N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性研究进展

N—Cl型卤胺抗菌剂具有高效、快速、稳定、安全、可再生的抗菌性能,由其开发的抗菌材料广泛应用于医疗卫生、纺织、水过滤等领域。然而,N—Cl型卤胺抗菌材料在应用过程中受紫外光作用会使材料上的N—Cl键或抗菌剂与材料基质的连接共价键断裂,导致活性氯的含量降低,进而引起其抗菌性能的下降。如何提高N—Cl型卤胺抗菌材料的紫外稳定性受到了国内外学者的重点关注。该文首先阐述了N—Cl型卤胺抗菌剂的种类和造成N—Cl型卤胺抗菌材料中活性氯含量降低的因素;然后,综述了通过改变卤胺前驱体结构,引入纳米TiO_(2)、ZnO、AgCl无机粒子和有机紫外吸收剂来提高N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性的研究进展;最后,讨论了该研究领域所面临的问题和挑战,并对未来发展进行了展望。