基于V90伺服的机器人夹具在掩膜版行业的应用

设计并实现了一种新型掩膜版机器人夹具,并将其成功应用于光刻掩膜版(Photomask)制造车间自动化产线中。该新型夹具采用了以Simens V90伺服作为夹具执行机构的解决方案,同时为了满足对无尘车间高洁净度的要求和对产品安全性保护,夹具采用整体封装设计,选用2个伺服电机分别驱动夹具的上夹爪和下夹爪。下卡爪B伺服电机采用Speed的模式,实现绝对位置控制;上卡爪A的伺服电机采用EPOS模式,实现力矩保护控制。方案设计、安装和使用结果表明该夹具稳定可靠,实现了对不同规格的MASK产品的高度兼容,在保证产品安全抓取的同时也能最大化地减少产品接触面积,从而减少对产品的污染,满足对无尘车间高洁净度和对产品安全性抓取转运的需求。

自动电位滴定法测定热镀锌助镀剂中氯化铵的含量

建立了自动电位滴定法准确测定热镀锌助镀剂中氯化铵含量的方法,探讨了自动电位滴定法测定热镀锌助镀剂中氯化铵含量的复合掩蔽剂A用量、复合掩蔽剂加入的介质条件和滴定起始pH对滴定突跃的影响。进行了相应的方法学验证。结果显示,对于氯化铵含量为10 g/L的助镀剂在体系介质pH为5~6时加入复合掩蔽剂A溶液15 mL、体积比为1∶1的甲醛水溶液5 mL,用0.1 mol/L氢氧化钠溶液自动电位滴定仪滴定。方法学验证显示,线性回归方程为y=0.934 9x-0.043 25,r^(2)=1,氯化铵在5~40 g/L范围内与氢氧化钠消耗量呈良好的线性关系;重复测定6次,样品加标回收率范围在100.1%~100.8%,表明该方法的准确度高。不同人员和仪器7次测定消耗0.1 mol/L氢氧化钠的RSD值(n=7)为0.28%,氯化铵含量的RSD值(n=7)为1.28%,实验结果符合国家标准要求(RSD<5%),测定结果没有显著性差异(t=1.329,P>0.05)。

扩大光学系统焦深范围的光学成象新技术研究

如何增大非相干光学系统的焦深已成为一项有意义的研究主题 .对于普通光学系统 ,其焦深与光学系统的相对孔径平方成反比 .为了增大焦深 ,通常的做法是缩小相对孔径 ,但这种做法有其缺点 :会降低光学系统的光通量及调制传递函数 (MTF)和分辨率 .本文提出了一种新方法 ,通过在光学系统光路中加入一特殊设计的非球面掩模板 ,并用图象处理技术对相位掩模板编码后的图象进行解码得到清晰图象 .保证了光学系统在维持原有相对孔径的同时扩大其焦深范围 。

一种基于四象限光电探测器的对准新方法

在分析四象限光电探测器工作原理的基础上,提出了一种利用2个四象限光电探测器实现掩模板对准的新方法。激光器与四象限探测器位置固定,掩模板处于激光器与四象限探测器之间。透过掩模板上的2个透光米字形标记,激光光束照射到四象限探测器的光敏面。根据2个四象限探测器的输出,计算出掩模板的位置和姿态偏差,通过运动平台调整掩模板的位置和姿态,实现对准。

大焦深成像系统仿真实验研究

如何增大非相干光学成像系统的焦深是应用光学研究领域的热点问题 .本文对采用高次非球面光学掩模板与图像处理相结合增大成像光学系统焦深的新方法进行了深入分析 ,建立了大焦深成像系统仿真实验模型 ,并进行了大焦深成像系统仿真实验 .实验结果证明了该方法在维持原相对孔径的同时使光学系统在较大的离焦范围内有好的成像质量 .实际应用中还要综合考虑模板参量。

大焦深成像系统的特性研究

如何增大非相干光学成像系统的焦深已成为一项有意义的研究主题。为了增大焦深 ,通常的做法是缩小相对孔径 ,但这种做法会降低光学系统的光通量、调制传递函数 (MTF)及分辨率 ,而大焦深成像系统通过在光学系统光路中加入一特殊设计的非球面掩模板 ,并用图像处理技术对相位掩模板编码后的图像进行解码得到清晰图像 ,保证了光学系统在维持原有相对孔径的同时扩大其焦深范围 ,使光学系统在离焦范围内有好的图像质量。从光线图和系统的 MTF两个方面对大焦深成像系统的特性进行了分析 ,并对结果进行了讨论。

一种在离焦情况下获得高分辨率图像的新技术

在遥感、军事侦察和医疗成象等领域,需要得到目标的高分辨率图像.而像面离焦直接影响了成像质量、降低了空间分辨率.为了得到高分辨率图像,往往采用自动焦面补偿装置或温控系统来克服离焦现象,但这又不利于仪器的小型化和轻量化.本文提出,在光学系统光路中加入一特殊设计的非球面掩模板,并对经过位相掩模板后的图像进行图象处理得到清晰图像.使光学系统在大离焦量的情况下仍可获取高分辨率的图像.这对于光学遥感器在复杂的空间环境中获取高分辨率图像具有十分重要的意义.

基于联合变换的旋转不变光学图像加密

利用两个彼此独立的编码脉冲相位掩模在联合变换相关器中对需要保护的图像进行编码,实现对原始图像的加密。该方法的特点是解密时加密图像的旋转不会影响解密效果,相位分布是密钥的合法持有者唯一掌握的确定性函数,可以重构,便于实际应用。计算机模拟的结果证明了方法的可行性。

光折变相位型波带片

利用成象方法和光折变效应 ,在 Li Nb O3∶ Fe晶体中成功地写入了光折变相位型波带片 .其衍射效率可达到 2 1 % .该制作方法具有实时、简便等优点 .

光码分多址频域编解码技术

阐述了光码分多址 ( OCDMA)频域编 /解码的主要技术 :( 1 )利用光栅 -掩膜板 ;( 2 )利用光纤光栅 -环形器 ;( 3)利用阵列波导光栅 ;( 4 )利用 Mach- Zehnder干涉仪链 .详细介绍了它们的结构和编解码原理以及特性 .

复眼透镜光学信息保密编码及译码的研究——Ⅰ.昆虫复眼成像特性及编、译码技术原理

本文根据光学并列型和光学重叠型两类昆虫复眼的屈光系统,具有分解和综合二维图像的光学特性,提出了一种新的用复眼透镜实现二维图像光学信息编码和译码的技术原理.利用复眼透镜和一个特制的随机抽样编码的掩模板,可将一幅有序的二维图像(或者文献、资料等)编码形成为一幅无序的,具有良好保密性能的分解编码像,而且,还能将此编码像反演综合再现出原始图像.它不仅实现了对二维图像信息的多通道并行处理,而且还具有传输量大、速度快、保密性强等优点.我们利用此种复眼透镜光学信息编、译码的技术原理,对二维图像的光学信息进行了分解编码记录及综合译码再现.

扩大焦深的虹膜采集方法及实现技术研究

针对传统的虹膜采集系统采集距离短、采集不灵敏的情况,在设计中通过在光学系统光路中加入一个特殊设计的非球面位相掩膜板,对非相干波前进行编码,使光学系统的MTF在一定范围内对离焦变化不敏感,经后期的图像处理,得到清晰的图片。实验表明,这种技术在保持图像质量的情况下,增大了采集的距离,提高了采集速度。

φ1mm电磁型微电机定子绕组研制

本文主要阐述应用微细加工技术研究和开发1 mm电磁型微电机定子绕组的制备工艺。采用高 -高比光刻技术和掩模电镀工艺 ,解决了高 -高宽比线圈的制备工艺 ,有效地降低了线圈的直流电阻 ,另外用 Al2 O3薄膜溅射工艺解决了线圈层间的绝缘 ,并且提高了线圈的抗发热等级。本研究结果为 4层 2 8圈 3对 9组绕组系统。微电机定子绕组直径为 1 mm,最小线间距为 1 μm,最大工作电流可达 1 80 m A,单相直流电阻在 1 0— 2 0Ω之间。

电磁型微电机定子绕组的研制

本文主要阐述应用微细力。工技术研究和开发电磁型微电机定子绕组的制备工艺，重点介绍制备定子绕组所涉及到的各种材料及其用途。采用掩模电镀技术解决了平面工艺难以解决的线围绕组。本研究结果为双层十七圈三对六组绕组系统。最小线宽为３μｍ，微电机直径为２ｍｍ，最大工作电流１２０ｍＡ，电阻值在２４－２６Ω之间。输出力矩为１．５μＮｍ，转子转速每分钟可达５００转。

特征区域模板匹配法实现汽车牌照的精确识别

模板匹配法在汽车牌照自动识别中已得到广泛应用。在应用该法为某汽车检测中心做牌照自动识别系统时发现,0、D及Q3个字符互相误判率较高。为解决此问题,在模板匹配法的基础上,提出了特征区域模板匹配法,应用该法取得了满意的效果,识别精度大大提高。另外,匹配系数的求法也采用了新的方法,效果比原方法好。

LTCC生瓷层压中腔体的形变评价及控制

以含有腔体结构的LTCC叠层生瓷为研究对象,介绍了腔体在层压形变的评价和控制方法。分析了LTCC空腔在层压时产生变形的主要影响因素。阐述了在生瓷表面上增加金属掩模板来控制腔体形变的叠层结构设计。有限元分析结果表明不锈钢掩模可使腔体边缘应变降低至无掩模时应变的1/6,并通过工艺试验验证了金属掩模板的有效性。结果表明合理的层压结构设计和恰当的层压工艺可以制作出满足尺寸精度的空腔结构。

车灯面罩热板焊接温度场CAE模拟

针对塑件热板焊接中温度控制不精确影响焊接质量,且容易在塑料件上产生残余应力的情况,课题组对车灯面罩热板焊接的温度场进行了研究。基于ANSYS仿真平台对车灯面罩热板焊接进行温度场仿真分析,通过建立合理有效地温度场仿真模型得到了面罩热板焊接后的温度场分布,并通过实验验证了焊接过程中温度载荷、边界条件设置的合理性及仿真结果的正确性,最终得出车灯面罩热板焊接的仿真计算可行的结论。

Schmidt底片处理技术的发展

描述了20世纪50年代以来,利用Schmidt望远镜实现的各种巡天计划及Schmidt底片的特点。介绍了Schmidt底片处理技术的发展,特别是分块底片处理法(Subplate),Mask法和滤波法处理底片的数学理论和结果。讨论了现代其他数学方法用于Schmidt底片处理的可能性。最后对编制LAMOST输入星表可能采用的底片处理方法提出若干建议。

纳米制造和测量技术产业化的研究

从加工尺度的连续性和加工技术的完整性这一新的角度，分析了纳米加工产业化面临的问题，并提出了相应的解决方案一多离子柬聚焦投影技术。多离子柬聚焦投影技术将填补传统微机加工技术和半导体图形技术之间0．5～5μm的加工空白，并会在1～100nm尺度间实现自上至下技术和自下至上技术的有机结合。纳米测量技术产业化的研究中，以提高扫描探针技术的样品质量作为出发点。在聚焦离子束和扫描电镜平台上集成Ar离子束的“三束”显微镜能有效降低样品的损伤，大大推动了纳米测量技术的发展。

无掩模光刻技术研究

介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题,并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。