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Cr,Fe,Cu/Al_2O_3界面化学结构的光电子能谱 被引量：1
1
作者 任海兰 刘韩星 +2 位作者 张汉林 欧阳世翕 王典芬 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1996年第10期900-904,共5页
应用X－射线光电子能谱，通过离子刻蚀，原位研究第四周期过渡金属与氧化铝所形成界而的化学状态．结果表明，Cr、Fe在界面处有不同程度的氧化，氧化程度Cr＞Fe，而Cu则无明显氧化．化学成份的定量分析表明，界面过渡层的厚度与界而化... 应用X－射线光电子能谱，通过离子刻蚀，原位研究第四周期过渡金属与氧化铝所形成界而的化学状态．结果表明，Cr、Fe在界面处有不同程度的氧化，氧化程度Cr＞Fe，而Cu则无明显氧化．化学成份的定量分析表明，界面过渡层的厚度与界而化学反应强弱直接相关． 展开更多
关键词 金属 陶瓷 界面 光电子能谱 化学结构
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