微通道板非晶态Al_2O_3电子透射膜

文中介绍了ＭＣＰ非晶态Ａｌ２Ｏ３电子透射膜在成像器件中的作用，阐述了膜层的选择、形成条件与方法，给出了膜层形成及其与辉光气体放电的关系，测量了膜层及带膜ＭＣＰ的某些特性，并进行了初步分析和讨论．

无碳污染微通道板电子透射膜

提出利用静电贴膜技术制备无碳污染MCP电子透射膜工艺方案 ,探讨了贴膜与辉光气体放电的关系 ,制备了 4nm厚MCP电子透射膜 .实验测得该电子透射膜的成分只有铝和氧元素 ,MCP带膜前、后的体电阻和暗电流没有变化 ,MCP带膜后电子增益略有增加 .

SiO_2防离子反馈膜的制备及其性能

防离子反馈膜是一种覆盖在微通道板输入端的Al2O3或SiO2连续超薄膜,该膜对延长微光像管的使用寿命具有重要的作用。首先采用射频磁控溅射方法在0.5～1μm的有机载膜上制备Si薄膜,然后在4～6Pa氧气下放电使其贴敷到微通道板上,同时使Si膜氧化和有机载膜分解,最后在微通道板输入面上形成满足设计要求的SiO2防离子反馈膜。该制膜方法工艺稳定,重复性好,成品率超过90%。给出了有、无薄膜时微通道板的电子透过特性曲线和膜层厚度与死电压间关系曲线。对相同厚度为5nm的SiO2和Al2O3防离子反馈膜的电子透过特性进行了分析和比较,得出了SiO2比Al2O3薄膜对电子透过稍好,相应的死电压分别为220V和255V的结论。结合对膜层电子透过和离子阻止特性的综合分析可以看出,SiO2也是制作微通道板防离子反馈膜较为理想的材料之一。为了定量表征微通道板防离子反馈膜的离子阻止能力,最后指出了防离子反馈膜离子透过率的测量是今后该项研究工作的当务之急。

微通道板离子壁垒膜及其电子透过特性的研究

文中介绍了微光像管中微通道板离子壁垒膜及其形成技术 ,研究了电子透过特性。给出了半视场对比测试结果、死电压概念、死电压曲线、死电压与膜厚关系曲线 ;最后给出了采用XPS进行成分分析的结果。

微通道板电子透射膜运转的有效性

介绍微通道板电子透射膜在三代微光像增强器中的作用，推导电子透射膜死电压的理论表达式，测量电子透射膜的电子透过特性，并进行初步分析和讨论。

微通道板电子透射膜的工作特性

利用静电贴膜技术在MCP输入面制备了 4nm厚Al2 O3非晶态电子透射膜 ,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染 .探讨了贴膜与气体辉光放电的关系 ,测量了MCP电子透射膜的电子透过特性和离子阻挡特性 .实验表明 ,4nm厚Al2 O3非晶态电子透射膜能有效地透过电子 。

微通道板防离子反馈膜新工艺

微通道板防离子反馈膜在三代象管中起到延长寿命的作用．本文叙述了微通道板防离子反馈膜的传统工艺和传统工艺对微通道板电性能的影响，提出了一种制备微通道板防离子反馈膜的新工艺．结果表明，新工艺没有给微通道板通道内表面带来碳污染，不影响微通道板电性能．

微通道板电子透射膜工艺的AES研究

用冷基底溅射方法和静电贴膜方法分别在微通道板表面制备了电子透射膜 ,采用俄歇电子能谱 (AES)研究了两种工艺制备的微通道板电子透射膜的薄膜成分 ,微通道板电子透射膜工艺失败微通道板通道表面的成分和通道内壁的成分随深度的变化 .结果表明 ,冷基底溅射方法制膜工艺的失败对MCP造成了严重的碳污染 ,污染的MCP不可回收 ;静电贴膜方法制膜工艺的失败对MCP通道表面没有明显影响 ,MCP可回收利用 .

带膜微通道板的工艺和特性研究

微通道板 (MCP)电子透射膜是决定Ⅲ代微光像管稳定性和可靠性的主要因素。采用有机衬底掩膜技术和冷基底溅射相结合的方法在MCP输入面制备非晶态Al2 O3 电子透射膜 ,测量了带膜MCP紫外光辐照清洗前后的电学特性。讨论在多孔MCP输入面形成连续电子透射膜与气体辉光放电的关系 ,工艺失败对MCP的危害性。

电子透射膜的生成及其对微通道板性能的影响

研究采用有机衬底掩膜技术和冷基底直流溅射在多孔微通道板输入面制备非晶态Al2O3电子透射膜的可行性,讨论在微通道板输入面形成连续电子透射膜与气体辉光放电的关系,测量带膜微通道板的电特性。结果表明,微通道板带膜后电子增益下降、体电阻增加、暗电流降低。

无碳污染微通道板电子透射膜的工作特性

利用静电贴膜技术在MCP输入面制备了4nm厚Al2O3非晶态电子透射膜,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染。探讨了贴膜与气体辉光放电的关系,测量了MCP电子透射膜的电子透过特性和离子阻挡特性。实验表明,4nm厚Al2O3非晶态电子透射膜能有效地透过电子,阻止反馈离子。

MCP电子透射膜的制备及半视场特性

介绍了微通道板(MCP)电子透射膜在成像器件中的功能,分析了冷基底溅射制膜技术和有机膜涂覆及焙烧的方法制备MCP电子透射膜的工艺缺陷,提出了一种新的MCP输入面电子透射膜的制作方法。在一块MCP输入面的半圆上制作了4nm厚电子透射膜,研究了相同条件下MCP带膜半圆和不带膜半圆的光学反射表面显微形貌、输出电流密度特性和半视场亮度特性。

一种新型的高性能微通道板离子阻挡膜

微通道板 (MCP)离子阻挡膜在Ⅲ代微光像管中起到延长寿命的关键作用 .分析了目前离子阻挡膜制备方法的优缺点 ,提出一种在MCP输入面制备离子阻挡膜的新型工艺 ,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染 .在MCP输入面制备了 4nm厚Al2 O3 离子阻挡膜 ,测量了MCP离子阻挡膜的离子阻挡特性和电子透过特性 .实验表明 ,4nm厚Al2 O3 离子阻挡膜能有效地阻止反馈离子 ,透过电子 .