XPS分析微波等离子体处理的PTFE/陶瓷复合介质材料表面成分

采用不同气氛等离子体处理ＰＴＦＥ／陶瓷复合介质材料，利用ＸＰＳ分析了处理样品表面成分的变化，发现等离子体处理导致表面Ｆ的含量降低和Ｏ的含量增加。高分子表面出现了不同成分的含氧基因，且随着时间的增加，微波功率的增大，一ＣＦ２基团减少，含氧基团增加，这表明不同气氛等离子体与 ＰＴ－ＦＥＣ表面的作用是刻蚀、脱氟、交联和氧化同时并存，其中以氧等离子体刻蚀最为严重。