微乳凝胶法制备MoO_3/SiO_2纳米复合氧化物及DSC-TG分析

由微乳凝胶法制备了一系列不同MoO3含量的MoO2／SiQ纳米复合氧化物，运用DSC-TG，TEM，XRD和FT-IR等技术对其进行了相应表征．结果表明：所制备复合氧化物适宜的焙烧温度为300℃；样品粒径分布在20-24nm；样品中MoO3在SiQ表面分散良好，其单层分散阈值在12-12．5％之间；表面Mo与Si原子以Mo-O-Si键联接．

MoO_3-TiO_2/SiO_2上光促表面催化甲烷和水合成甲醇和氢气

用分步等体积浸渍法制备了负载型复合半导体催化剂 Mo O3-Ti O2 / Si O2 ,通过 XRD,BET,TPR,IR,UVDRS和 TPD等手段对其进行了表征 ,结果表明 ,活性组分在载体表面高度分散 ,并具有量子尺寸效应 ,吸光阈值显著蓝移 ;Ti O2 在 Si O2 表面分散可增强 Mo O3与载体的相互作用 ,调变吸光性能 ,所形成的表面活性基元能够有效地吸附活化甲烷和水 .在 1 0 0℃下利用固定床环隙反应器借助紫外光的激发 ,通过“光 -表面 -热”协同作用 ,气相甲烷和水在 Mo O3-Ti O2 / Si O2 表面生成了甲醇和氢 ,选择性达到 85 .6% .

钾修饰的MoO_3/SiO_2催化剂的XRD和TPR表征

采用XRD和TPR测试技术表征了一系列不同K与Mo摩尔比的MoO3/K2O/SiO2催化剂。XRD表征结果显示,随着元素K的加入,多钼物种逐渐被破坏,最终形成了单钼的K2MoO4物种。TPR表征显示,催化剂表面的钼物种有2种结构,即八面体的Mo(Oh)和四面体的Mo(Td)。八面体Mo(Oh)的还原峰在770 K附近,而四面体Mo(Td)还原峰在1 000 K附近;无K的MoO3/SiO2催化剂的低温还原峰出现在840 K,少量元素K的添加削弱了Mo与SiO2之间的作用,使得低温还原峰温度降低到770 K附近;随着元素K添加量的进一步增加,Mo(Oh)物种逐渐减少而Mo(Td)物种逐渐增多,从而使得催化剂表面的Mo更难被还原。高硫合成气制甲硫醇的活性随着钼基催化剂八面体(Oh)钼物种的增加而增加。

钴对高硫合成气制甲硫醇负载型钼酸钾催化剂的促进作用

在不同载体的K2MoO4催化剂上高硫化氢合成气合成甲硫醇活性大小顺序为:SiO2>AC>CNTs>Al2O3;3种氧化物助剂对K2MoO4/SiO2催化剂的活性促进作用的大小顺序为:CoO>NiO2>Fe2O3;m(K2MoO4)∶m(CoO)∶m(SiO2)=5∶1∶20,催化剂生成甲硫醇得率为0.76g·h-1·g-1cat,比m(K2MoO4)∶m(SiO2)=1∶20催化剂高约1 5倍,两种催化剂的表观活化能分别为53.6kJ·mol-1和83.5kJ·mol-1.从ESR表征可观测到氧包围的"oxo Mo(V)"(g=1.93)和硫包围的"thio Mo(V)"(g=1.98)共振信号.在钼基催化剂中添加CoO后,"oxo Mo(V)"含量减少,而"thio Mo(V)"含量增加.钴的加入削弱了Mo O Si的相互作用,使Mo6+和"oxo Mo(V)"易被硫化还原为MoS2.