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用于等电子谱线法诊断电子温度的Mg/Si混合膜制备工艺研究 被引量:4
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作者 许华 吴卫东 +3 位作者 陈志梅 唐晓虹 黄勇 唐永建 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2002年第4期371-373,共3页
进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究 ,制备出了不同组分的Mg/Si混合膜 ,并利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM )、透射电镜 (TEM )等测试手段 ,对混合膜的结构进行了初步分析。分析结果表明 :Mg... 进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究 ,制备出了不同组分的Mg/Si混合膜 ,并利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM )、透射电镜 (TEM )等测试手段 ,对混合膜的结构进行了初步分析。分析结果表明 :Mg/Si混合膜中的镁以单取向多晶形式存在 。 展开更多
关键词 等电子谱线法 诊断 mg/si混合膜 制备工艺 电子温度 磁控溅射 复合靶 镁硅混合 惯性约束聚变 等离子体
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