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微波ECR等离子体刻蚀系统 被引量:8
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作者 徐新艳 汪家友 +2 位作者 杨银堂 李跃进 吴振宇 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第5期385-388,共4页
研制成功了一台微波电子回旋共振等离子体刻蚀系统。该系统采用微波通过同轴开口电介质空腔产生表面波 ,由Nd Fe B永磁磁钢形成高强磁场 ,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生大面积、均匀、高密度等离子体。利用该系统实现了SiO2... 研制成功了一台微波电子回旋共振等离子体刻蚀系统。该系统采用微波通过同轴开口电介质空腔产生表面波 ,由Nd Fe B永磁磁钢形成高强磁场 ,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生大面积、均匀、高密度等离子体。利用该系统实现了SiO2 、SiN、SiC、Si等材料的微细图形刻蚀 ,刻蚀速度分别为 2 0 0nm/min ,5 0 0nm/min ,4 0 0nm/min ,70 0nm/min ,加工硅圆片Φ2 0 0mm ,线条宽度 <0 3μm ,选择性 (SiO2 、Si) >2 0 ,剖面控制 >83° ,均匀性 95 % ,等离子体密度 2 0× 10 11cm-3 。电离度大(>10 % ) ,工作气压低 (1Pa~ 10 -3 Pa) ,均匀性好 ,工艺设备简单 ,参数易于控制等优点。 展开更多
关键词 微波电子回旋共振等离子体 刻蚀 同轴腔体 集成电路 制造工艺
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微波ECR等离子体技术及其在材料加工中的应用 被引量:3
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作者 宁兆元 程珊华 《微细加工技术》 1995年第1期38-44,共7页
本文简要介绍了微波ECR等离子体技术的原理,评述了近年来这种技术在CVD、PVD、刻蚀等方面的研究和应用的进展。
关键词 刻蚀 ecr 等离子体 材料 加工 微波
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一种小型微波等离子炬装置 被引量:2
3
作者 温卓宾 曾葆青 +1 位作者 吴喆 彭志伟 《真空电子技术》 2015年第5期63-66,共4页
简要介绍了微波等离子体以及微波谐振炬点火器的应用研究情况。基于四分之一波长同轴谐振腔基本理论,采用电磁仿真软件HFSS设计出的一种微波等离子炬装置,在输入功率为5 W,腔体内电场可达到30kV/cm(标准气压下空气被击穿的电场强度),从... 简要介绍了微波等离子体以及微波谐振炬点火器的应用研究情况。基于四分之一波长同轴谐振腔基本理论,采用电磁仿真软件HFSS设计出的一种微波等离子炬装置,在输入功率为5 W,腔体内电场可达到30kV/cm(标准气压下空气被击穿的电场强度),从而产生微波等离子体。 展开更多
关键词 同轴谐振腔 微波谐振炬点火器 微波等离子体
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