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题名Mg/PTFE薄膜制备与性能表征
被引量:4
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作者
刘桂林
李国新
王广海
劳允亮
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机构
北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室
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出处
《含能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期205-208,共4页
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文摘
以镁(Mg)为可燃物质,聚四氟乙烯(PTFE)为氧化剂,利用磁控溅射和真空蒸镀两种方法,制备薄膜烟火器件,研究两种制膜工艺在性能上的差异,并对其附着力、薄膜粒度和燃速进行了测量。结果表明,磁控溅射制得的薄膜附着力为35.88mN,粒度为0.1~0.5μm,燃速为(623.9±12.5)mm.s-1,其主要性能优于真空蒸镀法制得的薄膜。
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关键词
武器系统与运用工程
mg/ptfe薄膜
火工品
真空蒸镀
磁控溅射
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Keywords
weapon system and application engineering
mg/ptfe thin film
pyrotechnics
evaporated deposition
magnetron sputtering
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分类号
TB383.2
[一般工业技术—材料科学与工程]
TJ450.4
[兵器科学与技术—火炮、自动武器与弹药工程]
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