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磁控溅射Al膜的AFM性能分析及其制备工艺研究 被引量:4
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作者 何建梅 温浪明 +5 位作者 章晨 张勋 郑锡鑫 庄炜培 张红 徐海红 《物理实验》 2007年第8期42-46,共5页
用原子力显微镜(AFM)对直流溅射和射频溅射制备铝膜的表面粗糙度及颗粒大小进行了分析比较.实验结果表明:溅射功率和溅射时间对铝膜表面粗糙度有影响,通过延长溅射时间或提高溅射功率可使膜的平均颗粒直径增大.
关键词 铝膜 表面粗糙度 溅射功率 溅射时间 afm
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微波集成电路(MIC)中Au/NiCr/Ta多层金属膜粗糙化机理的AFM研究 被引量:1
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作者 唐武 徐可为 +1 位作者 王平 李弦 《真空科学与技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期140-142,共3页
Au/NiCr/Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上。XRD分析其晶体取向 ,SEM观察薄膜断面形貌 ,AFM研究薄膜表面粗糙度。结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关 ,随着沉积温度 10 0℃→ 2 5 0℃的改变 ,薄膜表面发生从粗糙→光滑... Au/NiCr/Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上。XRD分析其晶体取向 ,SEM观察薄膜断面形貌 ,AFM研究薄膜表面粗糙度。结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关 ,随着沉积温度 10 0℃→ 2 5 0℃的改变 ,薄膜表面发生从粗糙→光滑→粗糙的变化过程。 展开更多
关键词 微波集成电路 多层金属膜 原子力显微镜 表面粗糙度 粗糙化机理 镍铬合金 磁控溅射 硅衬底
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Investigation of Physico-Chemical Characteristics of Stainless Steel Surface and Their Effect on the Appearance Aspects of the Alloy Surface
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作者 Shilpa Vaidya N. C. Debnath 《Journal of Surface Engineered Materials and Advanced Technology》 2019年第4期55-87,共33页
Stainless steel alloy SS-304 is widely used in many engineering applications primarily for its excellent corrosion resistance, ease of fabrication and aesthetic appeal. Many kitchen appliances are made from SS-304 all... Stainless steel alloy SS-304 is widely used in many engineering applications primarily for its excellent corrosion resistance, ease of fabrication and aesthetic appeal. Many kitchen appliances are made from SS-304 alloy because of its durability, ease of cleaning and beautiful finish. However, over the years of continuous usage and cleaning by detergent bar and abrasive clothes the initial brightness and shine of the plates and dishes undergo considerable degradation. In this work, we report the results of a thorough investigation of the physico-chemical characteristics of the surface regions of both new and old SS-304 plates of known history of continuous usage to identify the key physical and chemical factors that are responsible for the loss of shine. Several analytical techniques viz. SEM/EDX, AFM, XPS, XRD, Reflectance FTIR, Profilometry and Reflectance spectrometry in the visible region have been used for experimental investigation of surface structure, morphology, roughness profile, chemical composition and appearance measurements of several steel samples. In addition, glossmeter has been used to measure the gloss of the samples at certain specific angles. It seems that surface roughness is one of the key physical parameters that play an important role in the reduction of brightness and shine. The other parameter is the presence of a thin surface film on the steel surface. In order to analyze the experimental data and to predict the shine and brightness phenomena quantitatively, we have used Fresnel’s theory to compute first the reflectance from each component of SS-304 alloy assuming it to be a smooth surface and then extended it to compute the reflectance of the alloy surface (SS-304). In order to interpret the reflectance from old and used plates, we have further used Beckmann’s theory of light scattering from random rough surface to analyze and predict the appearance aspects of the alloy surface quantitatively. Both the experimental and computed results show good agreement, thus validating the reflectance model used for computing the reflectance from SS-304 alloy surface and the appropriateness of Beckmann’s model of random rough surface. 展开更多
关键词 Loss of SHINE in SS-304 ALLOY surface surface roughness APPEARANCE Measurements SEM/EDX afm XPS XRD Reflectance FTIR Profilometry Reflectance Spectroscopy GLOSS Presence of Thin surface Film Beckmann’s Model of Random Rough surface
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CMP抛光液对TiO_2薄膜表面粗糙度的影响 被引量:3
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作者 张玉峰 王胜利 +3 位作者 刘玉岭 段波 李若津 杜旭涛 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2014年第11期841-845,共5页
采用自主配制的碱性抛光液对TiO2薄膜进行了化学机械抛光(CMP),研究了在TiO2薄膜CMP加工过程中,碱性抛光液中的SiO2磨料、螯合剂、表面活性剂的体积分数和抛光液pH值对TiO2薄膜表面粗糙度的影响,并进行了参数优化。实验结果表明,在一定... 采用自主配制的碱性抛光液对TiO2薄膜进行了化学机械抛光(CMP),研究了在TiO2薄膜CMP加工过程中,碱性抛光液中的SiO2磨料、螯合剂、表面活性剂的体积分数和抛光液pH值对TiO2薄膜表面粗糙度的影响,并进行了参数优化。实验结果表明,在一定的抛光条件下,选用SiO2磨料体积分数为20%、螯合剂体积分数为1.0%、非离子表面活性剂体积分数为5.0%和pH值为9.0的碱性抛光液,抛光后TiO2薄膜表面没有划痕等抛光缺陷,表面粗糙度为0.308 nm,TiO2薄膜去除速率为24 nm/min,在保证抛光速率的同时降低了TiO2薄膜表面粗糙度,满足工业化生产要求。 展开更多
关键词 二氧化钛薄膜 碱性抛光液 化学机械抛光(CMP) 表面粗糙度 原子力显微镜 (afm)
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金属薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系 被引量:23
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作者 唐武 邓龙江 +1 位作者 徐可为 Jian LU 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期617-620,共4页
针对磁控溅射Au金属薄膜,从实验角度研究了该薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系,并对结果进行了分析。结果表明:薄膜电阻率随着表面粗糙度及残余应力的增加而增大。分析认为,晶体取向可能在金属薄膜力学性能和功能性之间有某种联... 针对磁控溅射Au金属薄膜,从实验角度研究了该薄膜电阻率与表面粗糙度、残余应力的关系,并对结果进行了分析。结果表明:薄膜电阻率随着表面粗糙度及残余应力的增加而增大。分析认为,晶体取向可能在金属薄膜力学性能和功能性之间有某种联系,并从应变能角度给予了解释。该结果为进一步探讨薄膜力学性能和功能特性的内在关系提供了研究基础。 展开更多
关键词 金属薄膜 电阻率 表面粗糙度 残余应力
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磁控溅射制备金属铀膜 被引量:7
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作者 易泰民 邢丕峰 +5 位作者 唐永建 张林 郑凤成 谢军 李朝阳 杨蒙生 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期869-872,共4页
研究了通过磁控溅射方法制备高纯金属铀膜的可行性。采用X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)、表面轮廓仪分析了沉积在单晶硅或金基材上铀薄膜的微观结构、成分、界面结构及厚度、表面形貌和表面粗糙度。分析结果表明:... 研究了通过磁控溅射方法制备高纯金属铀膜的可行性。采用X射线衍射(XRD)、俄歇电子能谱(AES)、扫描电镜(SEM)、表面轮廓仪分析了沉积在单晶硅或金基材上铀薄膜的微观结构、成分、界面结构及厚度、表面形貌和表面粗糙度。分析结果表明:磁控溅射制备的铀薄膜为纯金属态,氧含量和其它杂质含量均低于俄歇电子能谱仪的探测下限;溅射沉积的铀镀层与铝镀层之间存在界面作用,两者相互扩散并形成合金相,扩散层厚度约为10nm。铀薄膜厚度可达微米级,表面光洁,均方根(RMS)粗糙度优于15nm。 展开更多
关键词 金属铀膜 磁控溅射 表面粗糙度
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316L不锈钢和NiTi合金微磁场表面粗糙度对血液相容性的影响 被引量:3
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作者 刘强 程晓农 +1 位作者 徐红星 费黄霞 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期323-326,共4页
在316L不锈钢、NiTi合金的含SrFe_(12)O_(19)磁性粉末的TiO_2薄膜表面用溶胶-凝胶法再涂覆不同层数的TiO_2薄膜,以降低材料微磁场表面的微粗糙度,并用扫描电镜、粗糙度仪分析薄膜的表面粗糙度。测试了不同粗糙度的微磁场表面的动态凝血... 在316L不锈钢、NiTi合金的含SrFe_(12)O_(19)磁性粉末的TiO_2薄膜表面用溶胶-凝胶法再涂覆不同层数的TiO_2薄膜,以降低材料微磁场表面的微粗糙度,并用扫描电镜、粗糙度仪分析薄膜的表面粗糙度。测试了不同粗糙度的微磁场表面的动态凝血时间和溶血率,研究了微磁场表面的粗糙度对材料血液相容性的影响。结果表明,粗糙度小的微磁场表面的血液相容性比粗糙度大的微磁场表面的血液相容性好。即对于平整光滑的微磁场表面,可以利用微磁场提高材料血液相容性的同时,进一步改善材料的血液相容性。 展开更多
关键词 金属材料 表面粗糙度 微磁场 血液相容性 溶胶-凝胶法 TIO2薄膜
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制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响
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作者 郑瑞廷 高凤菊 +1 位作者 郁静 程国安 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期938-943,共6页
利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与... 利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与衬底材料密切相关,等离子体的沉积角度直接影响纳米薄膜的徽观结构,采用60°倾斜沉积在自支撑火棉胶膜衬底上,可获得表面粗糙度为1.5nm的自支撑Ni膜。 展开更多
关键词 磁过滤等离子沉积 自支撑薄膜 表面粗糙度
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三种非贵金属合金常规研抛后的超微结构表面特征研究 被引量:10
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作者 王丽萍 尚针针 +1 位作者 孙惠强 刘兴斌 《口腔颌面修复学杂志》 2011年第6期325-329,共5页
目的:试验观察3种非贵金属合金经临床常规使用的机械法研抛后的超微结构表面特征,为临床合理选择材料提供实验依据,并为非贵金属改性提供合理有效的超微结构理论依据。方法:采用镍铬合金、钴铬合金、维他灵(VITALLIUM,钴铬钼合金)3种非... 目的:试验观察3种非贵金属合金经临床常规使用的机械法研抛后的超微结构表面特征,为临床合理选择材料提供实验依据,并为非贵金属改性提供合理有效的超微结构理论依据。方法:采用镍铬合金、钴铬合金、维他灵(VITALLIUM,钴铬钼合金)3种非贵金属合金作为试验对象,制成15mm×l5mm×2mm的试件,经过喷砂、橡胶轮加毡轮加抛光膏抛光机械法研抛处理后,分别在扫描电子显微镜下,观察镍铬合金、钴铬合金,维他灵的表面形貌,并在原子力显微镜下,观察3种合金的表面形貌和3D图像以及粗糙度。结果:扫描电镜、原子力显微镜结果显示3种非贵金属合金经喷砂及抛光处理后其粗糙度为喷砂组:镍铬合金(463.83±65.17)>钴铬合金(336±146.04)>维他灵2000(303±139.10);抛光组:镍铬合金(15.95±4.55)>钴铬合金(9.17±2.58)>维他灵2000(9.15±2.69)。镍铬合金>钴铬合金>维他灵。镍铬合金3D图像形貌明显、立体感强,钴铬合金较平坦,维他灵平坦。结论:SEM及AFM下,形貌平坦程度:镍铬合金<钴铬合金<维他灵,AFM与常规SEM相比,图像分辨率清晰,操作简便。 展开更多
关键词 非贵金属合金 扫描电子显微镜 原子力显微镜 表面特征 粗糙度
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利用原子力显微镜观测气敏薄膜的平整度 被引量:1
10
作者 孙冰 田丰 +2 位作者 齐景爱 高金雍 阎国英 《传感器世界》 2014年第6期19-22,4,共5页
介绍原子力显微镜功能、原理和结构,用于检测原子之间的接触来呈现样品的表面形貌特性,如粗糙度、起伏不平整度等,提供三维表面图像。常用的是激光反射检测系统,由探针、激光发生器和光检测器组成。探针是由悬臂和悬臂末端的针尖组成,... 介绍原子力显微镜功能、原理和结构,用于检测原子之间的接触来呈现样品的表面形貌特性,如粗糙度、起伏不平整度等,提供三维表面图像。常用的是激光反射检测系统,由探针、激光发生器和光检测器组成。探针是由悬臂和悬臂末端的针尖组成,悬臂是由Si或Si3N4经光刻技术用MEMS技术加工而成。当在样品表面扫描的探针引起悬臂梁弯曲时,产生应力。再由压电陶瓷能将十几分之一纳米到几微米的位移而导致的应力信号转换成1mV^1000V的电信号,以代表样品表面的不平整度。同时简单介绍了利用原子力显微镜观察不同退火温度对制备的气敏传感器薄膜表面晶粒度的影响,以及不同腐蚀液抛光硅片的效果。 展开更多
关键词 原子力显微镜 功能 原理和结构 薄膜表面粗糙度 不平整度
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脉冲激光能量密度对Mo薄膜生长的影响 被引量:2
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作者 雷洁红 邢丕峰 +2 位作者 唐永建 吴卫东 王锋 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期1623-1626,共4页
用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用。原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2nm。X射线衍射(XRD)分... 用脉冲激光沉积(PLD)法在Si(100)基片上制备金属Mo薄膜,研究薄膜结晶性能与能量密度之间的关系,探讨薄膜生长机制和粒子能量在薄膜生长中的作用。原子力显微镜(AFM)图像显示,薄膜表面平整、光滑,均方根粗糙度小于2nm。X射线衍射(XRD)分析表明,随着能量密度的增加,Mo薄膜衍射峰宽变窄,薄膜从非晶态逐步变为多晶态,晶粒尺寸逐步变大。 展开更多
关键词 脉冲激光能量密度 薄膜生长机制 原子力显微镜 脉冲激光沉积 均方根粗糙度 制备金属 射线衍射 图像显示 粒子能量 晶粒尺寸 结晶性能 薄膜表面 分析表 非晶态 多晶态 平整 基片 光滑 关系 峰宽
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低温等离子辅助蒸发纳米铝膜微结构及光学特性研究
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作者 陈兴来 陈俊芳 +3 位作者 刘振兴 李烨 马俊辉 李东珂 《光散射学报》 北大核心 2014年第4期420-426,共7页
采用低温等离子体辅助气相沉积技术在低压常温条件下制备稳定的纳米铝膜。利用发射光谱和Langmuir双探针法分析射频感应耦合Ar等离子体成分及分布密度特性,结果显示在衬底附近等离子体密度衰减趋于平缓且均匀,浮动电位0.329V;随着功率... 采用低温等离子体辅助气相沉积技术在低压常温条件下制备稳定的纳米铝膜。利用发射光谱和Langmuir双探针法分析射频感应耦合Ar等离子体成分及分布密度特性,结果显示在衬底附近等离子体密度衰减趋于平缓且均匀,浮动电位0.329V;随着功率的增加,Ar+对成膜起主要影响。再结合铝膜的原子力显微结构,研究了不同的等离子环境条件对成膜质量及其紫外可见光谱的光学性质影响。结果表明射频离子源的加入,薄膜微结构发生较明显变化;随功率增加,膜反射率出现峰值;微结构特性对其光学性能影响较大,随着表面粗糙度的增加,紫外及可见光的透射率先减小后增大。 展开更多
关键词 金属薄膜 表面粗糙度 朗缪尔双探针 发射光谱 紫外可见
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