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用于等电子谱线法诊断电子温度的Mg/Si混合膜制备工艺研究
被引量:
4
1
作者
许华
吴卫东
+3 位作者
陈志梅
唐晓虹
黄勇
唐永建
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第4期371-373,共3页
进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究 ,制备出了不同组分的Mg/Si混合膜 ,并利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM )、透射电镜 (TEM )等测试手段 ,对混合膜的结构进行了初步分析。分析结果表明 :Mg...
进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究 ,制备出了不同组分的Mg/Si混合膜 ,并利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM )、透射电镜 (TEM )等测试手段 ,对混合膜的结构进行了初步分析。分析结果表明 :Mg/Si混合膜中的镁以单取向多晶形式存在 。
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关键词
等电子谱线法
诊断
mg/si混合膜
制备工艺
电子温度
磁控溅射
复合靶
镁硅
混合
膜
惯性约束聚变
等离子体
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职称材料
题名
用于等电子谱线法诊断电子温度的Mg/Si混合膜制备工艺研究
被引量:
4
1
作者
许华
吴卫东
陈志梅
唐晓虹
黄勇
唐永建
机构
中国工程物理研究院高温高密度等离子体物理国家重点实验室
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第4期371-373,共3页
文摘
进行了在单靶头磁控溅射装置上采用复合靶溅射制备Mg/Si混合膜的工艺研究 ,制备出了不同组分的Mg/Si混合膜 ,并利用X射线衍射 (XRD)、原子力显微镜 (AFM )、透射电镜 (TEM )等测试手段 ,对混合膜的结构进行了初步分析。分析结果表明 :Mg/Si混合膜中的镁以单取向多晶形式存在 。
关键词
等电子谱线法
诊断
mg/si混合膜
制备工艺
电子温度
磁控溅射
复合靶
镁硅
混合
膜
惯性约束聚变
等离子体
Keywords
electron temperature
magnetron sputtering
compound cathode target
mg/
si
alloy films
分类号
TL65 [核科学技术—核技术及应用]
TL632 [核科学技术—核技术及应用]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于等电子谱线法诊断电子温度的Mg/Si混合膜制备工艺研究
许华
吴卫东
陈志梅
唐晓虹
黄勇
唐永建
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002
4
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