多弧离子法制备的Ti(C,N)微结构随C_2H_2/N_2流量比变化的研究(英文)

用多弧离子法在高速钢(W18Cr4V)基底上沉积了Ti(N,C)薄膜,并运用SEM、XRD、XPS对该膜微观结构随进气流量比r=C_2H_2/N_2变化的情况进行了测试和分析。结果表明薄膜随r增加趋于致密,在r值较小时呈现较强的(111)择优取向,随着r值增大,(111)这一取向逐渐变弱,(220)取向渐强,薄膜呈现典型面心立方结构,主要成分为复合相Ti(N,C),膜含有少量石墨相成分存在。

多弧离子法制备的Ti（C,N）微结构随C2H2/N2流量比变化的研究（英文）

用多弧离子法在高速钢（W18Cr4V）基底上沉积了Ti（N,C）薄膜,并运用SEM、XRD、XPS对该膜微观结构随进气流量比r=C2H2/N2变化的情况进行了测试和分析。结果表明薄膜随r增加趋于致密,在r值较小时呈现较强的（111）择优取向,随着r值增大,（111）这一取向逐渐变弱,（220）取向渐强,薄膜呈现典型面心立方结构,主要成分为复合相Ti（N,C）,膜含有少量石墨相成分存在。