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一种硅基静电微马达
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作者 谢会开 孙曦庆 +1 位作者 刘理天 李志坚 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 1996年第3期143-146,共4页
本文介绍我们最近研制的一种硅基集成微马达。其制作工艺非常简单,仅包括四次光刻、两次多晶硅膜淀积和两次SiO2牺牲层淀积。实现了快速、方便及批量地制作测量分析用的微马达样品。该微马达转子和定子由厚度为2.5μm左右的L... 本文介绍我们最近研制的一种硅基集成微马达。其制作工艺非常简单,仅包括四次光刻、两次多晶硅膜淀积和两次SiO2牺牲层淀积。实现了快速、方便及批量地制作测量分析用的微马达样品。该微马达转子和定子由厚度为2.5μm左右的LPCVD多晶硅膜一次形成,因而转子与定子的间距可减小到10~1.5μm。初步测量结果表明,微晃动马达的最低驱动电压为49V,最高转速估计可达600rpm。 展开更多
关键词 硅基 静电微马达 微电机
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