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Resistive Switching Behavior of Ag/Mg0.2Zn0.8O/ZnMn2O4/p^+-Si Heterostructure Devices for Nonvolatile Memory Applications 被引量:1
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作者 韦长成 王华 +3 位作者 XU Jiwen ZHANG Yupei ZHANG Xiaowen YANG Ling 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2017年第1期29-32,共4页
The Ag/Mg0.2Zn0.8O/ZnMn2O4/p^+-Si heterostructure devices were fabricated by sol-gel spin coating technique and the resistive switching behavior,conduction mechanism,endurance characteristic,and retention properties ... The Ag/Mg0.2Zn0.8O/ZnMn2O4/p^+-Si heterostructure devices were fabricated by sol-gel spin coating technique and the resistive switching behavior,conduction mechanism,endurance characteristic,and retention properties were investigated.A distinct bipolar resistive switching behavior of the devices was observed at room temperature.The resistance ratio R_(HRS)/RLRS of high resistance state and low resistance state is as large as four orders of magnitude with a readout voltage of 2.0 V.The dominant conduction mechanism of the device is trap-controlled space charge limited current(SCLC).The devices exhibit good durability under 1×10^3cycles and the degradation is invisible for more than 10^6 s. 展开更多
关键词 HETEROSTRUCTURE Ag/Mg0.2zn0.8o/ZnMn2O4/p^+-Si DEVICES resistive switching properties
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溅射压强和退火气氛对Mg_(0.2)Zn_(0.8)O∶Al紫外透明导电薄膜结构与性能的影响 被引量:1
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作者 王华 燕红 +2 位作者 许积文 江民红 杨玲 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1526-1530,共5页
以自制Mg0.2Zn0.8O∶Al陶瓷为靶材,采用室温溅射后续退火磁控溅射工艺制备了Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜。研究了溅射压强和退火气氛对Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜结构和光电性能的影响。结果表明:溅射氩气压强不影响薄膜的相结构,但对薄... 以自制Mg0.2Zn0.8O∶Al陶瓷为靶材,采用室温溅射后续退火磁控溅射工艺制备了Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜。研究了溅射压强和退火气氛对Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜结构和光电性能的影响。结果表明:溅射氩气压强不影响薄膜的相结构,但对薄膜的取向生长和结晶质量有一定影响;薄膜的方块电阻随溅射压强的增加先大幅减小后有所增大,溅射气压为2.0 Pa时,薄膜的方块电阻最低;不同溅射气压下制备薄膜的透光范围均已扩展到了紫外区域,而且具有85%以上的高透射率,但溅射气压对薄膜的带隙宽度和透光率没有明显影响;室温下溅射制备的薄膜经真空退火处理后其导电性能显著提高,但在空气中退火处理后其导电性能反而有所下降。 展开更多
关键词 Mg0.2zn0.8o∶Al 紫外透明导电薄膜 磁控溅射 溅射压强 退火气氛 光电性能
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溶胶-凝胶法制备Mg_(0.2)Zn_(0.8)O阻变薄膜的研究
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作者 高书明 王华 +2 位作者 许积文 单旭 赵霞妍 《电工材料》 CAS 2012年第3期25-27,37,共4页
采用溶胶-凝胶工艺在氧化铟锡(ITO)玻璃衬底上制备Mg0.2Zn0.8O阻变薄膜,研究了退火温度和薄膜层数对Mg0.2Zn0.8O薄膜生长行为、漏电流性能的影响。研究发现,Mg0.2Zn0.8O薄膜是多晶态结晶结构,薄膜的(100)、(002)和(101)晶面所对应衍射... 采用溶胶-凝胶工艺在氧化铟锡(ITO)玻璃衬底上制备Mg0.2Zn0.8O阻变薄膜,研究了退火温度和薄膜层数对Mg0.2Zn0.8O薄膜生长行为、漏电流性能的影响。研究发现,Mg0.2Zn0.8O薄膜是多晶态结晶结构,薄膜的(100)、(002)和(101)晶面所对应衍射峰的强度随镀制薄膜层数的增多和退火温度的升高明显增强。结果表明,随退火温度的升高,高阻态(HRS)和低阻态(LRS)的漏电流减小;然而,HRS时薄膜的漏电流却随Mg0.2Zn0.8O薄膜层数的增多而变大。退火温度和薄膜厚度改变Mg0.2Zn0.8O阻变薄膜中氧空穴和缺陷的数量,进而影响Mg0.2Zn0.8O薄膜的漏电流。 展开更多
关键词 mg02.zn0.8o 溶胶-凝胶工艺 漏电流
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LMBE法生长Mg_(0.2)Zn_(0.8)O及MSM型紫外探测器的制备
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作者 毕臻 张景文 +3 位作者 边旭明 王东 张新安 侯洵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1242-1247,共6页
采用激光分子束外延(LMBE)方法在蓝宝石(0001)面生长了高质量的Mg0.2Zn0.8O薄膜,并对薄膜在空气中900℃进行了1h的退火处理,然后采用剥离方法在薄膜表面制作了Al叉指电极,制备出MSM型Mg0.2Zn0.8O光电导紫外探测器.对响应时间的测试表明... 采用激光分子束外延(LMBE)方法在蓝宝石(0001)面生长了高质量的Mg0.2Zn0.8O薄膜,并对薄膜在空气中900℃进行了1h的退火处理,然后采用剥离方法在薄膜表面制作了Al叉指电极,制备出MSM型Mg0.2Zn0.8O光电导紫外探测器.对响应时间的测试表明,探测器的上升时间仅为14.3ns,下降时间为6.5μs. 展开更多
关键词 Mg0.2zn0.8o薄膜 紫外探测器 响应时间
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溶胶浓度对Ag/Mg_(0.2)Zn_(0.8)O/ITO阻变异质结性能的影响研究 被引量:2
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作者 高书明 王华 +3 位作者 许积文 张小文 袁昌来 杨玲 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期653-658,670,共7页
采用溶胶-凝胶工艺制备了Ag/Mg0.2Zn0.8O/ITO异质结,研究了溶胶浓度对Mg0.2Zn0.8O薄膜生长行为、阻变性能和疲劳特性等的影响。研究表明:Mg0.2Zn0.8O为多晶薄膜,平整致密,且随溶胶浓度的增加结晶度逐步增强,但溶胶浓度过大会导致裂纹产... 采用溶胶-凝胶工艺制备了Ag/Mg0.2Zn0.8O/ITO异质结,研究了溶胶浓度对Mg0.2Zn0.8O薄膜生长行为、阻变性能和疲劳特性等的影响。研究表明:Mg0.2Zn0.8O为多晶薄膜,平整致密,且随溶胶浓度的增加结晶度逐步增强,但溶胶浓度过大会导致裂纹产生。阻变行为表明,随着溶胶浓度的增加,Vset电压逐渐升高,高阻态的阻值(RHRS)逐渐下降,低阻态的阻值(RLRS)无明显变化,RHRS/RLRS和无疲劳循环次数逐渐降低。不同溶胶浓度所制备Ag/Mg0.2Zn0.8O/ITO异质结遵循相同的导电机制,但低压区域遵循欧姆传导机制的范围有所不同,浓度为0.3 mol/L的薄膜具有较好的综合性能,其Vset低至1.2 V、无疲劳循环次数达到230次、RHRS/RLRS大于10。 展开更多
关键词 Mg0.2zn0.8o 阻变异质结 溶胶浓度 溶胶-凝胶工艺
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