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用固相外延方法制备Si_(1-x-y)Ge_xC_y三元材料 被引量:3
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作者 于卓 李代宗 +5 位作者 成步文 黄昌俊 雷震霖 余金中 王启明 梁骏吾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第9期862-866,共5页
分析了 Si1- x- y Gex Cy 三元系材料外延生长的特点 ,指出原子性质上的巨大差异使 Si1- x- yGex Cy 材料的制备比较困难 .固相外延生长是制备 Si1- x- y Gex Cy 的有效方法 ,但必须对制备过程各环节的条件进行优化选择 .通过实验系统... 分析了 Si1- x- y Gex Cy 三元系材料外延生长的特点 ,指出原子性质上的巨大差异使 Si1- x- yGex Cy 材料的制备比较困难 .固相外延生长是制备 Si1- x- y Gex Cy 的有效方法 ,但必须对制备过程各环节的条件进行优化选择 .通过实验系统地研究了离子注入过程中温度条件的控制对外延层质量的影响以及外延退火条件的选择与外延层结晶质量的关系 .指出在液氮温度下进行离子注入能够提高晶体质量 ,而注入过程中靶温过高会导致动态退火效应 ,影响以后的再结晶过程 .采用两步退火方法有利于消除注入引入的点缺陷 ,而二次外延退火存在着一个最佳退火温区 .在此基础上优化得出了固相外延方法制备 Si1- x- y Gex Cy/Si材料的最佳条件 . 展开更多
关键词 Si1-x-yGexCy材料 固相外延 三元系 半导体材料
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应变层Si_(1-x-y)Ge_xC_y合金研究 被引量:3
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作者 于卓 余金中 +2 位作者 成步文 王启明 梁骏吾 《半导体杂志》 1997年第2期25-33,共9页
本文综述了Si1-x-yGexCy合金的研究进展,包括合金的应变补偿效应、微观结构。
关键词 合金 应变补偿 能带结构 碳化硅 半导体材料
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Si基Si_(1-x-y)Ge_xC_y合金生长中C的影响
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作者 刘夏冰 臧岚 +4 位作者 朱顺明 程雪梅 韩平 罗志云 郑有炓 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2001年第12期84-86,共3页
报道了Si基Si1 x yGexCy 合金生长中C对Ge组分和生长速率的抑制作用 ,提出一个Si、Ge、C原子的排列构型 ,从理论上给出了C对Ge组分的抑制度和Ge/C原子比的关系 ,并指出在富Ge情况下C对Ge的抑制作用会趋向于饱和。
关键词 集成电路 生长速率 光电功能材料 SI1-x-yGExCy 硅基 原子排列 抑制作用 硅锗碳三元化合物 分子束外延生长
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Si_(1-x-y)Ge_xC_y材料的外延生长方法
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作者 于卓 成步文 +3 位作者 李代宗 余金中 王启明 梁骏吾 《半导体杂志》 2000年第1期1-5,22,共6页
本文分析了Si1 -x- yGexCy 半导体材料外延生长的困难所在 ,总结了用于生长Si1 -x- yGexCy材料的各种生长方法 ,并分析比较了各自的特点。
关键词 外延生长 半导体材料
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Si_(1-x-y)Ge_xC_y合金半导体技术及其应用
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作者 祁慧 高勇 安涛 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期127-131,共5页
 随着半导体材料及工艺水平的迅速发展,Si1-x-yGexCy合金材料在近年内受到了广泛重视。C组分的引入所带来的应变补偿作用,很好地解决了Si1-xGex合金中的晶格失配问题,使Si衬底上生长的外延层质量和厚度都得到相应提高,并且由于C组分所...  随着半导体材料及工艺水平的迅速发展,Si1-x-yGexCy合金材料在近年内受到了广泛重视。C组分的引入所带来的应变补偿作用,很好地解决了Si1-xGex合金中的晶格失配问题,使Si衬底上生长的外延层质量和厚度都得到相应提高,并且由于C组分所带来的能带补偿作用,使材料的光电特性也得到改进。文章综述了Si1-x-yGexCy合金的研究进展及其物理特性,并对其在FET、HBT、光电子器件等方面的应用进行了详细的阐述。 展开更多
关键词 Si1-x-yGexCy合金半导体技术 硅锗碳三元化合物 半导体材料 应变补偿 场效应晶体管 异质结晶体管 光电子器件
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Ti—Al—Y三元系相图1000℃部分等温截面重新确定
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作者 杨志尚 任立斌 +2 位作者 章复中 周荣章 余宗森 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第6期512-516,共5页
利用扩散偶局部平衡原理,通过金相观察和电子探针微区成分分析,重新测定了1000℃下Ti—Al—Y三元系部分等温截面相图。首次发现该系在1000℃存在两个三元化合物均相区y(Al_xTi_(1-x))_2(X=80%~1... 利用扩散偶局部平衡原理,通过金相观察和电子探针微区成分分析,重新测定了1000℃下Ti—Al—Y三元系部分等温截面相图。首次发现该系在1000℃存在两个三元化合物均相区y(Al_xTi_(1-x))_2(X=80%~100%)和Y_3(Al_xTi_(1-x))_2(x=80%~100%).改变了以前发表的关于Ti—Al—Y三元相图1000℃等温截面的研究结果。此外在所测部分等温截面相图中存在6个单相区、9个两相平衡区、4个三相平衡区。1000℃下Y在TiAl和TiAl_2相中存在1个固溶区,其最大固溶度分别为(原子)1.25%和4.20%;Y在Ti_3Al和TiAl_3相中固溶度很小,均小于(原子)0.1%。 展开更多
关键词 相图 钛合金 部分等温截面
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Effect of Yttrium on Microstructure and Creep Resistance of Mg-9Al-1Si Alloy
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作者 Huang Xiaofeng Mao Zuli +3 位作者 Yan Fengyun Li Yuandong Ma Ying Hao Yuan 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第4期391-391,共1页
High temperature creep resistance and the correlation between the microstructure and mechanical properties of Mg-9Al-1Si-xY were studied. The study shows that the main strengthening phase Mg2Si presents as coarse Chin... High temperature creep resistance and the correlation between the microstructure and mechanical properties of Mg-9Al-1Si-xY were studied. The study shows that the main strengthening phase Mg2Si presents as coarse Chinese script distributed around the grain boundary after the addition of 1% Si to MggAl alloys. Under stress, the microcrack prefers to occur in the interface between the Mg2Si phase and the matrix. The addition of a small amount of Y into Mg-9Al-1Si alloys results phology of the in refinement of microstructure. MorMg2Si phases change from coarse Chinese script shape to fine polygonal shape. Owing to the improvement of microstructure, the mechanical properties of Mg-9Al-1Si alloys at both ambient and elevated temperatures are increased. The high temperature creep resistant properties of Mg-9Al-1Si-xY rises with the increase of Y content. 展开更多
关键词 mg-gal-1si- x y alloys CREEP MICROSTRUCTURE mechanical properties rare earths
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Long-wave infrared emission properties of strain-balanced InAs/In_(x)Ga_(1-x)As_(y)Sb_(1-y)type-Ⅱsuperlattice on different substrates
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作者 Chao Shi Xuan Fang +6 位作者 Hong-Bin Zhao Deng-Kui Wang Xi Chen Dan Fang Dong-Bo Wang Xiao-Hua Wang Jin-Hua Li 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第7期3194-3204,共11页
High-performance type-Ⅱsuperlattices ofⅢ-Ⅴsemiconductor materials play an important role in the development and application of infrared optoelectronic devices.Improving the quality of epitaxial materials and clarif... High-performance type-Ⅱsuperlattices ofⅢ-Ⅴsemiconductor materials play an important role in the development and application of infrared optoelectronic devices.Improving the quality of epitaxial materials and clarifying the luminescent mechanism are of great significance for practic al applic ations.In this work,strain-balanced and high-quality In As/In_(x)Ga_(1-x)As_(y)Sb_(1-y)superlattices without lattice mismatch were achieved on InAs and GaSb substrates successfully.Superlattices grown on In As substrate could exhibit higher crystal quality and surface flatness based on high-resolution X-ray diffraction(HRXRD)and atomic force microscopy(AFM)measurements'results.Moreover,the strain distribution phenomenon from geometric phase analysis indicates that fluctuations of alloy compositions in superlattices on GaSb substrate are more obvious.In addition,the optical properties of superlattices grown on different substrates are discussed systematically.Because of the difference in fluctuations of element composition and interface roughness of superlattices on different substrates,the superlattices grown on In As substrate would have higher integral intensity and narrower full-width at half maximum of long-wave infrared emission.Finally,the thermal quenching of emission intensity indicates that the superlattices grown on the In As substrate have better recombination ability,which is beneficial for increasing the operating temperature of infrared optoelectronic devices based on this type of superlattices. 展开更多
关键词 Photoluminescence Alloy compositions fluctuations InAs(Sb)/In_(x)Ga_(1-x)As_(y)Sb_(1-y) Type-Ⅱsuperlattice Substrate
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冷拉减面率对C形环用Inconel X-750丝材组织性能的影响
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作者 何钦生 邹兴政 +3 位作者 李方 李征 唐锐 赵安中 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第22期100-106,共7页
文章通过冷拉拔加工制备减面率为0%、30%、60%的Inconel X-750丝材,分别在650℃、730℃、810℃下时效处理16h,研究冷拉减面率对X-750合金组织性能的影响,特别是减面率对γ′相形状、分布、数量及尺寸的影响。经定量分析,增大冷拉减面率... 文章通过冷拉拔加工制备减面率为0%、30%、60%的Inconel X-750丝材,分别在650℃、730℃、810℃下时效处理16h,研究冷拉减面率对X-750合金组织性能的影响,特别是减面率对γ′相形状、分布、数量及尺寸的影响。经定量分析,增大冷拉减面率除了有细化晶粒的作用外,还能一定程度地增加γ′相析出的颗粒数量及体积分数,减小γ′相尺寸,进一步加强沉淀强化的作用。时效温度对X-750丝材的晶粒尺寸没有明显影响,对γ′相的数量、尺寸及形状影响较大。采用730℃时效处理16h的标准工艺制备的X-750丝材,经加工为弹簧后制造成金属C形密封环,其回弹量及泄漏率均满足要求,实验条件下密封性能良好。 展开更多
关键词 高温合金 INCONEL x-750 冷拉拔减面率 C形密封环 γ′析出相
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Magnetoelectric and converse magnetoelectric responses in Tb_xDy_(1-x)Fe_(2-y) alloy & Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))_(1-x)Ti_xO_3 crystal laminated composites 被引量:3
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作者 JIA YanMin LUO HaoSu +2 位作者 OR Siu Wing WANG YaoJin CHAN Helen L W 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2008年第14期2129-2134,共6页
Measured results of magnetoelectric (ME) and converse magnetoelectric (CME) effects of TbxDy1-xFe2-y/ Pb(Mg1/3Nb2/3)(1-x)TixO3/TbxDy1-xFe2-y (TD/PMNT/TD) and PMNT/TD/PMNT laminated composites are pre- sented. ME effec... Measured results of magnetoelectric (ME) and converse magnetoelectric (CME) effects of TbxDy1-xFe2-y/ Pb(Mg1/3Nb2/3)(1-x)TixO3/TbxDy1-xFe2-y (TD/PMNT/TD) and PMNT/TD/PMNT laminated composites are pre- sented. ME effect was determined by measuring laminate voltage output under a Helmholtz-gener- ated AC field biased by a DC field (0―1 kOe) (1 Oe = 79.58 A/m). The CME effect was measured by re- cording the voltage induced in a solenoid encompassing the ME sample while exposed to a DC bias field and PMNT layer driven by a 10 V AC source. The ME and CME responses in the two laminated structure are linear. The highest values of ME coefficients in TD/PMNT/TD and PMNT/TD/PMNT com- posites are 384 mV/Oe and 158 mV/Oe, respectively, while the highest values of CME coefficients in the two composites are 118 mG/V and 162 mG/V (1 G=10-4 T), respectively. 展开更多
关键词 磁电效应 压电性 复合材料 合金 晶体结构
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