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题名微波ECR等离子体刻蚀系统
被引量:8
- 1
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作者
徐新艳
汪家友
杨银堂
李跃进
吴振宇
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机构
西安电子科技大学微电子研究所
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出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
2002年第5期385-388,共4页
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文摘
研制成功了一台微波电子回旋共振等离子体刻蚀系统。该系统采用微波通过同轴开口电介质空腔产生表面波 ,由Nd Fe B永磁磁钢形成高强磁场 ,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生大面积、均匀、高密度等离子体。利用该系统实现了SiO2 、SiN、SiC、Si等材料的微细图形刻蚀 ,刻蚀速度分别为 2 0 0nm/min ,5 0 0nm/min ,4 0 0nm/min ,70 0nm/min ,加工硅圆片Φ2 0 0mm ,线条宽度 <0 3μm ,选择性 (SiO2 、Si) >2 0 ,剖面控制 >83° ,均匀性 95 % ,等离子体密度 2 0× 10 11cm-3 。电离度大(>10 % ) ,工作气压低 (1Pa~ 10 -3 Pa) ,均匀性好 ,工艺设备简单 ,参数易于控制等优点。
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关键词
微波电子回旋共振等离子体
刻蚀
同轴腔体
集成电路
制造工艺
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Keywords
microwave ecr plasma,etching coaxial cavity
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分类号
TN405.982
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名微波ECR等离子体技术及其在材料加工中的应用
被引量:3
- 2
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作者
宁兆元
程珊华
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机构
苏州大学江苏省薄膜材料实验室
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出处
《微细加工技术》
1995年第1期38-44,共7页
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文摘
本文简要介绍了微波ECR等离子体技术的原理,评述了近年来这种技术在CVD、PVD、刻蚀等方面的研究和应用的进展。
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关键词
刻蚀
ecr
等离子体
材料
加工
微波
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Keywords
microwave ecr plasma
technology system
thin film deposition
etching
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
TB3
[一般工业技术—材料科学与工程]
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题名一种小型微波等离子炬装置
被引量:2
- 3
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作者
温卓宾
曾葆青
吴喆
彭志伟
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机构
电子科技大学物理电子学院
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出处
《真空电子技术》
2015年第5期63-66,共4页
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文摘
简要介绍了微波等离子体以及微波谐振炬点火器的应用研究情况。基于四分之一波长同轴谐振腔基本理论,采用电磁仿真软件HFSS设计出的一种微波等离子炬装置,在输入功率为5 W,腔体内电场可达到30kV/cm(标准气压下空气被击穿的电场强度),从而产生微波等离子体。
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关键词
同轴谐振腔
微波谐振炬点火器
微波等离子体
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Keywords
coaxial cavity resonator,microwave resonant torch igniter,microwave plasma
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分类号
O53
[理学—等离子体物理]
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