MBO缓蚀膜中Cu的价态及成膜机制

用光电子能谱 (XPS)、红外光谱 (IR)和扫描隧道显微镜 (STM ) ,对Cu在含NaCl的 2 -琉基苯并唑(MBO)溶液中处理后 ,其表面所形成的缓蚀膜进行了研究 .缓蚀膜的Cu2 p3/2 结合能值为 932 .3eV ,在Cu2 p3/2 和Cu2p1/2 之间没有“卫星峰”存在 ,且俄歇峰CuLMM的结合能为 337.6eV ,表现了典型的一价Cu化合物的特征 .该缓蚀膜的红外光谱与MBO的一价Cu的合成化合物的红外谱图相一致 .在形成缓蚀膜前后 ,N1s和S2 p的结合能变化显著 ,表明MBO分子可能通过S和N原于与一价铜离子键合的 .原位的STM表明 ,Cl-的存在可使MBO在Cu表面形成致密的三维膜 .对MBO缓蚀膜的形成机理进行了分析 ,解释了在MBO缓蚀膜形成过程中Cu腐蚀电位的变化 .

MBT、BTA和MBO对铜缓蚀性能的电化学研究

用电化学方法比较研究了 2 -巯基苯并恶唑 (MBO)、苯并三氮唑 (BTA)和 2 -巯基苯并噻唑 (MBT)在3% Na Cl、0 .1 mol/ L HCl和 0 .5mol/ L HCl溶液中对铜的缓蚀性能。在 3% Na Cl溶液中 ,MBO表现出稍优于 BTA,远高于 MBT的缓蚀能力 ;与 BTA和 MBT相比 ,在 0 .1 mol/ L HCl和 0 .5mol/ L HCl中 ,MBO对铜的腐蚀有突出的缓蚀效果。

2-巯基苯并恶唑(MBO)在铜表面缓蚀膜研究

用ＡＥＳ、ＸＰＳ、ＦＴＩＲ 和原位（ｉｎ ｓｉｔｕ） 扫描隧道显微镜（ＳＴＭ） 等方法表征研究了在含氯化钠的２巯基苯并恶唑（ＭＢＯ） 溶液中铜样品表面所形成的缓蚀膜。研究结果表明，ＭＢＯ 是成膜型缓蚀剂，它在铜发生腐蚀的条件下，通过化学反应在铜表面形成不溶且致密的膜，从而起到缓蚀作用。其中的Ｓ和Ｎ 原子在缓蚀膜构成中起重要作用。

铜在Na_2 SO_4溶液中的腐蚀及MBO的缓蚀作用

用石英晶体微天平（ＱＣＭ）和电化学方法研究了钢在０．５ｍｏｌ／Ｌ Ｎａ２ＳＯ４溶液中的腐蚀行为．在该介质中，铜表面形成由多种硫酸盐构成的不具保护性的腐蚀产物膜，铜表现为线性增重．当加入１ｍｍｏｌ／Ｌ２－巯基苯并恶唑（ＭＢＯ）时，腐蚀过程被大大抑制．含ＭＢＯ的Ｎａ２ＳＯ４溶液中形成的缓蚀膜具有较好的稳定性．

2-巯基苯并恶唑对铜缓蚀作用的电化学研究

用电化学方法考察研究了２巯基苯并恶唑（ＭＢＯ） 在３ ％ ＮａＣｌ 溶液中对铜的缓蚀性能。ＭＢＯ 同时抑制阴极和阳极过程。缓蚀效率与ＭＢＯ 浓度、铜样品在含ＭＢＯ 的溶液中预浸泡时间以及该溶液的腐蚀性有关。当铜样品在ＭＢＯ饱和（１ｍｍｏｌ／Ｌ） 的３ ％ ＮａＣｌ 中处理２０ｈ 以上，缓蚀率达到约９９ ％ ，而处理介质不含ＮａＣｌ 时则缓蚀率低得多。因此，ＭＢＯ 缓蚀膜的生成与铜本身的腐蚀过程有关。