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Oscillation of coercivity between positive and negative in Mn_xGe_(1-x):H ferromagnetic semiconductor films
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作者 秦羽丰 颜世申 +10 位作者 萧淑琴 李强 代正坤 沈婷婷 杨爱春 裴娟 康仕寿 代由勇 刘国磊 陈延学 梅良模 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第5期509-513,共5页
Amorphous MnxGe1-x:H ferromagnetic semiconductor films prepared in mixed Ar with 20% H2 by magnetron co- sputtering show global ferromagnetism with positive coercivity at low temperatures. With increasing temperature... Amorphous MnxGe1-x:H ferromagnetic semiconductor films prepared in mixed Ar with 20% H2 by magnetron co- sputtering show global ferromagnetism with positive coercivity at low temperatures. With increasing temperature, the coercivity of MnxGe1-x:H films first changes from positive to negative, and then back to positive again, which was not found in the corresponding MnxGe1-x and other ferromagnetic semiconductors before. For Mn0.4Ge0.6:H film, the inverted Hall loop is also observed at 30 K, which is consistent with the negative coercivity. The negative coercivity is explained by the antiferromagnetic exchange coupling between the H-rich ferromagnetic regions separated by the H-poor non-ferromagnetic spacers. Hydrogenation is a useful method to tune the magnetic properties of MnxGe1-x films for the application in spintronics. 展开更多
关键词 magnetic semiconductor HYDROGENATION mnxge1-x antiferromagnetic coupling
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稀磁掺杂Mn_xGe_(1-x)量子点的制备及应用
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作者 李广洋 杨杰 +3 位作者 邱锋 王荣飞 王茺 杨宇 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第13期2176-2182,2194,共8页
作为一种新兴的稀磁掺杂半导体材料,Mn_xGe_(1-x)量子点的自旋电子学性能在最近几年内取得了较为重大的突破。本文针对现有Mn_xGe_(1-x)量子点的稀磁掺杂制备方法及与制备方法相关联的磁电子学性能展开论述,并详细介绍了Mn_xGe_(1-x)量... 作为一种新兴的稀磁掺杂半导体材料,Mn_xGe_(1-x)量子点的自旋电子学性能在最近几年内取得了较为重大的突破。本文针对现有Mn_xGe_(1-x)量子点的稀磁掺杂制备方法及与制备方法相关联的磁电子学性能展开论述,并详细介绍了Mn_xGe_(1-x)量子点在生长过程中Mn原子与生长表面之间的相互作用、形貌转变以及迄今为止对基于这种纳米材料进行的自旋电子学应用的尝试。最后,展望了Mn_xGe_(1-x)量子点未来研究的重点和亟待解决的问题。 展开更多
关键词 mnxge1-x量子点 掺杂 铁磁性 居里温度
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Mn注入n型Ge单晶的磁性研究
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作者 刘力锋 陈诺夫 +2 位作者 尹志岗 杨霏 周剑平 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1219-1221,1224,共4页
利用离子注入方法,以离子能量为100keV,剂量为3×1016cm-2,室温下往n型Ge(111)单晶衬底注入Mn+离子,注入后的样品分别在400和600℃氮气氛下进行热处理.利用交变梯度样品磁强计室温下对样品进行了磁性测量,利用X射线衍射法分析了样... 利用离子注入方法,以离子能量为100keV,剂量为3×1016cm-2,室温下往n型Ge(111)单晶衬底注入Mn+离子,注入后的样品分别在400和600℃氮气氛下进行热处理.利用交变梯度样品磁强计室温下对样品进行了磁性测量,利用X射线衍射法分析了样品的结构特性,俄歇电子能谱法分析了热处理样品的组分特性.磁性测试结果表明热处理后的样品表现出室温下的铁磁性.结合样品的组分、结构特征进行磁性分析后认为样品在热处理后形成铁磁性半导体MnxGe1-x结构可能是样品表现室温铁磁性的主要原因. 展开更多
关键词 离子注入 铁磁性 mnxge1-x
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Mn_xGe_(1-x)稀磁半导体薄膜的结构研究 被引量:2
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作者 孙玉 孙治湖 +5 位作者 朱三元 史同飞 叶剑 潘志云 刘文汉 韦世强 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期5471-5475,共5页
利用X射线衍射(XRD)和X射线吸收精细结构(XAFS)方法研究了磁控共溅射方法制备的MnxGe1-x薄膜样品的结构随掺杂磁性原子Mn含量的变化规律.XRD结果表明,在Mn的含量较低(7.0%)的Mn0.07Ge0.93样品中,只能观察到对应于多晶Ge的XRD衍射峰,而... 利用X射线衍射(XRD)和X射线吸收精细结构(XAFS)方法研究了磁控共溅射方法制备的MnxGe1-x薄膜样品的结构随掺杂磁性原子Mn含量的变化规律.XRD结果表明,在Mn的含量较低(7.0%)的Mn0.07Ge0.93样品中,只能观察到对应于多晶Ge的XRD衍射峰,而对Mn含量较高(25.0%,36.0%)的Mn0.25Ge0.75和Mn0.36Ge0.64样品则明显出现Ge3Mn5相的衍射峰,且Ge3Mn5的比例随着Mn的含量升高而增加.XAFS结果表明,对于Mn0.07Ge0.93样品,Mn主要以替代位的形式存在,占75%左右的比例;在Mn0.25Ge0.75和Mn0.36Ge0.64的样品中,除了一小部分的Mn原子以替代位的形式存在之外,大部分Mn原子以Ge3Mn5化合物的形式存在. 展开更多
关键词 磁控溅射 XRD XAFS mnxge1-x稀磁半导体薄膜
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