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磁过滤阴极真空弧法制备纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜
1
作者
周奎
张旭
+2 位作者
覃礼钊
廖斌
吴先映
《北京师范大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期487-490,共4页
采用磁过滤阴极真空弧法,以C2H2和N2混合气体为反应气体在单晶硅上沉积纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜的能谱仪(SEM-EDS)和X射线电子能谱(XPS)研究了薄膜的成分和结构.实验结果表明薄膜结构是由ZrCN晶粒镶嵌在...
采用磁过滤阴极真空弧法,以C2H2和N2混合气体为反应气体在单晶硅上沉积纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜的能谱仪(SEM-EDS)和X射线电子能谱(XPS)研究了薄膜的成分和结构.实验结果表明薄膜结构是由ZrCN晶粒镶嵌在无定形碳和碳氮化合物基体中;膜中的化合键主要以Zr—C,C C(sp2)和C—C(sp3)形式存在;随着混合气体流量的增加,薄膜的锆原子分数减小,而N和C的原子分数逐渐增大.
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关键词
磁过滤阴极真空弧法(FCVA)
纳米
n
c
ZrC
n
/a—C:H(
n
)
复合
膜
气体流量
下载PDF
职称材料
Ti(C,N)复合膜和TiN/Ti(C,N)多层膜组织和显微硬度
被引量:
15
2
作者
汪蕾
董师润
+3 位作者
尤建飞
喻利花
李学梅
许俊华
《材料热处理学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期113-118,共6页
采用非平衡反应磁控溅射的方法在Si(100)基片上沉积Ti(C,N)复合膜和不同调制周期、调制比的TiN/Ti(C,N)纳米多层薄膜。薄膜的微观结构和力学性能采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计进行表征。结果表明,Ti(C,N)复合膜的微观结构和力学性...
采用非平衡反应磁控溅射的方法在Si(100)基片上沉积Ti(C,N)复合膜和不同调制周期、调制比的TiN/Ti(C,N)纳米多层薄膜。薄膜的微观结构和力学性能采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计进行表征。结果表明,Ti(C,N)复合膜的微观结构和力学性能与掺入C的含量有关;TiN/Ti(C,N)纳米多层膜的微观结构和力学性能与调制周期和调制比有关,其显微硬度在一定的调制周期和调制比范围内出现了超硬现象。Ti(C,N)、TiN/Ti(C,N)均为δ-NaCl面心立方结构;Ti(C,N)复合膜显微硬度提高是因为固溶强化,TiN/Ti(C,N)纳米多层膜硬度的提高主要是共格外延生长在界面处产生的交变应力场。
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关键词
Ti(C
n
)
复合
膜
Ti
n
/Ti(C
n
)纳米多层
膜
显微硬度
组织
超硬效应
原文传递
题名
磁过滤阴极真空弧法制备纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜
1
作者
周奎
张旭
覃礼钊
廖斌
吴先映
机构
北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室
北京师范大学核科学与技术学院
出处
《北京师范大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期487-490,共4页
文摘
采用磁过滤阴极真空弧法,以C2H2和N2混合气体为反应气体在单晶硅上沉积纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜,用X射线衍射(XRD)、扫描电镜的能谱仪(SEM-EDS)和X射线电子能谱(XPS)研究了薄膜的成分和结构.实验结果表明薄膜结构是由ZrCN晶粒镶嵌在无定形碳和碳氮化合物基体中;膜中的化合键主要以Zr—C,C C(sp2)和C—C(sp3)形式存在;随着混合气体流量的增加,薄膜的锆原子分数减小,而N和C的原子分数逐渐增大.
关键词
磁过滤阴极真空弧法(FCVA)
纳米
n
c
ZrC
n
/a—C:H(
n
)
复合
膜
气体流量
Keywords
FCVA
n
a
n
ocomposite
n
c-ZrC
n
/a-C. H(
n
) film
flow rate
分类号
O636.1 [理学—高分子化学]
TL628 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
Ti(C,N)复合膜和TiN/Ti(C,N)多层膜组织和显微硬度
被引量:
15
2
作者
汪蕾
董师润
尤建飞
喻利花
李学梅
许俊华
机构
江苏科技大学材料科学与工程学院
出处
《材料热处理学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第2期113-118,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(50574044)
文摘
采用非平衡反应磁控溅射的方法在Si(100)基片上沉积Ti(C,N)复合膜和不同调制周期、调制比的TiN/Ti(C,N)纳米多层薄膜。薄膜的微观结构和力学性能采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计进行表征。结果表明,Ti(C,N)复合膜的微观结构和力学性能与掺入C的含量有关;TiN/Ti(C,N)纳米多层膜的微观结构和力学性能与调制周期和调制比有关,其显微硬度在一定的调制周期和调制比范围内出现了超硬现象。Ti(C,N)、TiN/Ti(C,N)均为δ-NaCl面心立方结构;Ti(C,N)复合膜显微硬度提高是因为固溶强化,TiN/Ti(C,N)纳米多层膜硬度的提高主要是共格外延生长在界面处产生的交变应力场。
关键词
Ti(C
n
)
复合
膜
Ti
n
/Ti(C
n
)纳米多层
膜
显微硬度
组织
超硬效应
Keywords
Ti(C
n
)composite film
Ti
n
/Ti(C
n
)multilayer film
microhard
n
ess
microstructure
superhard
n
ess effect
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁过滤阴极真空弧法制备纳米nc-ZrCN/a-C:H(N)复合膜
周奎
张旭
覃礼钊
廖斌
吴先映
《北京师范大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
下载PDF
职称材料
2
Ti(C,N)复合膜和TiN/Ti(C,N)多层膜组织和显微硬度
汪蕾
董师润
尤建飞
喻利花
李学梅
许俊华
《材料热处理学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
15
原文传递
已选择
0
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引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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