍射仪、显微硬度计、球-盘摩擦磨损试验机和三维表面形貌仪等分析了多层膜的结构、硬度、摩擦学性能和磨损机制.结果表明:所制备的多层膜具有良好的周期性和清晰的界... 利用磁控溅射法在单晶硅基底上制备了一系列TiN/TaN多层膜;采用X射线衍射仪、显微硬度计、球-盘摩擦磨损试验机和三维表面形貌仪等分析了多层膜的结构、硬度、摩擦学性能和磨损机制.结果表明:所制备的多层膜具有良好的周期性和清晰的界面结构,其中TiN层具有面心立方结构,当TaN层在调制周期Λ值小于8.5nm时具有面心立方结构,在调制周期Λ值大于8.5nm时具有部分六方结构;多层膜的硬度受调制周期影响,当调制周期Λ值为8.5nm时,显微硬度达到最大值31.5GPa.相对于TiN薄膜而言,TiN/TaN多层膜的摩擦系数较高、耐磨性能更好;多层膜的磨损机制主要为犁削、粘着和局部剥落. 展开更多
关键词 磁控溅射 TIN TAN 多层膜 摩擦学性能
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